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1/2005 - Sick

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: Anwendungen<br />

Elektronik<br />

Bild: RENA<br />

Die Reinigungsanlage für Silizium-Wafer<br />

Positionserfassung im Tauchbecken<br />

Unterwasser-Lichtschranke<br />

optimiert Waferhandling<br />

Automatisierung unter Wasser – der Lichttaster WT 4-2 mit teflon ® -geschütztem<br />

Gehäuse und Kabel macht es möglich. Im Tauchbecken<br />

einer Reinigungsanlage für Silizium-Wafer fühlt sich der Sensor in seinem<br />

Element.<br />

>> Auf diese „tauchliche“ Lösung gestoßen<br />

ist man bei der RENA Sondermaschinen<br />

GmbH in Gütenbach. RENA<br />

– der Name steht für Reinraum Equipment<br />

Nasschemie Automatisierung –<br />

bietet kundenspezifische Lösungen<br />

und Standardanlagen für Nasschemieprozesse<br />

unter Reinraumbedingungen.<br />

In der Wafer-Reinigungsmaschine konnte<br />

mit der Unterwasser-Lichtschranke<br />

die Prozesssicherheit beim automatischen<br />

Waferhandling wesentlich erhöht<br />

werden.<br />

Mehrfache Positionserfassung<br />

In den Maschinen werden u. a.<br />

300-mm-Wafer in Kassetten durch einen<br />

sogenannten Hordenlift in ein mit<br />

Reinstwasser gefülltes Becken abgesenkt.<br />

Von dort übernimmt ein Hand-<br />

lingsarm den Transport der aus der<br />

Kassette entnommenen Waferpakete<br />

durch die verschiedenen Prozessbecken<br />

der Anlage. Bislang wurden weder<br />

die Kassettenpositionen im Becken<br />

noch die Endpositionen des Hordenlifts<br />

selbst überwacht. Mit dem Lichttaster<br />

WT 4-2 Teflon ® ist dies jetzt möglich,<br />

wodurch sich die Handlingssicherheit in<br />

der Maschine wesentlich erhöht hat.<br />

Ausschlaggebend für den Einsatz der<br />

Sensoren waren zum einen die vollständige<br />

Dichtigkeit von Sensorgehäuse und<br />

Kabelummantelung sowie die Miniaturbauform,<br />

die eine Installation in dem<br />

ohnehin engen Tauchbecken erlaubte.<br />

Zwei Fliegen mit einer Klappe<br />

Mit dem WT 4-2 Teflon ® konnte RENA<br />

„zwei Fliegen mit einer Klappe schlagen“,<br />

denn in einem anderen Maschinentyp<br />

konnte eine bislang eingesetzte<br />

Erfassungslösung durch exakt diese<br />

„Unterwasser-Lichtschranke“ ersetzt<br />

werden. Auf diese Weise wurde nicht<br />

nur eine weitere, anspruchsvolle Applikation<br />

gelöst, sondern auch die Variantenvielfalt<br />

bei RENA reduziert.<br />

Bei RENA freut man sich schon auf<br />

die neue Gerätegeneration WT 4-3 Teflon<br />

® . Mit ihr wird die Tastweiteneinstellung<br />

von außen im eingebauten Zustand<br />

möglich sein.<br />

insightLINK<br />

Weitere Produktinfos erhalten Sie mit<br />

der Karte am Ende des Magazins unter:<br />

INFO 116<br />

oder im Internet unter:<br />

www.sick.de/insight<br />

Mehr zum Kunden unter:<br />

www.rena.de<br />

Die „Unterwasser-Lichtschranke“<br />

WT 4-2 Teflon ® im Tauchbecken<br />

der Reinigungsanlage<br />

24 1/<strong>2005</strong>

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