HGC606A/2003 ID intern unic: 295071 Версия на ... - VERTIC

3B001 Echipamente pentru producerea dispozitivelor sau materialelor semiconductoare şi
componentele şi accesoriile lor special concepute pentru acestea, după cum urmează:
a. Echipamente cu "control prin program memorat" pentru creşterea epitaxială, după cum urmează:
1. Echipamente capabile să producă un strat cu o uniformitate a grosimii mai mică de \xf12,5% pe
o distanţă de 75 mm sau mai mare.
2. Reactor pentru depunerea în fază de vapori prin procedee chimice metalo-organice (MOCVD)
special concepuţi pentru creşterea cristalelor semiconductoare compuse prin reacţie chimică între
materialele supuse controlului prin 3C003 sau 3C004.
3. Echipamente pentru creşterea epitaxială cu fascicul molecular folosind surse de gaz.
b. Echipamente cu "control prin program memorat" concepute pentru implantare ionică, avînd
oricare din următoarele caracteristici:
1. O tensiune de accelerare ce depăşeşte 1 MeV.
2. Concepute şi optimizate special pentru a funcţiona la o tensiune de accelerare mai mică de 2
keV.
3. Capacitate de scriere directă, sau
4. Capabile de a implanta oxigen de mare energie într-un "substart" de material semiconductor
încălzit.
c. Echipamente de corodare uscată cu plasmă anizotropică cu "control prin program memorat",
după cum urmează:
1. Cu funcţionare casetă-casetă şi blocări de sarcină, avînd oricare din următoarele caracteristici:
a) limitare magnetică; sau
b) rezonanţă ciclotronică electronică (ECR).
2. Special concepute pentru echipamentele supuse controlului prin 3B001.e, avînd oricare din
următoarele caracteristici:
a) limitare magnetică; sau
b) rezonanţă ciclotronică electronică (ECR).
d. Echipamente CVD cu plasmă intensificată cu "control prin program memorat", după cum
urmează:
1. Cu funcţionare casetă-casetă şi blocări de sarcină, avînd oricare din următoarele caracteristici:
a) limitare magnetică; sau
b) rezonanţă ciclotronică electronică (ECR).
2. Special concepute pentru echipamentele supuse controlului prin 3B001.e, avînd oricare din
următoarele caracteristici:
a) limitare magnetică; sau
b) rezonanţă ciclotronică electronică (ECR).
e. Sisteme centrale multicameră de manipulare a plachetelor cu încărcare automată cu "control prin
program memorat", avînd următoarele caracteristici:
1. Interfeţe pentru intrarea şi ieşirea plachetelor, la care pot fi conectate mai mult de două
echipamente pentru prelucrarea semiconductoarelor; şi
2. Concepute pentru a forma un sistem integrat în vid în scopul prelucrării secvenţiale multiple a
plachetelor.
Notă: 3B001.e nu supune controlului sistemele de manipulare automată robotizate a plachetelor
care nu sînt concepute să lucreze în vid.
f. Echipamente litografice cu "control prin program memorat", după cum urmează:
1. Echipamente cu repetare şi pas cu pas pentru expunere şi aliniere (cu pas direct pe multistrat)
pentru prelucrarea plachetelor multistrat, folosind metode cu raze X sau metode foto-optice, avînd
oricare din următoarele caracteristici:
a) o lungime de undă a sursei de lumină mai mică de 350 nm; sau
b) capabile să producă un eşantion, avînd rezoluţia minimă a trasei egală sau mai mică de 0,5 mm;