VDI 2840 - Beuth Verlag
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– 18 – <strong>VDI</strong> <strong>2840</strong> Entwurf Alle Rechte vorbehalten © Verein Deutscher Ingenieure, Düsseldorf 2004<br />
mantschichten können transparent oder transluzent<br />
vorkommen. Die optischen Messverfahren beruhen<br />
auf der Interferenz von Lichtstrahlen, die von der<br />
Schichtoberfläche und von der Substratoberfläche<br />
reflektiert werden.<br />
Ein Beispiel zur optischen Bestimmung der<br />
Schichtdicke besteht in der Anwendung des Lichtschnittverfahrens<br />
(ISO 2128). Die für Eloxalschichten<br />
geltende Norm kann auch auf andere<br />
transparente Schichten übertragen werden. Als<br />
weiteres optisches Verfahren kommt die Weißlichtinterferometrie<br />
in Frage. Weißlichtinterferometer<br />
können für die Schichtdickenmessung mit<br />
Lichtleitfaserbündeln ausgestattet sein, um den<br />
Messfleck auf die Probe zu lenken. Das Messprinzip<br />
beruht auf der rechnerischen Auswertung der<br />
Interferenzmuster mit Hilfe der Fresnel'schen Gleichungen.<br />
Dazu muss der Brechungsindex der<br />
Schicht bekannt sein. Es lassen sich nur einlagige<br />
Schichten vermessen. Der Messbereich beträgt ca.<br />
10 nm bis 50 µm, die angezeigte Auflösung liegt<br />
bei 1 nm.<br />
Als weitere optische Verfahren sind die Ellipsometrie<br />
(PAS 1022, ASTM F 576) und die Photometrie<br />
zu nennen, die jedoch nur für sehr glatte<br />
Substratoberflächen und vorzugsweise für Schichtdicken<br />
unterhalb von einem Mikrometer eingesetzt<br />
werden können.<br />
Das in der <strong>VDI</strong> 3824 Blatt 4 aufgeführte Verfahren<br />
der Kalottenschliff-Vermessung lässt sich nicht<br />
sinnvoll für Diamantschichten anwenden, da die<br />
Schleifzeit auf Grund der hohen Schichthärte sehr<br />
hoch ist.<br />
Die beiden dort genannten Verfahren der Röntgenfluoreszenz<br />
(X-ray fluorescence XRF;<br />
(DIN EN ISO 3497) und der Beta-Rückstreuung<br />
(DIN EN ISO 3543) messen die Schichtdicke indirekt<br />
auf Basis der flächenbezogenen Masse. Zum<br />
einen sind daher Referenzproben notwendig. Zum<br />
anderen muss die exakte Dichte der Schicht bekannt<br />
sein. Während CVD-Diamantschichten stets<br />
die gleiche Dichte (3,52 · 10 3 kg/m 3 ) aufweisen,<br />
variiert diese bei den amorphen Kohlenstoffschichten<br />
jedoch auf Grund des veränderlichen Wasserstoffgehalts<br />
sehr stark (ca. 1,5 · 10 3 bis<br />
2,2 · 10 3 kg/m 3 ). Daher sind diese Verfahren bei<br />
unbekannten amorphen Kohlenstoffschichten oder<br />
schwankender Schichtzusammensetzung nicht einsetzbar.<br />
Mit der Beta-Rückstreumethode lassen<br />
sich Schichtdicken von Diamantschichten zuverlässig<br />
und zerstörungsfrei messen.<br />
Eine weitere zerstörungsfreie Methode<br />
der Schichtdickenmessung arbeitet mit laser-<br />
induzierten Ultraschall-Oberflächenwellen<br />
Lizenzierte Kopie von elektronischem Datenträger<br />
(DIN 50 992-1).<br />
Eine Übersicht über Schichtdickenmessverfahren<br />
mit Anwendungshinweisen wird in dem Norm-<br />
Entwurf DIN EN ISO 3882 „Metallische und andere<br />
anorganische Schichten; Übersicht von Verfahren<br />
der Schichtdickenmessung“ gegeben. Außerdem<br />
wird verwiesen auf die DIN EN ISO 2064<br />
„Definitionen und Festlegungen, die die Messung<br />
der Schichtdicke betreffen“.<br />
5.1.9 Schichtrauheit<br />
Die Angaben für die Schichtrauheit beziehen sich<br />
ausschließlich auf die inhärente Rauheit der<br />
Schicht. Bei beschichteten Substraten wird die<br />
messbare Rauheit nahezu immer zusätzlich durch<br />
die Substratrauheit beeinflusst. Eine Bestimmung<br />
der inhärenten Schichtrauheit ist nur auf Substraten<br />
möglich, die eine Rauheit aufweisen, die mindestens<br />
eine Größenordnung geringer ist als die inhärente<br />
Schichtrauheit (z. B. ein polierter Siliciumwafer).<br />
Keine der Kohlenstoffschichten hat eine rauheitsausgleichende<br />
Eigenschaft, wie sie z. B. bei der<br />
galvanischen Nickelabscheidung erzielt werden<br />
kann (Glanznickel). Eine Ausgleichung, das heißt<br />
Verringerung der Rauheit, die im Substrat vorgegeben<br />
ist, geschieht nur auf Grund der geometrischen<br />
Verhältnisse, da die Schichtoberseite als<br />
Äquidistanzfläche zur Substratoberfläche angesehen<br />
werden kann (Bild 14).<br />
Bild 14. Verringerung der Rauheit durch Schichtabscheidung;<br />
Darstellung anhand der REM-<br />
Aufnahme einer Multilayerschicht<br />
Die Rauheitsangaben beziehen sich auf die Seite<br />
der Schichten, die im Einsatz verwendet wird. Bei<br />
den amorphen Kohlenstoffschichten und den Diamantdünnschichten,<br />
die auf dem Substrat verbleiben,<br />
ist dies die Wachstumsseite. Bei den Diamantdickschichten<br />
wird in der Regel die<br />
Substratseite der abgelösten Schicht verwendet.<br />
Bei diesen Schichten beziehen sich daher die Rauheitsangaben<br />
auf die Substratseite. Die Wachs-