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VDI 2840 - Beuth Verlag

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– 18 – <strong>VDI</strong> <strong>2840</strong> Entwurf Alle Rechte vorbehalten © Verein Deutscher Ingenieure, Düsseldorf 2004<br />

mantschichten können transparent oder transluzent<br />

vorkommen. Die optischen Messverfahren beruhen<br />

auf der Interferenz von Lichtstrahlen, die von der<br />

Schichtoberfläche und von der Substratoberfläche<br />

reflektiert werden.<br />

Ein Beispiel zur optischen Bestimmung der<br />

Schichtdicke besteht in der Anwendung des Lichtschnittverfahrens<br />

(ISO 2128). Die für Eloxalschichten<br />

geltende Norm kann auch auf andere<br />

transparente Schichten übertragen werden. Als<br />

weiteres optisches Verfahren kommt die Weißlichtinterferometrie<br />

in Frage. Weißlichtinterferometer<br />

können für die Schichtdickenmessung mit<br />

Lichtleitfaserbündeln ausgestattet sein, um den<br />

Messfleck auf die Probe zu lenken. Das Messprinzip<br />

beruht auf der rechnerischen Auswertung der<br />

Interferenzmuster mit Hilfe der Fresnel'schen Gleichungen.<br />

Dazu muss der Brechungsindex der<br />

Schicht bekannt sein. Es lassen sich nur einlagige<br />

Schichten vermessen. Der Messbereich beträgt ca.<br />

10 nm bis 50 µm, die angezeigte Auflösung liegt<br />

bei 1 nm.<br />

Als weitere optische Verfahren sind die Ellipsometrie<br />

(PAS 1022, ASTM F 576) und die Photometrie<br />

zu nennen, die jedoch nur für sehr glatte<br />

Substratoberflächen und vorzugsweise für Schichtdicken<br />

unterhalb von einem Mikrometer eingesetzt<br />

werden können.<br />

Das in der <strong>VDI</strong> 3824 Blatt 4 aufgeführte Verfahren<br />

der Kalottenschliff-Vermessung lässt sich nicht<br />

sinnvoll für Diamantschichten anwenden, da die<br />

Schleifzeit auf Grund der hohen Schichthärte sehr<br />

hoch ist.<br />

Die beiden dort genannten Verfahren der Röntgenfluoreszenz<br />

(X-ray fluorescence XRF;<br />

(DIN EN ISO 3497) und der Beta-Rückstreuung<br />

(DIN EN ISO 3543) messen die Schichtdicke indirekt<br />

auf Basis der flächenbezogenen Masse. Zum<br />

einen sind daher Referenzproben notwendig. Zum<br />

anderen muss die exakte Dichte der Schicht bekannt<br />

sein. Während CVD-Diamantschichten stets<br />

die gleiche Dichte (3,52 · 10 3 kg/m 3 ) aufweisen,<br />

variiert diese bei den amorphen Kohlenstoffschichten<br />

jedoch auf Grund des veränderlichen Wasserstoffgehalts<br />

sehr stark (ca. 1,5 · 10 3 bis<br />

2,2 · 10 3 kg/m 3 ). Daher sind diese Verfahren bei<br />

unbekannten amorphen Kohlenstoffschichten oder<br />

schwankender Schichtzusammensetzung nicht einsetzbar.<br />

Mit der Beta-Rückstreumethode lassen<br />

sich Schichtdicken von Diamantschichten zuverlässig<br />

und zerstörungsfrei messen.<br />

Eine weitere zerstörungsfreie Methode<br />

der Schichtdickenmessung arbeitet mit laser-<br />

induzierten Ultraschall-Oberflächenwellen<br />

Lizenzierte Kopie von elektronischem Datenträger<br />

(DIN 50 992-1).<br />

Eine Übersicht über Schichtdickenmessverfahren<br />

mit Anwendungshinweisen wird in dem Norm-<br />

Entwurf DIN EN ISO 3882 „Metallische und andere<br />

anorganische Schichten; Übersicht von Verfahren<br />

der Schichtdickenmessung“ gegeben. Außerdem<br />

wird verwiesen auf die DIN EN ISO 2064<br />

„Definitionen und Festlegungen, die die Messung<br />

der Schichtdicke betreffen“.<br />

5.1.9 Schichtrauheit<br />

Die Angaben für die Schichtrauheit beziehen sich<br />

ausschließlich auf die inhärente Rauheit der<br />

Schicht. Bei beschichteten Substraten wird die<br />

messbare Rauheit nahezu immer zusätzlich durch<br />

die Substratrauheit beeinflusst. Eine Bestimmung<br />

der inhärenten Schichtrauheit ist nur auf Substraten<br />

möglich, die eine Rauheit aufweisen, die mindestens<br />

eine Größenordnung geringer ist als die inhärente<br />

Schichtrauheit (z. B. ein polierter Siliciumwafer).<br />

Keine der Kohlenstoffschichten hat eine rauheitsausgleichende<br />

Eigenschaft, wie sie z. B. bei der<br />

galvanischen Nickelabscheidung erzielt werden<br />

kann (Glanznickel). Eine Ausgleichung, das heißt<br />

Verringerung der Rauheit, die im Substrat vorgegeben<br />

ist, geschieht nur auf Grund der geometrischen<br />

Verhältnisse, da die Schichtoberseite als<br />

Äquidistanzfläche zur Substratoberfläche angesehen<br />

werden kann (Bild 14).<br />

Bild 14. Verringerung der Rauheit durch Schichtabscheidung;<br />

Darstellung anhand der REM-<br />

Aufnahme einer Multilayerschicht<br />

Die Rauheitsangaben beziehen sich auf die Seite<br />

der Schichten, die im Einsatz verwendet wird. Bei<br />

den amorphen Kohlenstoffschichten und den Diamantdünnschichten,<br />

die auf dem Substrat verbleiben,<br />

ist dies die Wachstumsseite. Bei den Diamantdickschichten<br />

wird in der Regel die<br />

Substratseite der abgelösten Schicht verwendet.<br />

Bei diesen Schichten beziehen sich daher die Rauheitsangaben<br />

auf die Substratseite. Die Wachs-

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