Diplomarbeit - Herstellung und Charakterisierung von MAX-Phasen
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Masterarbeit<br />
<strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> <strong>Charakterisierung</strong> <strong>von</strong><br />
organischen Photodetektoren<br />
eingereicht in der Fakultät Feinwerk- <strong>und</strong> Mikrotechnik, Physikalische Technik an der<br />
Hochschule München zur Erlangung des akademischen Grades eines<br />
Master of Science (M.Sc.)<br />
Vorgelegt <strong>von</strong>: Dipl.-Ing. (FH) Morten Schmidt geb. am 08. April 1982<br />
Bearbeitet am:<br />
Lehrstuhl für Nanoelektronik<br />
der<br />
Technische Universität München<br />
Erstprüfer: Prof. Dr.rer.nat. Rolf Heilmann<br />
Zweitprüfer: Prof. Dr. Helmut Herberg<br />
Betreuer: Dipl.-Phys. Daniela Baierl<br />
Tag der Anmeldung: 09. November 2010<br />
Tag der Abgabe: 02. September 2011
Für meine Eltern<br />
<strong>und</strong> Carmen
Abstract<br />
The aim of this thesis is the characterisation of organic photodetectors fabricated by<br />
spraycoating for later use on chips with complementary metal-oxide-semiconductor<br />
(CMOS) electronics. The diods will be built as a multi layer system consisting of orga-<br />
nic semiconductors. A bulk heterojunktion made of poly(3-hexylthiophene) (P3HT) and<br />
phenyl-C61-butyric acid methyl ester ((PCBM) will be used as photoactive layer, with<br />
a hole conducting layer consisting of poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrene-<br />
sulfonate) (PEDOT:PSS). Subject of the investigations will be the suitability of 1,2-<br />
dichlorbenzene, Toluene, Xylene and a mixture of 1,2-dichlorbenzene and Toluene for<br />
the production process of the photoactive layer. The influence of different dilutions of<br />
the PEDOT:PSS on the performance of the photodiode will be investigated as well. In<br />
addition the degradation of devices encapsulated with different glues will be measured<br />
over a period of 90 days.<br />
Kurzzusammenfassung<br />
Das Ziel der vorliegenden Masterarbeit ist die <strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> <strong>Charakterisierung</strong> orga-<br />
nischer Photodioden mittels Sprühbeschichtung zur späteren Verwendung auf Chips mit<br />
Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) Elektronik. Die Dioden werden<br />
als Mehrschichtsystem aus organischen Halbleitern hergestellt. Als photoaktive Schicht<br />
dient eine Bulk Heterojunktion aus Poly(3-hexylthiophen (P3HT) <strong>und</strong> [6,6]-Phenyl-<br />
C61-butansäuremethylester (PCBM). Auf diese folgt eine Löcherleitschicht bestehend<br />
aus Poly(3,4-ethylene-dioxythiophene):Natrium-Polystyrol-sulfonat (PEDOT:PSS). Un-<br />
tersucht wird die Eignung der Lösungsmittel 1,2-Dichlorben-zol, Toluol, Xylol sowie ei-<br />
ner Mischung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol <strong>und</strong> Toluol (im Verhältnis 1 zu 1) auf ihre Eignung<br />
im <strong>Herstellung</strong>sprozess der photoaktiven Schicht. Ebenfalls untersucht wird der Einfluss<br />
verschiedener Verdünnungen des PEDOT:PSS auf die Diodeneigenschaften. Zusätzlich<br />
wird das Degradationsverhalten der Bauteile über einen Zeitraum <strong>von</strong> 90 Tagen unter<br />
Verwendung unterschiedlicher Klebstoffe zur Verkapselung betrachtet.
Danksagung<br />
Ich möchte Professor Prof. Dr. Paolo Lugli für die Möglichkeit danken an diesem Projekt<br />
zu arbeiten. Auch danke ich Prof. Dr.rer.nat. Rolf Heilmann für die Betreuung der<br />
Arbeit.<br />
Mein besonderer Dank gilt meiner Betreuerin Dipl.-Phys. Daniela Baierl für ihre nicht<br />
enden wollende Unterstützung, ihre außerordentliche Ausdauer mir alles zu erklären,<br />
für das in mich gesteckte Vertrauen <strong>und</strong> für ihre Ungeduld zur richtigen Zeit.<br />
Im Weiteren gilt mein Dank Prof. Dr.Herberg <strong>und</strong> besonders Dipl.-Ing. (FH) Michael<br />
Kaiser für die Hilfe bei den Messungen mit dem Profilometer. Und auch allen Mitar-<br />
beitern vom Lehrstuhl für Nanoelektronik der Technischen Universität München danke<br />
ich für die viele Unterstützung <strong>und</strong> die aufbauenden Gespräche.<br />
Zum Schluss möchte ich meinen Eltern, Carmen <strong>und</strong> besonders meinem Bruder Oli-<br />
ver für die moralische Unterstützung danken, ohne die ich wahrscheinlich nie so weit<br />
gekommen wäre.
Inhaltsverzeichnis<br />
1 Einleitung 1<br />
2 Organische Halbleiter 5<br />
2.1 Hybridisierung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 5<br />
2.2 Konjugierte Polymere . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7<br />
2.3 Ladungstransport . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8<br />
2.4 Bulk Heterojunktion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10<br />
2.5 Aufbau organischer Photodetektoren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11<br />
2.6 Materialien . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15<br />
2.6.1 Elektronendonator . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15<br />
2.6.2 Elektronenakzeptor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16<br />
2.6.3 Löcherleitschicht . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16<br />
2.6.4 Lösungsmittel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16<br />
3 Methodik 19<br />
3.1 Probenlayout . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 19<br />
3.1.1 Schichtaufbau . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20<br />
3.1.2 Kathodenlayout . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 21<br />
3.1.3 Probenhalter . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22<br />
3.2 <strong>Herstellung</strong>sverfahren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23<br />
3.2.1 Aufdampfen der Elektroden . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23<br />
3.2.2 Sprühbeschichtungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25<br />
3.2.3 Plasmabehandlung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27<br />
3.2.4 Rotationsbeschichtung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27<br />
3.2.5 Tempern . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 28<br />
3.2.6 Verkapselung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29<br />
3.2.7 <strong>Herstellung</strong> der P3HT:PCBM-Lösung . . . . . . . . . . . . . . . . 29<br />
3.3 Messverfahren . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30<br />
3.3.1 Strom-Spannungs-Messungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30<br />
3.3.2 Messung der externen Quanteneffizienz . . . . . . . . . . . . . . . 32<br />
3.3.3 Schichtdicken <strong>und</strong> Rauheitsmessungen . . . . . . . . . . . . . . . 32<br />
I
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion 35<br />
4.1 Optimierung der photoaktiven Schicht . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36<br />
4.1.1 Rauheit der Schichten . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 37<br />
4.1.2 1,2-Dichlorbenzol . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 38<br />
4.1.3 Toluol . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 42<br />
4.1.4 Xylol . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45<br />
4.1.5 Mischung aus Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol . . . . . . . . . . . . . 48<br />
4.1.6 Schlussfolgerung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 51<br />
4.2 PEDOT:PSS . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 52<br />
4.2.1 Schichtdicken . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 52<br />
4.2.2 Morphologie . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 55<br />
4.2.3 Elektrische Eigenschaften . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 55<br />
4.2.4 Schlussfolgerung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 58<br />
4.3 Vollständig gesprühte Photodioden . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 59<br />
4.4 Degradationsmessungen . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 61<br />
5 Zusammenfassung 67<br />
6 Ausblick 69<br />
6.1 Leitfähige Polymeranode . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 69<br />
6.2 R<strong>und</strong>umverkapselung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 69<br />
6.3 CMOS . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 70<br />
II
Kurzzeichen<br />
Zeichen Einheit Beschreibung<br />
ρ(E) eV Gaussförmige Zustandsdichte<br />
σ eV Standardabweichung der Zustandsdichte<br />
p mbar Druck<br />
d cm Abstand des Sprühkopfes<br />
E eV Energie relativ zum Zentrum der gaussf. Zustandsdichte<br />
EQEM(λ) % Externe Quanteneffizienz einer Probe<br />
EQER(λ) % Externe Quanteneffizienz einer Probe<br />
ID A Diodenstrom<br />
Id V Leck- oder Dunkelstrom einer Diode<br />
Il V Licht- oder Photostrom einer Photodiode<br />
IM V Gemessener Photostrom<br />
IR V Photostrom einer kalibrierten Diode<br />
IS A Sperrstrom<br />
N Anzahl der Messpunkte<br />
Ne<br />
Anzahl der extrahierten Ladungsträger<br />
