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rapport d'activités 2003-2008 - RQMP

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Structure du silicium amorphe<br />

— défauts, ordre local et relaxation<br />

Chercheurs : Laurent Lewis, Normand Mousseau, Sjoerd Roorda et François Schiettekatte<br />

Stagiaire postdoctoral : Ali Kerrache<br />

Étudiants : Houssem Kallel, Jean-François Joly, Gabriel Geadah-Antonius et Philippe St-Jean<br />

Contact : Normand Mousseau; normand.mousseau@umontreal.ca; www.phys.umontreal.ca/~mousseau<br />

Les matériaux désordonnés sont utilisés fréquemment dans l’industrie électronique. Par exemple, le<br />

silicium amorphe est utilisé comme transistor dans les écrans plats à cristaux liquides. Ce matériau est<br />

aussi considéré comme le représentant le plus simple d’une grande famille de matériaux désordonnés<br />

tels que la silice qu’on utilise dans les verres. Nous nous intéressons ici à comprendre, par des<br />

approches théoriques et expérimentales, ce que veut dire un matériau désordonné de bonne qualité.<br />

Il nous faut donc définir un bon et un moins bon désordre et comprendre ce que peut être un défaut<br />

dans un tel système.<br />

Le silicium est à la base de l’industrie de l’électronique. En<br />

général, on l’utilise sous une forme de cristal, où tous les<br />

atomes sont bien placés, en rang, à l’infini. Toutefois, il arrive<br />

que des erreurs de positionnement se produisent, introduisant<br />

des défauts dans le bel ordre cristallin. Ainsi, il peut arriver<br />

qu’un atome manque, laissant un trou, qu’on appelle lacune,<br />

dans le cristal. Il se peut aussi qu’un atome en trop soit forcé<br />

à se placer dans un espace libre dans le cristal, formant un<br />

interstitiel. Nous avons présentement une très bonne compréhension<br />

des défauts dans le silicium et, en général, dans les<br />

autres matériaux cristallins. Mais comment identifier un défaut<br />

dans un matériau désordonné ? La question se pose dans le<br />

cas du silicium amorphe, une autre phase du silicium, qui est<br />

utilisée dans les écrans plats à cristaux liquides par exemple.<br />

Dans ce matériau, les atomes ne sont plus alignés, mais s’ordonnent<br />

plutôt de manière aléatoire en ne respectant qu’une<br />

seule règle : chaque atome de silicium ne doit avoir que<br />

4 atomes voisins, tout comme dans le cristal.<br />

L’importance de ces travaux est à la fois fondamentale et<br />

appliquée. D’un point de vue fondamental, par exemple, il est<br />

intéressant de voir comment on peut définir un défaut, quelque<br />

chose qui sort de l’ordinaire, dans un matériau déjà désordonné.<br />

Du côté appliqué, une meilleure compréhension des<br />

structures atomiques responsables de certaines propriétés<br />

électroniques nuisibles permettrait de développer des mécanismes<br />

de compensation, améliorant d’autant l’utilité de ce<br />

matériau dans l’industrie électronique.<br />

En plus d’avoir une importance technologique certaine, le silicium<br />

amorphe représente un système modèle pour tous les<br />

matériaux désordonnés tels que les verres et les polymères. Afin<br />

de caractériser la structure du silicium amorphe et de définir ce<br />

que veut dire un défaut dans ce type de matériaux, l’équipe<br />

peut compter sur trois spécialistes mondiaux dans le domaine :<br />

deux théoriciens — Laurent Lewis et Normand Mousseau, et<br />

un expérimentateur — Sjoerd Roorda. Ayant accès aux ordinateurs<br />

massivement parallèles du Réseau québécois de calcul<br />

de haute performance, ainsi qu’aux accélérateurs de particules<br />

du Département de physique de l’Université de Montréal, les<br />

chercheurs sont dans une position privilégiée pour faire des<br />

progrès sur ce problème et, en particulier, identifier clairement<br />

la nature des défauts observés de manière indirecte par des<br />

mesures expérimentales de relaxation.<br />

Modèle de silicium amorphe. Chaque atome est dans un environnement similaire<br />

au cristal alors que le matériau est pourtant bien désordonné.<br />

Références<br />

• “Dependence of the structural relaxation of amorphous silicon on implantation<br />

temperature”, J.-F. Mercure, R. Karmouch, Y. Anahory,<br />

S. Roorda et F. Schiettekatte,<br />

Phys. Rev. B 71, 134205 (2005).<br />

• “Energy landscape around a minimum in a-Si”, F. Valiquette et N. Mousseau,<br />

Phys. Rev. B 68, 125209 (<strong>2003</strong>).<br />

• “Evolution of the potential-energy surface of amorphous silicon”,<br />

H. Kallel et N. Mousseau,<br />

in preparation.<br />

75 | <strong>RQMP</strong> | projets

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