1/2005 - Sick
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: Anwendungen<br />
Elektronik<br />
Bild: RENA<br />
Die Reinigungsanlage für Silizium-Wafer<br />
Positionserfassung im Tauchbecken<br />
Unterwasser-Lichtschranke<br />
optimiert Waferhandling<br />
Automatisierung unter Wasser – der Lichttaster WT 4-2 mit teflon ® -geschütztem<br />
Gehäuse und Kabel macht es möglich. Im Tauchbecken<br />
einer Reinigungsanlage für Silizium-Wafer fühlt sich der Sensor in seinem<br />
Element.<br />
>> Auf diese „tauchliche“ Lösung gestoßen<br />
ist man bei der RENA Sondermaschinen<br />
GmbH in Gütenbach. RENA<br />
– der Name steht für Reinraum Equipment<br />
Nasschemie Automatisierung –<br />
bietet kundenspezifische Lösungen<br />
und Standardanlagen für Nasschemieprozesse<br />
unter Reinraumbedingungen.<br />
In der Wafer-Reinigungsmaschine konnte<br />
mit der Unterwasser-Lichtschranke<br />
die Prozesssicherheit beim automatischen<br />
Waferhandling wesentlich erhöht<br />
werden.<br />
Mehrfache Positionserfassung<br />
In den Maschinen werden u. a.<br />
300-mm-Wafer in Kassetten durch einen<br />
sogenannten Hordenlift in ein mit<br />
Reinstwasser gefülltes Becken abgesenkt.<br />
Von dort übernimmt ein Hand-<br />
lingsarm den Transport der aus der<br />
Kassette entnommenen Waferpakete<br />
durch die verschiedenen Prozessbecken<br />
der Anlage. Bislang wurden weder<br />
die Kassettenpositionen im Becken<br />
noch die Endpositionen des Hordenlifts<br />
selbst überwacht. Mit dem Lichttaster<br />
WT 4-2 Teflon ® ist dies jetzt möglich,<br />
wodurch sich die Handlingssicherheit in<br />
der Maschine wesentlich erhöht hat.<br />
Ausschlaggebend für den Einsatz der<br />
Sensoren waren zum einen die vollständige<br />
Dichtigkeit von Sensorgehäuse und<br />
Kabelummantelung sowie die Miniaturbauform,<br />
die eine Installation in dem<br />
ohnehin engen Tauchbecken erlaubte.<br />
Zwei Fliegen mit einer Klappe<br />
Mit dem WT 4-2 Teflon ® konnte RENA<br />
„zwei Fliegen mit einer Klappe schlagen“,<br />
denn in einem anderen Maschinentyp<br />
konnte eine bislang eingesetzte<br />
Erfassungslösung durch exakt diese<br />
„Unterwasser-Lichtschranke“ ersetzt<br />
werden. Auf diese Weise wurde nicht<br />
nur eine weitere, anspruchsvolle Applikation<br />
gelöst, sondern auch die Variantenvielfalt<br />
bei RENA reduziert.<br />
Bei RENA freut man sich schon auf<br />
die neue Gerätegeneration WT 4-3 Teflon<br />
® . Mit ihr wird die Tastweiteneinstellung<br />
von außen im eingebauten Zustand<br />
möglich sein.<br />
insightLINK<br />
Weitere Produktinfos erhalten Sie mit<br />
der Karte am Ende des Magazins unter:<br />
INFO 116<br />
oder im Internet unter:<br />
www.sick.de/insight<br />
Mehr zum Kunden unter:<br />
www.rena.de<br />
Die „Unterwasser-Lichtschranke“<br />
WT 4-2 Teflon ® im Tauchbecken<br />
der Reinigungsanlage<br />
24 1/<strong>2005</strong>