Anzahl der eingestrahlten Photonen<br />
NP<br />
Nt<br />
Gesamte Zustandsdichte<br />
T K Temperatur<br />
t s Sprühzeit<br />
UD V Durchbruchspannung einer Diode<br />
US V Schleusenspannung einer Diode<br />
UT eV Temperaturspannung bei Raumtemperatur<br />
Rq m Quadratische Rauheit<br />
〈y〉 m Mittelwert der Auslenkung<br />
y(xn) m Auslenkung an Position x<br />
III
Abbildungsverzeichnis<br />
1.1 Raster-Kraft-Mikoskopaufnahme eines Pixels eines CMOS-Arrays . . . . 3<br />
2.1 Orbitale bei Hybridisierung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6<br />
2.2 Energieniveaus bei Hybridisierung . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6<br />
2.3 a) Bindungsverhältnisse in Butadien; b) Molekülorbital <strong>von</strong> Butadien . . 7<br />
2.4 Gaussverteilung der lokalisierten Zustände . . . . . . . . . . . . . . . . . 9<br />
2.5 Darstellung eines Bulk-Heterojunktion-Photodetektors . . . . . . . . . . 10<br />
2.6 Schematische Darstellung der Kennlinie einer Photodiode (Bereich in<br />
Sperrichtung wird zur besseren Veranschaulichung in einem größeren<br />
Maßstab dargestellt) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12<br />
2.7 Vereinfachtes Banddiagramm einer organischen Photodiode . . . . . . . . 14<br />
2.8 Chemische Struktur <strong>und</strong> Banddiagramm <strong>von</strong> Poly(3-hexylthiophen) . . . 17<br />
2.9 Chemische Struktur <strong>und</strong> Banddiagramm <strong>von</strong> PCBM . . . . . . . . . . . 17<br />
2.10 Chemische Struktur <strong>von</strong> PEDOT:PSS . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18<br />
3.1 Schichtaufbau einer organischen Photodiode . . . . . . . . . . . . . . . . 20<br />
3.2 Foto fertiger Dioden mit unterschiedlichen Kathodendesigns . . . . . . . 21<br />
3.3 Abbildung des Probenhalters . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22<br />
3.4 Schematischer Darstellung des Sprühaufbaus . . . . . . . . . . . . . . . . 25<br />
3.5 Schematische Darstellung des Strom-Spannungs-Messaufbaus . . . . . . . 31<br />
3.6 Schematische Darstellung eines EQE Messaufbaus . . . . . . . . . . . . . 33<br />
4.1 Strom-Spannungs-Kennlinie bei Rotationsbeschichtung . . . . . . . . . . 36<br />
4.2 Rauheit bei verschiedenen Lösungsmitteln . . . . . . . . . . . . . . . . . 38<br />
4.3 Schichtdicke bei Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol . . . . . . . . . . . . 39<br />
4.4 Externe Quanteneffizienz bei Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol . . . . . 40<br />
4.5 Strom-Spannungs-Kennlinien bei Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol . . . 41<br />
4.6 Schichtdicken bei Verwendung <strong>von</strong> Toluol . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43<br />
4.7 Externe Quanteneffizienz bei Verwendung <strong>von</strong> Toluol . . . . . . . . . . . 43<br />
4.8 Strom-Spannungs-Kennlinien bei Verwendung <strong>von</strong> Toluol . . . . . . . . . 44<br />
4.9 Schichtdicken bei Verwendung <strong>von</strong> Xylol . . . . . . . . . . . . . . . . . . 46<br />
4.10 Externe Quanteneffizienz bei Verwendung <strong>von</strong> Xylol . . . . . . . . . . . . 47<br />
4.11 Strom-Spannungs-Kennlinien bei Verwendung <strong>von</strong> Xylol . . . . . . . . . 47<br />
4.12 Schichtdicken bei Verwendung <strong>von</strong> Toluol-1,2-Dichlorbenzol-Mischung . . 49<br />
V
VI<br />
Abbildungsverzeichnis<br />
4.13 Externe Quanteneffizienz <strong>von</strong> Toluol-1,2-Dichlorbenzol-Mischungen . . . 49<br />
4.14 Strom-Spannungs-Kennlinien <strong>von</strong> Toluol-1,2-Dichlorbenzol-Mischung . . 50<br />
4.15 Schichtdicke <strong>von</strong> PEDOT:PSS bei verschiedenen Verdünnungen . . . . . 53<br />
4.16 Schichtdicken unterschiedlicher Chargen PEDOT:PSS . . . . . . . . . . . 54<br />
4.17 Mikroskopaufnahmen verschieden verdünnter Schichten . . . . . . . . . . 56<br />
4.18 Strom-Spannungs-Kennlinien verschiedener PEDOT:PSS-Lösungen . . . 57<br />
4.19 Externe Quanteneffizienz verschiedener PEDOT:PSS-Lösungen . . . . . . 58<br />
4.20 Externe Quanteneffizienz einer komplett gesprühten Diode . . . . . . . . 60<br />
4.21 Strom-Spannungs-Kennlinie einer vollständig gesprühten Diode . . . . . . 60<br />
4.22 Externe Quanteneffizienz der Dioden der ersten Messreihe . . . . . . . . 62<br />
4.23 Externe Quanteneffizienz der Dioden der zweiten Messreihe . . . . . . . . 62<br />
4.24 Photoströme bei −4 V über die Zeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 63<br />
4.25 Dunkelströme bei −4 V über die Zeit . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 63<br />
6.1 Organische Photodiode mit Polymeranode . . . . . . . . . . . . . . . . . 70<br />
6.2 Foto eines CMOS-Substrates . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 71
1 Einleitung<br />
Die großen Fortschritte im Bereich der organischen Elektronik in den letzten Jahren<br />
haben zu einem zunehmenden Interesse an dieser Technologie geführt. Basierend auf<br />
organischen Halbleitern kann heute eine Vielzahl an Bauteilen hergestellt werden. Bei-<br />
spiele hierfür sind LEDs, Photodioden, Solarzellen, Transistoren <strong>und</strong> Sensoren. Beson-<br />
ders im Bereich der Optoelektronik konnten sich organische Halbleiter durchsetzen, als<br />
Beispiel seien hier die OLED-Displays genannt, die in den letzten Jahren auf den Markt<br />
kamen.<br />
Die Vorteile, die organische Halbleiter gegenüber anorganischen liefern, sind vielfältig.<br />
Einige der herausragendsten Eigenschaften sind sicherlich die Möglichkeit der Verwen-<br />
dung <strong>von</strong> flexiblen, transparenten Kunststoffsubstraten, die Möglichkeit Bauteile zu<br />
drucken <strong>und</strong> die Möglichkeit der großflächigen Beschichtung <strong>von</strong> Substraten [1]. Des<br />
Weiteren können bei großtechnischem Einsatz im Vergleich zu traditionellen Verfahren<br />
enorme Kostenreduzierungen erreicht werden. Dies würde auch den Einsatz in intelli-<br />
genten Verpackungen oder als Einwegsensoren ermöglichen [2, 3].<br />
Ein weiterer vielversprechender Ansatz ist der Einsatz organischer Halbleiter in der<br />
Hybridtechnik, also der Kombination aus organischen <strong>und</strong> anorganischen Komponen-<br />
ten. Ziel ist hierbei unter anderem teure anorganische Elemente durch relativ günstige<br />
organische zu ersetzen. Das Hauptproblem beim Einsatz organischer Elektronik ist al-<br />
lerdings deren geringe Lebensdauer <strong>und</strong> Effizienz. In diesen Bereichen wurden allerdings<br />
in den letzten Jahren bedeutende Fortschritte erzielt [4].<br />
Photodioden sind nach den LEDs <strong>und</strong> Solarzellen wohl die optoelektronischen Bauteile<br />
mit der weitesten Verbreitung. Ihr Einsatz ist vielfältig, er reicht <strong>von</strong> der Verwendung<br />
in Lichtschranken bis hin zur Verwendung als Array in Sensorchips, wie sie in Digital-<br />
1
2<br />
1 Einleitung<br />
kameras oder Handys verbaut werden. Die heute am weitesten verbreiteten Techniken,<br />
die in Sensorchips für Digitalkameras eingesetzt werden, sind die CCD-Technik (engl.<br />
Charge-coupled Device) <strong>und</strong> die CMOS-Technik (engl. Complementary Metal Oxide Se-<br />
miconductor). Letztere wird vor allem als sogenannter Active Pixel Sensor eingesetzt.<br />
Bei diesen Bauteilen handelt es sich um ein Array aus Photodioden, in dem jede Di-<br />
ode eine eigene Verstärkerschaltung zur Signalauslese besitzt. Ein solcher Sensor besitzt<br />
gegenüber CCD-Sensoren viele Vorteile [5]:<br />
• Höhere Bildrate<br />
• Einzeln auslesbare Pixel<br />
• Größeres Signal -Rausch Verhältnis<br />
• Geringerer Stromverbrauch<br />
• Geringere Bauteilgröße durch Integration der Auswertelektronik<br />
• Geringerer Blooming-Effekt<br />
Allerdings wird durch die aufwendige Bauform ein geringerer Füllfaktor, das Verhältnis<br />
der lichtempfindlichen zur gesamten Pixelfläche, als bei CCD-Sensoren erzielt. Dies<br />
resultiert in einer geringeren Lichtempfindlichkeit, die den Einsatz teurer Mikrolinsen<br />
notwendig macht.<br />
Neuere Arbeiten haben gezeigt, dass bei Verwendung <strong>von</strong> organischen Halbleitern als<br />
photoaktive Fläche ein Füllfaktor <strong>von</strong> nahezu 100% erreicht werden kann [6]. Die Her-<br />
ausforderung der Kombination <strong>von</strong> organischen Halbleitern <strong>und</strong> der CMOS-Technik<br />
beruht auf der Tatsache, dass die Leiterbahnen der einzelnen Dioden mit einer Passier-<br />
vierungsschicht versehen werden müssen. Dies führt zu hohen Texturen auf der Oberflä-<br />
che, die an den Rändern der Pixel Höhen <strong>von</strong> etwa 1 µm erreichen können (Abbildung<br />
1.1). Aus diesem Gr<strong>und</strong> ist der Einsatz <strong>von</strong> Standardverfahren der organischen Halblei-<br />
tertechnik wie Rotationsbeschichten nicht möglich. Würden die organischen Halbleiter<br />
mittels Rotationsbeschichtung aufgebracht, würde dies durch Abschattungseffekte zu<br />
ungleichmäßigen Schichtdicken auf den Dioden führen.
