Effet tunnel dépendant du spin : Des simples aux doubles ... - LPM
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Intro<strong>du</strong>ction, généralités<br />
in<strong>dépendant</strong>s de <strong>spin</strong> et que la con<strong>du</strong>ctivité est proportionnelle <strong>aux</strong> densités d'états libres et<br />
occupés pour chaque électrode. Lorsque les aimantations sont dans une configuration<br />
antiparallèle, une densité d'états importante dans une électrode correspond à une faible densité<br />
d'états pour la même direction de <strong>spin</strong> dans l’autre électrode (figure 1). Le courant <strong>tunnel</strong> est<br />
donc limité par la densité d'états la plus basse. Dans la configuration parallèle en revanche,<br />
une forte densité d'états est disponible pour les <strong>spin</strong>s ↑ dans les deux électrodes. Le courant<br />
est donc plus important dans la configuration parallèle. Plus quantitativement, on peut écrire<br />
le courant total comme la somme des courants des deux directions de <strong>spin</strong>.<br />
Configuration parallèle Configuration antiparallèle<br />
↑ ↑<br />
↓ ↓<br />
D1 D2<br />
D D<br />
1 2<br />
13<br />
↑ ↓<br />
D1 D2<br />
↓ ↑<br />
D1 D2<br />
Fig. 1 : Schéma des densités d’états dans les deux configurations magnétiques. Les flèches représentent les<br />
courants pour les deux directions de <strong>spin</strong>.<br />
On définit alors la magnétorésistance 1 par :<br />
R − R<br />
MR =<br />
R<br />
ap p<br />
p<br />
=<br />
j − j<br />
j<br />
p ap<br />
ap<br />
=<br />
↑ ↑ ↓ ↓ ↑ ↓ ↓ ↑<br />
( D1 D2 + D1 D2) − ( D1 D2 + D1 D2)<br />
D D + D D<br />
↑ ↓ ↓ ↑<br />
1 2 1 2<br />
2PP<br />
1 2<br />
=<br />
1 − PP<br />
Avant 1995, il n'y eut que quelques réalisations de jonctions <strong>tunnel</strong> magnétiques avec<br />
toujours des magnétorésistances faibles à basse température et nulles à température ambiante<br />
[MAE 82, NOW 92, SUE 92] . Les jonctions Co/Al2O3/CoFe et Co/Al2O3/NiFe réalisées par<br />
Moodera [MOO 95] furent les premières à atteindre de façon repro<strong>du</strong>ctible des magnétorésistances<br />
supérieures à 10% à température ambiante. Les différentes couches de ces jonctions sont<br />
déposées à travers des masques métalliques qui permettent de prendre les contacts sur les<br />
électrodes inférieures et supérieures dans une géométrie croix. L'électrode inférieure est<br />
déposée à basse température afin d'assurer une bonne planéité. La barrière est réalisée par<br />
oxydation plasma d'une couche d'aluminium. Nous reviendrons en détail sur l'élaboration de la<br />
barrière au chapitre II.<br />
La réponse électrique est parfaitement corrélée au comportement magnétique. A fort<br />
champ positif, les deux aimantations sont saturées et alignées, la résistance est alors faible.<br />
Quand le champ est inversé, le FeNi, qui a le champ coercitif le plus faible, se retourne avec le<br />
champ alors que le CoFe reste dans sa position initiale. Les aimantations ont alors un aligne-<br />
1<br />
Certains auteurs et particulièrement Moodera au MIT utilisent une normalisation par la résistance dans l'état<br />
MR = R − R R ). Cette normalisation est utilisée dans les figures 2 et 5.<br />
antiparallèle ( ( )<br />
ap p ap<br />
1 2