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Strahlenschäden und Strahlenhärte von Halbleiterdetektoren

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11 BETRIEBSSZENARIO 16<br />

11 Betriebsszenario<br />

Abbildung 13: Betriebsszenario des CMS Trackers während 10 Jahren Laufzeit.<br />

Dieses Betriebsszenario stellt eine vorhergesagte zeitliche Entwicklung der Depletionsspannung<br />

für den CMS-Tracker dar. Die drei eingetragenen Kurven stehen jeweils für unterschiedliche<br />

Dicken eines Substrats. Bei allen erkennt man deutlich die typische Kurve<br />

der Typ-Inversion mit einem vernünftigen Wert der Depletionsspannung am Anfang sowie<br />

am Ende der Betriebszeit. Jedoch sieht man in jeder Kurve Stufen. Eine Stufe besteht aus<br />

drei Phasen: Einem langen Anstieg/Abfall aufgr<strong>und</strong> der Änderung der effektiven Dotierung<br />

während der Betriebszeit, eine Entwicklung der Kurve in die entgegengesetzte Richtung aufgr<strong>und</strong><br />

des Beneficial Annealings während Wartungsarbeiten bei Nicht-Kühlung des Systems<br />

<strong>und</strong> ein Plateau, bei welchem die effektive Dotierung stagniert während gekühlter Ruhephase<br />

des Systems. Man möchte vermeiden, daß eine Stufe aus vier Phasen besteht. Das ist der<br />

Fall, falls Reverse Annealing eintritt <strong>und</strong> die Kurve nach der zweiten Phase noch einmal<br />

umlenkt, bevor sie ein Plateau formt.<br />

Dieses Szenario ist der aktuelle Idealfall. Dieser kann nur eintreten, wenn der Detektor<br />

ständig ausreichend gekühlt wird.<br />

12 Oberflächenschäden<br />

Oberflächenschäden entstehen durch ionisierende Strahlung. Sie werden durch Aufladungen<br />

im Oxid erzeugt <strong>und</strong> verursachen hauptsächlich Defekte in der Ausleseelektronik des Detektors,<br />

besonders in MOSFET-Strukturen.<br />

In der Oxidschicht SiO2 auf dem Siliziumwafer entstehen, wie in Abb. ?? sichtbar, bei<br />

einfallender Strahlung eh-Paare. Da Elektronen eine höhere Mobilität besitzen, können diese<br />

aus dem Oxid driften. Zurück bleiben die Löcher, welche positive Aufladungen darstellen, sog.<br />

fixed oxide charges, welche sich am Interface zum Oxid ansammeln <strong>und</strong> dort im Silizium eine

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