1 Einleitung<br />
Abbildung 1.1: Raster-Kraft-Mikoskopaufnahme eines Pixels eines CMOS-Arrays<br />
Ein weiteres in der Industrie weit verbreitetes Beschichtungsverfahren ist das Sprü-<br />
hen. Hier wird im Gegensatz zum Rotationsbeschichten das Material vertikal aufge-<br />
tragen. Abschattungseffekte durch die Passivierungsschichten auf dem Chip können so<br />
vermieden werden. Dafür werden im Rahmen dieser Arbeit die Parameter zur Herstel-<br />
lung organischer Photodioden mittels Sprühbeschichtung untersucht. Hierfür werden<br />
die Verwendung verschiedene Lösungsmittel während des <strong>Herstellung</strong>sprozesses sowie<br />
die optimalen Parameter zur <strong>Herstellung</strong> einer Löcherleitschicht untersucht.<br />
3
2 Organische Halbleiter<br />
Polymere sind im Allgemeinen Isolatoren. Dass dies nicht immer der Fall ist, wurde<br />
erstmals 1977 <strong>von</strong> Chiang et al. bei dotiertem Polyacetylen beobachtet [7]. Diese Ent-<br />
deckung war so bahnbrechend, dass im Jahre 2000 Alan Heeger, Alan MacDiarmid <strong>und</strong><br />
Hideki Shirakawa der Nobelpreis in Chemie ” für die Entdeckung <strong>und</strong> Entwicklung <strong>von</strong><br />
leitenden Polymeren“ verliehen wurde.<br />
Es gibt zudem noch eine große Gruppe aus Polymeren, die auch im <strong>und</strong>otierten Zu-<br />
stand leitfähig sind. Auf diese wird in diesem Kapitel genauer eingegangen. Es wird<br />
zuerst der physikalische Hintergr<strong>und</strong> der Leitfähigkeit erklärt <strong>und</strong> schließlich auf den<br />
generellen Aufbau <strong>von</strong> organischen Photodetektoren eingegangen. Anschließend werden<br />
die verwendeten Materialien dargestellt.<br />
2.1 Hybridisierung<br />
Kohlenstoff ist der Gr<strong>und</strong>baustein aller Polymere. Als Element der 4. Hauptgruppe des<br />
Periodensystems der Elemente besitzt es 4 Valenzelektronen <strong>und</strong> die Elektronenkonfigu-<br />
ration 1s 2 2s 2 2p 2 . Das 2s-Niveau (radialsymmetrisch) kann, wenn zwei Kohlenstoffatome<br />
eine kovalente Bindung eingehen, mit den 3 2p-Niveaus (hantelförmig in den drei Raum-<br />
achsen) hybridisieren <strong>und</strong> 4 gleiche sp 3 -Niveaus formen. Diese sind tropfenförmig <strong>und</strong> in<br />
einem Winkel <strong>von</strong> 109,5 ◦ zueinander angeordnet. Gehen die Kohlenstoffatome allerdings<br />
eine Doppelbindung ein, kommt es zu einer sp 2 -Hybridisierung. Dabei hybridisieren nur<br />
2 der drei 2p-Niveaus mit dem 2s-Niveau zu drei sp 2 -Niveaus, die in einem Winkel <strong>von</strong><br />
120 ◦ zueinander stehen [8]. Dies ist in Abbildung 2.1 dargestellt.<br />
5
6<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.1: Die sp 2 -Hybridisierung. a) Ein sp 2 -Hybridorbital; b) Geometrie eines<br />
sp 2 -hybridisierten C-Atoms; c) <strong>und</strong> d) σ- <strong>und</strong> π-Bindungen am Beispiel<br />
eines Ethenmoleküls [9].<br />
Abbildung 2.2: Schematische Darstellung der Energieniveaus bei a) sp 3 -Hybridisierung<br />
<strong>und</strong> b) sp 2 -Hybridisierung
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.3: a) Bindungsverhältnisse in Butadien; b) Molekülorbital <strong>von</strong> Butadien<br />
[9].<br />
Die drei sp 2 -Niveaus richten sich in der Ebene aus <strong>und</strong> das übriggebliebene 2p-Niveau<br />
steht senkrecht zu ihnen. Die sp 2 -Niveaus beider Kohlenstoffatome bilden nun eine Bin-<br />
dung in der Symmetrieebene beider Atome. Diese wird σ-Bindung genannt. Nun stehen<br />
die 2p-Niveaus senkrecht zur Bindungsebene <strong>und</strong> sind mit jeweils nur einem Elektron<br />
besetzt. Sie kommen sich bei der Bindung so nahe, dass sie sich überlappen können. Auf<br />
diese Weise entsteht nun aus den beiden p-Orbitalen ein mit zwei Elektronen besetztes<br />
Molekülorbital, das zweigeteilt ist <strong>und</strong> sich über <strong>und</strong> unter der Symmetrieebene des<br />
Moleküls befindet. Diese Bindung wird als π-Bindung bezeichnet. Die Überlappung ist<br />
hier geringer als bei der σ-Bindung, weshalb die π-Bindung weniger stabil <strong>und</strong> somit<br />
reaktionsfreudiger ist [9].<br />
2.2 Konjugierte Polymere<br />
Die Fähigkeit <strong>von</strong> Kohlenstoff in Verbindung mit anderen Atomen lange Ketten aus<br />
Molekülen zu formen ist eine wichtige Gr<strong>und</strong>lage der organischen Chemie. Dieser Pro-<br />
zess wird Polymerisation genannt. Die aus diesem Prozess hervorgehenden Ketten oder<br />
Netzwerke werden Polymere genannt. Bestehen diese Ketten aus kovalent geb<strong>und</strong>enen<br />
Kohlenstoffatomen mit abwechselnd Doppel- <strong>und</strong> Einfachbindungen, spricht man <strong>von</strong><br />
einem konjugiertem Polymer. Ein Beispiel hierfür ist in Abbildung 2.3 anhand <strong>von</strong> 1,3-<br />
Butadien dargestellt.<br />
7
8<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Die zur Symmetrieebene senkrecht stehenden 2p-Niveaus überlappen sich seitlich. Die<br />
Elektronen der dabei entstehenden π-Bindung können sich nun über das ganze Molekül<br />
ausbreiten <strong>und</strong> formen so ein Molekülorbital, das über die gesamte Kette reicht. Die<br />
π-Elektronen können nun nicht mehr einem Atom zugeordnet werden [9].<br />
2.3 Ladungstransport<br />
Nach der Molekülorbitaltheorie können sich bei der Bildung <strong>von</strong> π-Orbitalen zwei Bin-<br />
dungszustände ausbilden. Ein bindender <strong>und</strong> ein antibindender Zustand (siehe Abbil-<br />
dung 2.2 b)). Der bindende Zustand ist energetisch niedriger als der antibindende. Aus<br />
diesem Gr<strong>und</strong> ist in der Regel der antibindende Zustand unbesetzt <strong>und</strong> der bindende<br />
voll besetzt [10].<br />
Aus Abbildung 2.2 b) wird auch ersichtlich, dass sich in einem solchen Polymer eine<br />
Bandstruktur ähnlich eines anorganischen Halbleiters abzeichnet. Das Valenzband wird<br />
durch den höchsten besetzten bindenden Zustand repräsentiert. Er wird als ” Highest<br />
Occupied Molecular Orbital“ oder HOMO bezeichnet. Das Leitungsband spiegelt den<br />
niedrigsten antibindenden Zustand wieder. Dieser wird als ” Lowest Unoccupied Mole-<br />
cular Orbital“ oder LUMO bezeichnet. Die Bandlücke des organischen Halbleiters wird<br />
durch den Energieunterschied zwischen HOMO <strong>und</strong> LUMO festgelegt. Ein Elektron<br />
kann durch optische Anregung <strong>von</strong> HOMO ins LUMO gehoben werden.<br />
Der weitere Transport der Ladungen kann nun in zwei Klassen eingeteilt werden: inter-<br />
molekular <strong>und</strong> intramolekular. Beim intramolekularen Transport verbleibt das Elektron<br />
auf dem Molekül. Es ist jedoch durch die Überlappung der π-Orbitale innerhalb des Mo-<br />
leküls frei beweglich. Als intermolekularer Transport wird der Transport der einzelnen<br />
Ladungsträger zwischen den Molekülen bezeichnet. Dieser ist stark <strong>von</strong> äußeren Fak-<br />
toren wie Temperatur, Kristallinität <strong>und</strong> <strong>von</strong> chemischen <strong>und</strong> strukturellen Defekten<br />
abhängig [11]. Die auf den einzelnen Polymerketten lokalisierten Elektronen springen<br />
(engl. ” hopping“) dabei <strong>von</strong> einem Polymer auf das nächste [11, 12]. Das Überwinden<br />
der Energiebarriere erfolgt hierbei zum einen durch Tunnelprozesse, zum anderen durch
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.4: Gaussverteilung der lokalisierten Zustände im Verhältnis zu HOMO <strong>und</strong><br />
LUMO eines ungeordneten organischen Materials [4].<br />
thermische Anregung. Der hopping-Prozess ist der Gr<strong>und</strong> für die in organischen Halblei-<br />
tern im Vergleich zu anorganischen Halbleitern niedrige Ladungsträgerbeweglichkeit.<br />
Da das Absorptions- <strong>und</strong> Floureszenzspektrum <strong>von</strong> ungeordneten organischen Materia-<br />
lien normalerweise ein gaussförmiges Profil besitzt, wird für die lokalisierten Zustände<br />
ebenfalls eine Gaussverteilung angenommen. Die Energieverteilung (ρ(E)) dieser gauss-<br />
