rapport d'activités 2003-2008 - RQMP
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Structure du silicium amorphe<br />
— défauts, ordre local et relaxation<br />
Chercheurs : Laurent Lewis, Normand Mousseau, Sjoerd Roorda et François Schiettekatte<br />
Stagiaire postdoctoral : Ali Kerrache<br />
Étudiants : Houssem Kallel, Jean-François Joly, Gabriel Geadah-Antonius et Philippe St-Jean<br />
Contact : Normand Mousseau; normand.mousseau@umontreal.ca; www.phys.umontreal.ca/~mousseau<br />
Les matériaux désordonnés sont utilisés fréquemment dans l’industrie électronique. Par exemple, le<br />
silicium amorphe est utilisé comme transistor dans les écrans plats à cristaux liquides. Ce matériau est<br />
aussi considéré comme le représentant le plus simple d’une grande famille de matériaux désordonnés<br />
tels que la silice qu’on utilise dans les verres. Nous nous intéressons ici à comprendre, par des<br />
approches théoriques et expérimentales, ce que veut dire un matériau désordonné de bonne qualité.<br />
Il nous faut donc définir un bon et un moins bon désordre et comprendre ce que peut être un défaut<br />
dans un tel système.<br />
Le silicium est à la base de l’industrie de l’électronique. En<br />
général, on l’utilise sous une forme de cristal, où tous les<br />
atomes sont bien placés, en rang, à l’infini. Toutefois, il arrive<br />
que des erreurs de positionnement se produisent, introduisant<br />
des défauts dans le bel ordre cristallin. Ainsi, il peut arriver<br />
qu’un atome manque, laissant un trou, qu’on appelle lacune,<br />
dans le cristal. Il se peut aussi qu’un atome en trop soit forcé<br />
à se placer dans un espace libre dans le cristal, formant un<br />
interstitiel. Nous avons présentement une très bonne compréhension<br />
des défauts dans le silicium et, en général, dans les<br />
autres matériaux cristallins. Mais comment identifier un défaut<br />
dans un matériau désordonné ? La question se pose dans le<br />
cas du silicium amorphe, une autre phase du silicium, qui est<br />
utilisée dans les écrans plats à cristaux liquides par exemple.<br />
Dans ce matériau, les atomes ne sont plus alignés, mais s’ordonnent<br />
plutôt de manière aléatoire en ne respectant qu’une<br />
seule règle : chaque atome de silicium ne doit avoir que<br />
4 atomes voisins, tout comme dans le cristal.<br />
L’importance de ces travaux est à la fois fondamentale et<br />
appliquée. D’un point de vue fondamental, par exemple, il est<br />
intéressant de voir comment on peut définir un défaut, quelque<br />
chose qui sort de l’ordinaire, dans un matériau déjà désordonné.<br />
Du côté appliqué, une meilleure compréhension des<br />
structures atomiques responsables de certaines propriétés<br />
électroniques nuisibles permettrait de développer des mécanismes<br />
de compensation, améliorant d’autant l’utilité de ce<br />
matériau dans l’industrie électronique.<br />
En plus d’avoir une importance technologique certaine, le silicium<br />
amorphe représente un système modèle pour tous les<br />
matériaux désordonnés tels que les verres et les polymères. Afin<br />
de caractériser la structure du silicium amorphe et de définir ce<br />
que veut dire un défaut dans ce type de matériaux, l’équipe<br />
peut compter sur trois spécialistes mondiaux dans le domaine :<br />
deux théoriciens — Laurent Lewis et Normand Mousseau, et<br />
un expérimentateur — Sjoerd Roorda. Ayant accès aux ordinateurs<br />
massivement parallèles du Réseau québécois de calcul<br />
de haute performance, ainsi qu’aux accélérateurs de particules<br />
du Département de physique de l’Université de Montréal, les<br />
chercheurs sont dans une position privilégiée pour faire des<br />
progrès sur ce problème et, en particulier, identifier clairement<br />
la nature des défauts observés de manière indirecte par des<br />
mesures expérimentales de relaxation.<br />
Modèle de silicium amorphe. Chaque atome est dans un environnement similaire<br />
au cristal alors que le matériau est pourtant bien désordonné.<br />
Références<br />
• “Dependence of the structural relaxation of amorphous silicon on implantation<br />
temperature”, J.-F. Mercure, R. Karmouch, Y. Anahory,<br />
S. Roorda et F. Schiettekatte,<br />
Phys. Rev. B 71, 134205 (2005).<br />
• “Energy landscape around a minimum in a-Si”, F. Valiquette et N. Mousseau,<br />
Phys. Rev. B 68, 125209 (<strong>2003</strong>).<br />
• “Evolution of the potential-energy surface of amorphous silicon”,<br />
H. Kallel et N. Mousseau,<br />
in preparation.<br />
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