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7. Ergebnisse der Testverfahren
Kapitel 7.2.6 beschrieben per ALD mit einer 100 nm dicken Schicht aus Ta2O5
beschichtet und in Quadrate mit einer Kantenlänge von 3 mm vereinzelt. Bei der
Herstellung der Proben wurde die Vernetzungstemperatur sowie die Dauer der
Plasmabehandlung variiert (siehe auch Versuchsdurchführung zu Aluminiumoxid).
Ergebnis
Für die durchgeführten Prozessvarianten wurden Haftfestigkeiten zwischen 7 und
8,7 MPa erzielt (Abbildung 65). Die zehnminütige O 2-Plasmabehandlung hat die
Haftfestigkeit leicht verbessert.
Diskussion
Haftfestigkeit/MPa
11
10
9
8
7
6
5
Die Haftfestigkeit des Silikons Med-6015 auf Tantalpentoxid ist vergleichbar mit der
auf Siliziumoxid und Siliziumnitrid. Durch die oberflächenreinigende Wirkung der
Plasmabehandlung konnte sie leicht verbessert werden (siehe auch Kapitel 6.3.1).
7.4.5 Polyimid
Versuchsdurchführung
Tantalpentoxid
Adhäsionstest 1 2 3 4
Temperatur/°C 25 25 80 80
Vernetzer/% 10 10 10 10
O 2-Plasma/min 0 10 1 10
Abbildung 65 Adhäsionstests zur Bestimmung des Einflusses verschiedener Prozessparameter
auf die Haftfestigkeit des Silikons Nusil Med-6015 auf Tantalpentoxid. Die Haftfestigkeit ist als
Mittelwert mit Standardabweichung angegeben.
Auf einen Silizium-Wafer wurden per PECVD 500 nm Siliziumnitrid abgeschieden.
Anschließend wurde der Wafer bei 440 °C in Formiergas getempert, durch
Aufschleudern mit einer 7,3 µm dicken Schicht aus Polyimid beschichtet, ausgeheizt