förmigen Zustandsdichte wird durch folgende Formel angenähert [13]:<br />
ρ(E) = Nt<br />
σ √ E2<br />
exp −<br />
2π 2σ2 (2.1)<br />
Wobei Nt die absolute Zustandsdichte, E die Energie relativ zum Zentrum der gaussför-<br />
migen Zustandsdichte <strong>und</strong> σ die Standardabweichung der gaussförmigen Zustandsdichte<br />
darstellt. In Abbildung 2.4 ist der Ladungstransport durch hopping schematisch darge-<br />
stellt.<br />
9
10<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.5: Schematische Darstellung eines auf dem Bulk-Heterojunktion-Prinzip<br />
beruhenden organischen Photodetektors<br />
2.4 Bulk Heterojunktion<br />
Die optische Anregung <strong>von</strong> organischen Halbleitern unterscheidet sich <strong>von</strong> der in an-<br />
organischen. Bei der Absorption <strong>von</strong> Photonen wird zunächst ein Exziton genanntes<br />
Elektronen-Loch-Paar gebildet, das durch Coulombkräfte aneinander geb<strong>und</strong>en ist. In<br />
anorganischen Halbleitern ist die Bindungsenergie jedoch deutlich geringer als die ther-<br />
mische Energie der Elektronen bei Raumtemperatur. Aus diesem Gr<strong>und</strong> dissoziiert das<br />
Frenkel-Exziton genannte Elektronen-Loch-Paar sofort <strong>und</strong> Elektron <strong>und</strong> Loch können<br />
sich über mehrere 10 µm bewegen, bevor sie rekombinieren [14].<br />
Bei anorganischen Halbleitern hingegen ist die Bindungsenergie der Exzitonen deutlich<br />
höher <strong>und</strong> kann bis zu 1 eV erreichen. Diese Exzitonen werden Wannier-Exzitonen ge-<br />
nannt. Durch ihre starke Bindungsenergie bleiben sie geb<strong>und</strong>en <strong>und</strong> wandern als Paar<br />
durch den Festkörper. In einer Photodiode müssen die Exzitonen allerdings für den La-<br />
dungstransport getrennt werden. Dies kann zum Beispiel durch ein externes elektrisches<br />
Feld oder durch den Potentialunterschied am Heteroübergang zwischen Elektronenak-<br />
zeptor <strong>und</strong> Elektronendonator erfolgen [15, 16].<br />
Die Diffusionsweite der Exzitonen beträgt dabei nur wenige Nanometer, bevor diese re-<br />
kombinieren [15]. Werden Elektronenakzeptor <strong>und</strong> -donator nun einfach in zwei Schich-<br />
ten aufeinander aufgebracht, können nur Exzitonen, die in dieser Entfernung zum He-<br />
teroübergang erzeugt werden, getrennt werden. Alle Exzitonen, die außerhalb dieses<br />
Bereiches erzeugt werden, gehen durch Rekombination verloren. Um die Effizienz des
2 Organische Halbleiter<br />
Bauteils zu erhöhen muss die aktive Schicht so gestaltet werden, dass sich ein Hetero-<br />
übergang immer in Diffusionsreichweite befindet. Eine Möglichkeit dies zu erreichen ist<br />
das Mischen <strong>von</strong> Elektronenakzeptor <strong>und</strong> -donator. Auf diese Weise entsteht ein Netz-<br />
werk aus Heteroübergängen über die komplette Höhe der Schicht. Man spricht in diesem<br />
Fall <strong>von</strong> einer ” Bulk Heterojunction“ [17, 18]. Dies ist in Abbildung 2.5 dargestellt.<br />
2.5 Aufbau organischer Photodetektoren<br />
Eine einfache organische Photodiode besteht aus drei Schichten: der Kathode, der Anode<br />
<strong>und</strong> der photoaktiven Schicht in Form einer Bulk Heterojunktion. Um den durch die<br />
Injektion <strong>von</strong> Ladungsträger aus der Anode verursachten Dunkelstrom zu reduzieren,<br />
wird meist noch eine Löcherleitschicht eingefügt.<br />
Die Anode wird auf ein Glassubstrat aufgebracht <strong>und</strong> besteht üblicherweise aus einem<br />
Metall. Häufig wird hierbei ITO (engl. Indium-Tin-Oxide) verwendet. Auf diese folgt<br />
eine PEDOT:PSS-Schicht als Löcherleiter <strong>und</strong> darauf die photoaktive P3HT:PCBM-<br />
Schicht. Abgeschlossen wird der Schichtstapel durch eine Kathode aus einem Material<br />
mit niedriger Austrittsarbeit wie Aluminium [19–25]. Es wird in diesem Fall <strong>von</strong> einem<br />
” bottom absorbing device“ gesprochen, da das Licht aufgr<strong>und</strong> der <strong>und</strong>urchsichtigen<br />
Kathode durch das Glassubstrat <strong>von</strong> unten“ einfällt.<br />
”<br />
Der Aufbau <strong>von</strong> organischen Photodioden unterscheidet sich durch die Bulk Hetero-<br />
junktion zwar gravierend <strong>von</strong> dem anorganischer Photodioden, ihr Strom-Spannungs-<br />
Verhalten gleicht allerdings trotzdem nahezu dem <strong>von</strong> anorganischen Dioden <strong>und</strong> kann<br />
analog behandelt werden. Die Kennlinie einer Photodiode gleicht, solange sie nicht mit<br />
Licht bestrahlt wird, der einer normalen Diode. In Abbildung 2.6 ist eine solche Kenn-<br />
linie mit <strong>und</strong> ohne Beleuchtung dargestellt.<br />
Die Kennlinie lässt sich in drei Bereiche einteilen: den Durchlassbereich, den Sperrbe-<br />
reich <strong>und</strong> den Durchbruchbereich. Wird eine Diode in Durchlass- oder Vorwärtsrichtung<br />
betrieben, fließt zunächst kein Strom. Wird die Spannung kontinuierlich erhöht, fließt<br />
zunächst nahezu kein Strom, bis die Diode bei der Schleusenspannung US durchläs-<br />
11
12<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.6: Schematische Darstellung der Kennlinie einer Photodiode (Bereich in<br />
Sperrichtung wird zur besseren Veranschaulichung in einem größeren<br />
Maßstab dargestellt)
2 Organische Halbleiter<br />
sig wird. In Vorwärtsrichtung kann der Verlauf des Stromflusses nach der Shockley-<br />
Gleichung beschrieben werden [26].<br />
ID = IS<br />
�<br />
e U<br />
�<br />
nUT − 1<br />
(2.2)<br />
mit dem Diodenstrom ID, dem Sperrstrom IS der Temperaturspannung UT bei Raum-<br />
temperatur T = 298 K<br />
UT = kB · T<br />
e<br />
= 25 meV (2.3)<br />
Wird die Photodiode nun in Sperrrichtung betrieben, sollte kein Stromfluss erfolgen. Da<br />
jedoch durch thermische Effekte eine Generation <strong>von</strong> Elektronen-Loch-Paaren erfolgt,<br />
fließt ein kleiner Leckstrom Id, der im Falle der Photodiode Dunkelstrom genannt wird<br />
[14]. Verursacht wird er durch die thermische Generation <strong>von</strong> Ladungsträgern [5]. Der<br />
Dunkelstrom ist für Photodioden <strong>von</strong> besonderer Bedeutung. Durch ihn wird festgelegt,<br />
wie klein die eingestrahlte Lichtleistung sein darf, ohne im Gr<strong>und</strong>rauschen der Diode un-<br />
terzugehen. Wird die Spannung nun bis zur Durchbruchspannung UD erhöht, kommt es<br />
zum ” Durchbruch“, woraufhin der Strom schlagartig ansteigt. Dies wird normalerweise<br />
vermieden, da die Diode dabei in der Regel zerstört wird.<br />
Wird die Diode nun mit Licht bestrahlt, ändert sich die Kennlinie erheblich. Durch<br />
die einfallenden Photonen werden deutlich mehr Ladungsträger erzeugt als vorher. Dies<br />
spiegelt sich in einem deutlich erhöhten Stromfluss Il in Fluss- sowie in Sperrrichtung<br />
wieder (siehe Abbildung 2.6). Der Photostrom sollte, um die Sensitivität der Diode zu<br />
erhöhen, möglichst groß sein.<br />
In Abbildung 2.7 ist das vereinfachte Banddiagramm einer organischen Photodiode<br />
bei den unterschiedlichen Betriebsbedingungen dargestellt. Die unterschiedlichen Aus-<br />
trittsarbeiten der Elektroden verursachen unter Kurzschlussbedingungen ein built-in-<br />
Potential, welches eine konstante Verschiebung <strong>von</strong> HOMO-, LUMO- <strong>und</strong> Vakuumlevel<br />
verursacht. Wird eine Spannung in Vorwärtsrichtung angelegt, also die Anode an po-<br />
sitiven <strong>und</strong> die Kathode an den negativen Pol, werden Elektronen <strong>von</strong> der Kathode<br />
13
14<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Abbildung 2.7: Vereinfachtes Banddiagramm einer organischen Photodiode a) ” open<br />
circuit“-Bedingung b) Kurzschluss-Bedingung c) Vorwärtsspannung d)<br />
Sperrrichtung
2 Organische Halbleiter<br />
in das LUMO-Level <strong>und</strong> Löcher <strong>von</strong> der Anode in das HOMO-Level der photoaktiven<br />
Schicht injiziert. Durch das elektrische Feld wandern die Elektronen daraufhin zur An-<br />
ode, während die Löcher zur Kathode wandern. Wird eine Spannung in Sperrrichtung<br />
angelegt, verhindert das elektrische Feld die Injektion <strong>von</strong> Ladungsträgern in die photo-<br />
aktive Schicht <strong>und</strong> Ladungsträger können nur durch einfallendes Licht generiert werden<br />
[5].<br />
Durch thermische Anregung oder Fowler-Nordheim-Tunneln können im Sperrbetrieb<br />
Elektronen aus der Anode in die photoaktive Schicht injiziert werden [16]. Diese sind<br />
zusätzlich zu den innerhalb der photoaktiven Schicht thermisch generierten Ladungsträ-<br />
gern ein weiterer Gr<strong>und</strong> für den Dunkelstrom. Durch das Einfügen der PEDOT:PSS-<br />
Schicht, die löcherleitend ist, wird eine zusätzliche Barriere eingebracht, die die La-<br />
dungsträgerinjektion <strong>und</strong> somit den Dunkelstrom deutlich reduziert.<br />
2.6 Materialien<br />
In Kapitel 2.4 <strong>und</strong> 2.5 wird der gr<strong>und</strong>sätzliche Aufbau der Photodioden beschrieben.<br />
Die hierfür verwendeten Materialien <strong>und</strong> Lösungsmittel werden nun in diesem Kapitel<br />
vorgestellt. Zunächst wird auf die für die Bulk Heterojunktion verwendeten halbleiten-<br />
den Polymere eingegangen <strong>und</strong> anschließend auf die PEDOT:PSS Löcherleitschicht <strong>und</strong><br />
die zur <strong>Herstellung</strong> der für die Sprühbeschichtung notwendigen Lösungen verwende-<br />
ten Lösungsmittel. Die eigentliche <strong>Herstellung</strong> der Sprühlösungen wird in Kapitel 3.2.7<br />
beschrieben.<br />
2.6.1 Elektronendonator<br />
Bei dem in dieser Arbeit für die Bulk Heterojunktion verwendeten Elektronendonator<br />
handelt es sich um Poly(3-hexylthiophen) oder P3HT. Die chemische Struktur ist in<br />
Abbildung 2.8 dargestellt. Die Valenzbandkante beziehungsweise das HOMO-Niveau<br />
befindet sich 4,9-5,2 eV unterhalb des Vakuumniveaus. Das Leitungsband oder LUMO-<br />
15
16<br />
2 Organische Halbleiter<br />
Niveau liegt 2,9-3,3 eV unterhalb des Vakuumniveaus. Daraus ergibt sich eine Bandlücke<br />
<strong>von</strong> etwa 1,9 eV [27, 28].<br />
2.6.2 Elektronenakzeptor<br />
Als Elektronenakzeptor in der Bulk Heterojunktion wurde das Fulleren-Derivat [6,6]-<br />
Phenyl-C61-butansäuremethylester oder PCBM verwendet. Dieses ist im Gegensatz zu<br />
normalen C60-Fullerenen löslich <strong>und</strong> kann in den gleichen Lösungsmitteln wie das P3HT<br />
gelöst werden. Das HOMO-Niveau befindet sich 6,1-6,8 eV unterhalb des Vakuumnive-<br />
aus. Das Leitungsband oder LUMO-Niveau liegt 3,7-4,1 eV unterhalb des Vakuumnive-<br />
aus. Daraus ergibt sich eine Bandlücke <strong>von</strong> etwa 2,7 eV [27, 28].<br />
2.6.3 Löcherleitschicht<br />
Als Zwischenschicht zwischen Aluminiumelektrode <strong>und</strong> Bulk Heterojunktion wurde<br />
ein wasserlösliches, konjugiertes Polymer bestehend aus einer Mischung aus Poly(3,4-<br />
ethylene-dioxythiophene) (PEDOT) <strong>und</strong> Natrium-Polystyrolsulfonat (PSS) verwendet.<br />
Dieses wird nachfolgend als PEDOT:PSS bezeichnet. Der Zusatz <strong>von</strong> PSS ist nötig um<br />
eine Löslichkeit des PEDOT in Wasser zu ereichen. Es dient zudem, wie in Kapitel<br />
2.5 beschrieben, mit seiner Austrittsarbeit <strong>von</strong> 5.2 eV <strong>und</strong> Bandlücke <strong>von</strong> circa 1.5 eV<br />
auch als Löcherleitschicht <strong>und</strong> blockiert den Elektronenfluss aus der Elektrode in die<br />
photoaktive Schicht [28]. Seine chemische Struktur ist in Abbildung 2.10 dargestellt.<br />
2.6.4 Lösungsmittel<br />
Die in den vorhergehenden Abschnitten beschriebenen Polymere wurden bis auf das<br />
PEDOT:PSS, welches in Wasser gelöst wurde, für den Sprühprozess in drei verschiede-<br />
nen Lösungsmitteln gelöst. Hierbei handelt es sich um die Aromaten Toluol, Xylol <strong>und</strong><br />
1,2-Dichlorbenzol. Einige Eigenschaften der drei Lösungsmittel sind in der Tabelle 2.1<br />
kurz aufgelistet. Die Dichte <strong>und</strong> Viskosität <strong>von</strong> den chemisch sehr ähnlichen Toluol <strong>und</strong>
2 Organische Halbleiter<br />
(a) (b)<br />
Abbildung 2.8: Poly(3-hexylthiophen) a) Chemische Struktur b) Energiediagramm mit<br />
HOMO <strong>und</strong> LUMO Level im Verhältnis zum Vakuumniveau<br />
(a) (b)<br />
Abbildung 2.9: Poly(3-hexylthiophen) a) Chemische Struktur b) Energiediagramm mit<br />
HOMO <strong>und</strong> LUMO Level im Verhältnis zum Vakuumniveau<br />
17
18<br />
2 Organische Halbleiter<br />
(a) (b)<br />
Abbildung 2.10: Chemische Struktur <strong>von</strong> PEDOT:PSS a) Poly(3,4ethylenedioxythiophene)<br />
(PEDOT) b) Polystyrolsulfonat (PSS)<br />
Xylol sind nahezu identisch. 1,2-Dichlorbenzol hingegen besitzt eine höhere Dichte <strong>und</strong><br />
ist mit einer mehr als doppelt so hohen Viskosität deutlich zähflüssiger.<br />
Tabelle 2.1: Eigenschaften der zur <strong>Herstellung</strong> der Sprühlösungen verwendeten<br />
Lösungsmittel<br />
Eigenschaft 1,2-Dichlorbenzol Toluol Xylol<br />
Siedepunkt [ ◦ C] 179 111 144<br />
Schmelzpunkt [ ◦ C] −17 −95 −25<br />
Dichte [g cm −3 ] 1.31 0.87 0.87<br />
Viskosität(dynamisch) [m Pa s] 1.32 0.6 0.61
3 Methodik<br />
Im Rahmen dieser Arbeit wurden für die <strong>Herstellung</strong> der Proben <strong>und</strong> deren Vermes-<br />
sung eine Vielzahl verschiedener Methoden <strong>und</strong> Materialien verwendet. In diesem Kapi-<br />
tel wird auf diese im Einzelnen eingegangen. Dabei wird zuerst das Layout der Proben<br />
beschrieben, gefolgt <strong>von</strong> einer Beschreibung der einzelnen <strong>Herstellung</strong>sschritte. Den Ab-<br />
schluss bildet eine Betrachtung der Messverfahren, die zur <strong>Charakterisierung</strong> eingesetzt<br />
werden.<br />
3.1 Probenlayout<br />
Beim Layout der Proben muss darauf geachtet werden, dass ihr Aufbau möglichst genau<br />
dem der CMOS-Chips entspricht, die auf Basis dieser <strong>und</strong> weiterer Arbeiten hergestellt<br />
werden sollen. Auch sollten um den Materialverbrauch während der Untersuchungen<br />
möglichst gering zu halten, die Proben nicht unnötig groß sein, da im Gegensatz zu<br />
Solarzellen, wo eine möglichst große Fläche zur Energiegewinnung wünschenswert ist,<br />
in Bildsensoren viele sehr kleine Pixel eingesetzt werden. Sie dürfen allerdings auch nicht<br />
zu klein sein, um eine unnötig aufwendige <strong>und</strong> somit teure <strong>Herstellung</strong> zu vermeiden.<br />
Hierfür muss zum einen der Aufbau der Schichten <strong>und</strong> zum anderen das Layout der<br />
Kathoden betrachtet werden.<br />
19
20<br />
3 Methodik<br />
Abbildung 3.1: Schichtaufbau einer organischen Photodiode [29]<br />
3.1.1 Schichtaufbau<br />
Bei organischen Solarzellen <strong>und</strong> Photodetektoren erfolgt der Lichteintritt wie in Kapitel<br />
2.5 beschrieben in der Regel durch die untere Elektrode. Das Ziel der Forschung an orga-<br />
nischen Photodetektoren ist auch jedoch deren späterer Einsatz in der CMOS-Technik.<br />
Bei dieser liegt das Substrat in Form eines licht<strong>und</strong>urchlässigen Siliziumwafers vor. Des<br />
Weiteren erfolgt die Metallisierung in der CMOS-Technik üblicherweise mit Aluminium,<br />
welches eine niedrige Austrittsarbeit besitzt [29]. Da das Aluminium aufgr<strong>und</strong> seiner<br />
niedrigen Austrittsarbeit als Kathode fungiert, muss der gesamte Schichtaufbau im Ver-<br />
gleich zu Standarddioden invertiert werden. Der daraus folgende Schichtaufbau ist in<br />
Abbildung 3.1 dargestellt.<br />
Bei der untersten Schicht handelt es sich um die Aluminiumkathode, gefolgt <strong>von</strong> der<br />
photoelektrischen P3HT:PCBM-Schicht. Auf diese wird dann die Löcherleitschicht auf-<br />
gebracht, gefolgt <strong>von</strong> einer 20 nm dicken Goldschicht, die als Anode fungiert. Die Gold-<br />
schicht besitzt nur eine maximale Transparenz <strong>von</strong> circa 50 %, verringert die Effizienz<br />
der Photodioden also stark. Sie kann jedoch durch eine transparente Polymeranode<br />
ersetzt werden (siehe Kapitel 6.1).
3 Methodik<br />
Abbildung 3.2: Foto fertiger Dioden mit unterschiedlichen Kathodendesigns<br />
3.1.2 Kathodenlayout<br />
Die aktive Fläche <strong>von</strong> Photodioden kann durch die Form der Kathoden oder Anoden<br />
festgelegt werden. Nur auf der Fläche, auf der sich beide überlappen, kommt es zu einer<br />
effektiven Ladunsgträgertrennung <strong>und</strong> somit zu einem Stromfluss. Im vorliegenden Fall<br />
wurde die Diodenfläche in der Regel durch die Form der Kathode festgelegt. Es wer-<br />
den zwei Designs verwendet, diese sind in Abbildung 3.2 dargestellt. Bei der Erstellung<br />
der Designs wurde darauf geachtet, dass die Fläche während des Sprühprozesses repro-<br />
duzierbar getroffen werden kann <strong>und</strong> dass eine Verkapselung mit genug Abstand zum<br />
Rand der Dioden möglich ist, um sowohl Abschattungseffekte zu vermeiden, als auch<br />
das Eindiff<strong>und</strong>ieren <strong>von</strong> Sauerstoff in die photoaktive Schicht zu minimieren.<br />
Das erste Design (Abbildung 3.2 Mitte)) besitzt 8 Dioden pro Probe. Dies ermöglicht<br />
die <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> 4 mal 2 Dioden mit jeweils unterschiedlichen Sprühparametern<br />
(Kapitel 3.2.2) oder 8 identischen Dioden mittels Rotationsbeschichtung (Kapitel 3.2.4).<br />
Die Fläche der einzelnen Dioden beträgt 7 mm 2 .<br />
Das zweite Design (Abbildung 3.2 rechts)) besitzt 6 Dioden pro Probe. Diese sind ra-<br />
dialsymmetrisch zum Mittelpunkt der Probe angeordnet <strong>und</strong> besitzen ebenfalls eine<br />
Fläche <strong>von</strong> 7 mm 2 . Bei diesem Design werden alle Dioden mit denselben Parametern<br />
hergestellt, ermöglichen aber eine vollständige R<strong>und</strong>umverkapselung der einzelnen Di-<br />
21
22<br />
3 Methodik<br />
oden mit einem gleichmäßigen Abstand zum Rand der Verkapselung. Auf diese Weise<br />
soll die Degradation der Dioden verringert werden (siehe Kapitel 4.4).<br />
3.1.3 Probenhalter<br />
Um die Gefahr möglicher Messfehler zu minimieren <strong>und</strong> eine möglichst einfache Hand-<br />
habung der fertigen Proben während der Messungen zu ermöglichen, wurde für beide<br />
Probendesigns eine Probenhalterung hergestellt. Diese bestehen aus zwei Teilen <strong>und</strong><br />
sind in Abbildung 3.3 dargestellt. Die Gr<strong>und</strong>form bildet ein Plexiglassockel mit einer<br />
Vertiefung zur Aufnahme der Probe, die deren Maßen entspricht. Auf diesen wird eine<br />
mit Kontaktstiften versehene Leiterplatte aufgelegt <strong>und</strong> mit vier Schrauben befestigt. In<br />
der Mitte der Leiterplatte befindet sich eine Öffnung um die ungehinderte Bestrahlung<br />
der Probe mit Licht zu ermöglichen. Durch die gefederten Kontaktstifte wird sicherge-<br />
stellt, das an allen Dioden der Probe immer der gleiche Anpressdruck vorliegt <strong>und</strong> so<br />
eine guter elektrischer Kontakt sichergestellt ist. Die einzelnen Dioden können mittels<br />
eines Dip-Schalters ausgewählt werden. Dieser <strong>und</strong> der Anodenkontakt sind mit einer<br />
BNC-Buche verb<strong>und</strong>en, über die das Messsignal abgenommen wird.<br />
Abbildung 3.3: Abbildung des Probenhalters mit den Leiterplatten für beide<br />
Probendesigns
3.2 <strong>Herstellung</strong>sverfahren<br />
3 Methodik<br />
Durch den <strong>Herstellung</strong>sprozess können die Eigenschaften <strong>und</strong> die Leistungsfähigkeit der<br />
organischen Photodetektoren maßgeblich beeinflusst werden. In diesem Kapitel werden<br />
die <strong>Herstellung</strong>sschritte eines organischen Photodetektors im Einzelnen dargelegt. Als<br />
Basis für die Photodetektoren dienen Glasplättchen der Maße 1.5 mm × 25 mm × 25 mm.<br />
Diese werden vor Beginn der Prozessierung in einem Ultraschallbad jeweils für 10 Mi-<br />
nuten in Aceton <strong>und</strong> Isopropanol gereinigt, um eventuelle Verschmutzungen zu beseiti-<br />
gen.<br />
Der Ablauf eines typischen <strong>Herstellung</strong>sprozesses verläuft wie folgt:<br />
1. Probenreinigung<br />
2. Aufdampfen der Aluminium-Kathode<br />
3. Aufbringen der P3HT:PCBM-Schicht<br />
4. Tempern 1<br />
5. Plasmabehandlung<br />
6. Aufbringen des PEDOT:PSS<br />
7. Tempern 2 <strong>und</strong> 3<br />
8. Aufdampfen der Gold-Anode<br />
9. Verkapselung<br />
3.2.1 Aufdampfen der Elektroden<br />
Die Elektroden werden mittels thermischen Verdampfens hergestellt. Hierbei handelt es<br />
sich um ein weit verbreitetes Verfahren zur <strong>Herstellung</strong> dünner Schichten. Dabei wird<br />
23
24<br />
3 Methodik<br />
Tabelle 3.1: Parameter der einzelnen Temperschritte für Rotationsbeschichtung <strong>und</strong><br />
Sprühbeschichtung<br />
Prozessschritt Temperatur Rotationsbeschichtung Sprühbeschichtung<br />
[ ◦ C] [min] [min]<br />
Tempern 1 140 5 3<br />
Tempern 2 100 - 5<br />
Tempern 3 140 10 7<br />
ein Substrat gegenüber einer Materialquelle angebracht, in der ein Material soweit er-<br />
hitzt wird, dass es in die Gasphase übertritt. Die Atome kondensieren daraufhin auf der<br />
kühlen Substratoberfläche <strong>und</strong> formen eine geschlossene Schicht. Damit die Atome auf<br />
ihrem Weg zum Substrat nicht ihre kinetische Energie durch Stöße mit Gaspartikeln<br />
verlieren oder mit diesen reagieren, wird der Vorgang üblicherweise unter Hochvakuum-<br />
bedingungen (p < 10 −5 mbar) durchgeführt [30].<br />
Das Erhitzen des Materials erfolgt in der Regel durch Widerstandsheizen. Dabei wird<br />
durch ein Wolframplättchen (Schiffchen oder Boot genannt) mit einer Vertiefung, die<br />
das Verdampfungsmaterial enthält, ein hoher Strom geleitet. Durch den Stromfluss er-<br />
hitzt sich das Schiffchen über den Schmelzpunkt des Verdampfungsmaterials, welches<br />
daraufhin verdampft.<br />
Um definierte Strukturen aufzudampfen werden Masken verwendet. Diese verhindern<br />
in bestimmten Bereichen das Kondensieren des Schichtmaterials durch das Abschatten.<br />
Das Layout der so entstandenen Strukturen ist in Kapitel 3.1.2 dargestellt.<br />
Bei der Aufdampfung der 20 nm dicken Gold-Anode auf Polymerschichten müssen noch<br />
zusätzliche Faktoren in Betracht gezogen werden. Zum einen darf die Quelle nicht zu<br />
heiß sein, da sonst die Polymere durch mittels Strahlung übertragener Wärme zu stark<br />
erhitzt <strong>und</strong> so beschädigt werden können. Zum anderen dürfen die Goldatome keine zu<br />
hohe kinetische Energie besitzen, da sie sonst die Polymeroberfläche beschädigen oder<br />
durchdringen könnten. Dies kann zu einer Ausbildung <strong>von</strong> Kurzschlusspfaden durch die<br />
Polymere <strong>und</strong> zur Erhöhung <strong>von</strong> Leckströmen führen [16].
3 Methodik<br />
Um dies zu verhindern muss mit einer möglichst geringen Quellentemperatur gearbeitet<br />
werden, was eine geringe Aufdampfrate verursacht. Üblicherweise wird eine Rate <strong>von</strong><br />
0.2 ˚ A/s verwendet. Bei der Aufdampfung der 100 nm dicken Aluminiumschicht hingegen<br />
ist eine Beschädigung des Substrates nicht zu befürchten, weshalb hier eine Aufdampfra-<br />
te <strong>von</strong> 1.0 ˚ A/s verwendet wird.<br />
3.2.2 Sprühbeschichtungen<br />
Bei der Sprühbeschichtung handelt es sich um ein in der Industrie häufig eingesetz-<br />
tes Verfahren. Es ist eines der billigsten Verfahren zur großflächigen Beschichtung <strong>von</strong><br />
Bauteilen mit Polymerlösungen. Ein Beispiel hierfür ist die Lackierung <strong>von</strong> Fahrzeu-<br />
gen. Neuere Untersuchungen zeigen, dass durch Sprühbeschichtungen auch organische<br />
Photodetektoren <strong>und</strong> Solarzellen hergestellt werden können [31–40].<br />
Abbildung 3.4: Schematischer Darstellung des Sprühaufbaus<br />
25
26<br />
3 Methodik<br />
Abbildung 3.4 zeigt den Aufbau des für diese Arbeit verwendeten Sprühaufbaus. Bei<br />
dem Sprühkopf handelt es sich um einen pneumatisch gesteuerten Sprühkopf der Firma<br />
Krautzberger GmbH vom Typ M-10. Es handelt sich um eine Zweistoffdüse mit äußerer<br />
Mischung. Bei diesem System, das auch im Airbrush-Bereich weit verbreitet ist, treffen<br />
die zu zerstäubende Flüssigkeit <strong>und</strong> das Treibgas erst außerhalb der Düse aufeinander.<br />
Die nicht unter Druck stehende Flüssigkeit tritt in der Mitte der Düse aus <strong>und</strong> trifft<br />
dann auf das aus einer umgebenden Ringdüse mit hoher Geschwindigkeit austretende<br />
Treibgas. Das Treibgas zerteilt daraufhin die austretende Flüssigkeit in feine Tröpfchen.<br />
Durch den Druck des Treibgases p lässt sich die Größenverteilung der so entstehenden<br />
Tröpfchen beeinflussen. Wird der Druck erhöht, verschiebt sich die Größenverteilung zu<br />
feineren Tröpfchen [41]. Als Treibgas wird für diese Arbeit Stickstoff verwendet um den<br />
Sauerstoffkontakt der Polymerlösungen möglichst gering zu halten.<br />
Während des Sprühprozesses sind der Abstand d des Substrates zum Sprühkopf <strong>und</strong> die<br />
Temperatur des Substrates <strong>von</strong> entscheidender Bedeutung. Für die Ermittlung des Ab-<br />
standes werden drei Bereiche unterschieden: der nasse Bereich, der trockene Bereich <strong>und</strong><br />
der Zwischenbereich [32, 42]. Im nassen Bereich ist der Abstand zwischen Substrat <strong>und</strong><br />
Sprühkopf zu gering, so dass sich eine nasse Polymerschicht bildet, die ungleichmäßig<br />
ist <strong>und</strong> somit nur einen geringen Einfluss auf die Schichtdicke erlaubt. Ist der Abstand<br />
zwischen Sprühkopf <strong>und</strong> Substrat zu groß, verdampft das Lösungsmittel in den Sprüh-<br />
tropfen, bevor diese das Substrat erreichen. Es bildet sich ein Polymerpulver, welches<br />
durch das Treibgas weggeblasen wird. Im Zwischenbereich hingegen können homoge-<br />
ne dünne Schichten hergestellt werden, deren Schichtdicke durch die Sprühzeit t genau<br />
festgelegt werden kann. Die Verdampfungsrate des Lösungsmittels in der zerstäubten<br />
Flüssigkeit <strong>und</strong> somit die Lage der drei Bereiche ist stark <strong>von</strong> den Eigenschaften des<br />
verwendeten Lösungsmittels abhängig. Die Entfernung des Sprühkopfes kann also ab-<br />
hängig vom Lösungsmittel nur in einem bestimmten Bereich variiert werden. Dies hat<br />
Einfluss auf die besprühte Fläche, da bei einem kurzen Abstand der entstehende Sprüh-<br />
fleck entsprechend kleiner ist als bei einem hohen Abstand.<br />
Durch das Einstellen der Substrattemperatur kann der Zwischenbereich zugunsten des<br />
nassen Bereiches ausgedehnt werden. Wird eine Temperatur nahe des Siedepunktes des<br />
verwendeten Lösungsmittels gewählt, trocknen die Sprühtropfen äußerst schnell sobald
3 Methodik<br />
sie die Substratoberfläche erreicht haben <strong>und</strong> verhindern so das Ausbilden einer nassen<br />
Schicht.<br />
3.2.3 Plasmabehandlung<br />
Das Plasmaaktivieren <strong>von</strong> Kunststoffen ist ein in der Industrie weit verbreitetes Ver-<br />
fahren. So werden zum Beispiel Kunststoffbauteile in der Automobilindustrie in der<br />
Regel vor der Lackierung beflammt oder einer Koronabehandlung unterzogen um eine<br />
möglichst gute Benetzung der Oberfläche zu ermöglichen [43].<br />
Die Oberfläche der P3HT:PCBM-Schicht weist hydrophobes Verhalten auf. Dies führt<br />
zu Benetzungsschwierigkeiten während der Beschichtung mit dem in Wasser gelösten<br />
PEDOT:PSS. Wird die P3HT:PCBM Schicht einer Sauerstoffplasmabehandlung unter-<br />
zogen, kann die Benetzbarkeit deutlich erhöht werden.[29].<br />
Die hierfür verwendete Anlage ist eine TePla 100-E. Der Prozessdruck während der<br />
Behandlung beträgt 0.3 Torr. Die eingekoppelte Leistung beträgt 100 W für 1 Minute.<br />
3.2.4 Rotationsbeschichtung<br />
Um die P3HT:PCBM-Schicht <strong>und</strong> die PEDOT:PSS-Schicht getrennt <strong>von</strong>einander für<br />
den Sprühprozess optimieren zu können, wurde jeweils eine der beiden Schichten mit-<br />
tels Rotationsbeschichtung (engl. Spin coating oder Spin-on) aufgetragen. Dies hat den<br />
Vorteil, dass die Parameter <strong>und</strong> Schichteigenschaften wie Dicke <strong>und</strong> Leitfähigkeit aus<br />
vorhergehenden Versuchen bereits bekannt sind <strong>und</strong> eventuelle Veränderung der Kennli-<br />
nien der Photodioden auf die photoaktive P3HT:PCBM-Schicht oder die PEDOT:PSS-<br />
Schicht zurückgeführt werden können.<br />
Bei der Rotationsbeschichtung handelt es sich um ein in der Halbleiterindustrie weit ver-<br />
breitetes Verfahren. Hierbei wird ein Substrat, in der Regel ein Wafer, auf einem Drehtel-<br />
ler mittels Vakuumansaugung befestigt. Daraufhin wird das Schichtmaterial gleichmäßig<br />
27
28<br />
3 Methodik<br />
auf der Oberfläche verteilt <strong>und</strong> der Wafer in Rotation versetzt. Durch die Zentrifugal-<br />
kraft fließt überschüssiges Schichtmaterial nach außen über die Ränder des Substrates.<br />
Das auf dem Substrat verbliebene Material bildet eine gleichmäßige dünne Schicht. Die<br />
Schichtdicke ist abhängig <strong>von</strong> der Rotationsgeschwindigkeit <strong>und</strong> dem Schichtmaterial.<br />
Je geringer die Viskosität des Schichtmaterials, beziehungsweise je höher die Rotations-<br />
geschwindigkeit ist, desto dünner wird die Schicht.<br />
Im vorliegenden Fall wurde das PEDOT:PSS zweistufig aufgeschleudert. Zuerst für<br />
20 Sek<strong>und</strong>en mit einer Drehzahl <strong>von</strong> 2000 min −1 um die gewünschte Schichtdicke <strong>von</strong><br />
200 nm zu erreichen <strong>und</strong> anschließend für 30 Sek<strong>und</strong>en bei 300 min −1 zum Trocknen der<br />
Schicht.<br />
Die Rotationsbeschichtungen werden unter Stickstoffatmosphäre vorgenommen. Dies er-<br />
möglicht im Falle einer vollständigen <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> Proben durch Rotationsbeschich-<br />
tung als Referenz, eine <strong>Herstellung</strong>, bei der die Probe außer zur Plasmabehandlung<br />
nicht in Kontakt mit Sauerstoff kommt.<br />
3.2.5 Tempern<br />
Mit dem Tempern werden zwei Ziele verfolgt. Die Beschleunigung der Aushärtung <strong>und</strong><br />
Trocknung der Schichten sowie eine Verbesserung der Schichteigenschaften. Besonders<br />
im Falle der PEDOT:PSS-Schicht ist eine schnelle Trocknung <strong>von</strong> Bedeutung, da das<br />
in ihr enthaltene Wasser zur Degradation der P3HT:PCBM-Schicht führt, wenn es mit<br />
dieser länger in Kontakt tritt. Für die P3HT:PCBM-Schicht wurde zudem <strong>von</strong> deutlich<br />
höheren Ladungsträgerbeweglichkeiten berichtet [38, 44]. Aus diesem Gr<strong>und</strong> werden die<br />
Photodioden während der <strong>Herstellung</strong> mehrfach getempert.<br />
Der erste Schritt erfolgt direkt nach dem Aufbringen der P3HT:PCBM-Schicht, um<br />
das restliche Lösungsmittel aus der Schicht zu treiben, bevor diese plasmabehandelt<br />
wird. Hierzu wird die Probe für 3 Minuten unter Stickstoffatmosphäre erhitzt. Der<br />
zweite Temperschritt ist abhängig <strong>von</strong> der <strong>Herstellung</strong>sart der Photodiode. Wird die<br />
PEDOT:PSS-Schicht durch Sprühen aufgebracht, wird die Probe direkt nach dem Sprüh-<br />
prozess für 5 Minuten auf 100 ◦ C erhitzt, um das restliche Wasser aus der Schicht zu
3 Methodik<br />
treiben <strong>und</strong> so die Einwirkzeit auf die P3HT:PCBM-Schicht zu minimieren. Gleichzei-<br />
tig bewirkt die Erhitzung der P3HT:PCBM-Schicht die vorher erwähnte Erhöhung der<br />
Ladunsgträgerbeweglichkeit. Daraufhin wird die Schicht erneut bei 140 ◦ C für 5 Minu-<br />
ten unter Stickstoffatmosphäre erhitzt, um sie aushärten zu lassen. Wird die Schicht<br />
jedoch durch Rotationsbeschichten hergestellt, geschieht dies bereits unter Stickstoffat-<br />
mosphäre <strong>und</strong> die Schicht kann direkt auf 140 ◦ C erhitzt werden ohne dass Reaktionen<br />
mit dem Luftsauerstoff befürchtet werden müssen. Zudem verdampft durch die extrem<br />
trockene Stickstoffatmosphäre in der Glovebox das Wasser aus der PEDOT:PSS-Schicht<br />
wesentlich schneller als an Luft.<br />
3.2.6 Verkapselung<br />
Da die P3HT:PCBM-Schicht unter dem Einfluss <strong>von</strong> Wasser <strong>und</strong> Sauerstoff degradiert,<br />
müssen die Photodioden verkapselt werden um eine hinreichende Lebensdauer zur Mes-<br />
sung zu gewährleisten. Auf die Degradation selbst wird in Kapitel 4.4 genauer einge-<br />
gangen. Zur Verkapselung wird nach dem Aufdampfen der Goldelektrode eine geringe<br />
Menge Kleber auf die Oberfläche der Probe aufgebracht <strong>und</strong> mit einem Mikroskopdeck-<br />
gläschen bedeckt. Durch das Eigengewicht des Glasplättchens verteilt sich der Klebstoff<br />
gleichmäßig unter diesem <strong>und</strong> bedeckt so alle Photodioden gleichmäßig. Daraufhin wird<br />
das Bauteil 10 Minuten mit UV-Licht bestrahlt um auszuhärten.<br />
3.2.7 <strong>Herstellung</strong> der P3HT:PCBM-Lösung<br />
Um die in Kapitel 2.4 beschriebene Bulkheterojunktion herzustellen, müssen die als<br />
Donator <strong>und</strong> Akzeptor dienenden Polymere in einem Lösungsmittel gelöst <strong>und</strong> gemein-<br />
sam aufgebracht werden. Hierfür ist eine große Auswahl an Lösungsmitteln geeignet. Im<br />
Rahmen dieser Arbeit werden jedoch nur die aromatischen Kohlenwasserstoffe Xylol,<br />
Toluol <strong>und</strong> 1,2 Dichlorbenzol, sowie eine Mischung aus 1,2 Dichlorbenzol <strong>und</strong> Toluol im<br />
Verhältnis 1 zu 1 betrachtet.<br />
29
30<br />
3 Methodik<br />
Für Sprühbeschichtungen werden Lösungen <strong>von</strong> 0.5 wt% (Toluol <strong>und</strong> Xylol)<strong>und</strong> 1 wt%<br />
(1,2 Dichlorbenzol <strong>und</strong> 1,2 Dichlorbenzol-Toluol-Mischung) P3HT:PCBM angesetzt.<br />
Die für die Rotationsbeschichtung verwendeten Lösungen hingegen haben eine Kon-<br />
zentration <strong>von</strong> 2 wt%. Das Gewichtsverhältnis <strong>von</strong> P3HT zu PCBM beträgt bei allen<br />
Lösungen 1 zu 0,75. Die Lösungen werden nach dem Ansetzen zunächst für circa 12<br />
St<strong>und</strong>en bei 50 ◦ C mit 400 min −1 bis 600 min −1 gerührt. Anschließend folgt für Xylol<br />
<strong>und</strong> 1,2 Dichlorbenzol eine St<strong>und</strong>e Rühren bei 80 ◦ C. Für Toluol beträgt aufgr<strong>und</strong> des<br />
niedrigeren Siedepunktes die Temperatur im letzten Schritt 60 ◦ C.<br />
3.3 Messverfahren<br />
Zur <strong>Charakterisierung</strong> der Photodetektoren werden mehrere Messverfahren angewen-<br />
det, die in diesem Kapitel genauer erklärt werden. Es werden zum einen die Strom-<br />
Spannungskennlinien der Dioden mit Beleuchtung <strong>und</strong> ohne Beleuchtung <strong>und</strong> zum an-<br />
deren die externe Quanteneffizienz der unterschiedlichen Dioden ermittelt. Beide Ver-<br />
fahren werden auch häufig zur <strong>Charakterisierung</strong> <strong>von</strong> organischen Solarzellen eingesetzt.<br />
Zudem wurden die Schichtdicken <strong>und</strong> Rauigkeiten der einzelnen Schichten mit einem<br />
Profilometer ermittelt.<br />
3.3.1 Strom-Spannungs-Messungen<br />
Die wohl am weitesten verbreitete Methode zur <strong>Charakterisierung</strong> <strong>von</strong> optoelektro-<br />
nischen Bauteilen ist die Ermittlung der Strom-Spannungs-Kennlinien. Hierfür wird<br />
an die zu testende Photodiode eine variable Spannung angelegt <strong>und</strong> der Photostrom<br />
für jede Spannung gemessen. Das Anlegen der Spannung <strong>und</strong> die Messung des Pho-<br />
tostroms erfolgt mithilfe eines Keithley 2602 SourceMeters, welches über ein LabView<br />
Interface <strong>von</strong> einem Messcomputer gesteuert wird. Hierbei ist die Goldanode mit dem<br />
HI-Anschluss des Keithleys verb<strong>und</strong>en, während die Aluminiumkathode mit dem geer-<br />
deten LO-Anschluss verb<strong>und</strong>en ist. Der Messaufbau ist in Abbildung 3.5 dargestellt.
3 Methodik<br />
Abbildung 3.5: Schematische Darstellung des Strom-Spannungs-Messaufbaus<br />
Die Beleuchtung erfolgt durch einer Halogenlampe. Diese wird mithilfe einer kalibrierten<br />
Siliziumdiode so eingestellt, dass die Substrate mit einer gleichmäßigen Lichtleistung <strong>von</strong><br />
PL =100 mW/cm 2 bestrahlt werden. Zur Ermittlung des Dunkelstromes wird die Diode<br />
mit einer licht<strong>und</strong>urchlässigen Box abgedeckt.<br />
Um eine fehlerfreie Messung zu ermöglichen werden vor jeder Messung die Kontakte der<br />
Aluminiumelektroden <strong>von</strong> P3HT:PCBM <strong>und</strong> PEDOT:PSS Rückständen gereinigt. Dar-<br />
aufhin werden sie mit Silberpaste bestrichen um einen besseren Kontakt zu ermöglichen<br />
<strong>und</strong> um eine Beschädigung der Schichten zu verhindern. Die Goldschicht wird am Rand<br />
ebenfalls mit Silberpaste bestrichen, da sie sonst <strong>von</strong> den Kontaktstiften durchstoßen<br />
werden würde.<br />
31
32<br />
3 Methodik<br />
3.3.2 Messung der externen Quanteneffizienz<br />
Zur Steigerung der Sensitivität <strong>von</strong> Photodioden muss deren Photostrom maximiert<br />
werden. Ein Maß hierfür ist die externe Quanteneffizienz (EQE). Diese ist definiert als<br />
das Verhältnis zwischen der Anzahl der eingestrahlten Photonen NP <strong>und</strong> der Anzahl der<br />
extrahierten Ladungsträger Ne in Abhängigkeit <strong>von</strong> der Wellenlänge, siehe Gleichung<br />
3.3.2. Um die Quanteneffizienz aus dem Photostrom zu bestimmen wird zuerst der<br />
Photostrom IR einer kalibrierten Silizium-Photodiode mit bekannter Quanteneffizienz<br />
EQER(λ) gemessen. Daraufhin wird dann der Photostrom IM der organischen Pho-<br />
todiode gemessen <strong>und</strong> nach Gleichung 3.3.2 deren externe Quanteneffizienz EQEM(λ)<br />
berechnet.<br />
EQEM(λ) = Ne<br />
NP<br />
= IM<br />
EQER(λ) (3.1)<br />
IR<br />
Eine solcher Messaufbau ist in Abbildung 3.6 dargestellt. Als Lichtquelle dient ein 300 W<br />
Sonnensimulator der Firma Newport. Dem austretenden Licht wird durch einen Chop-<br />
per eine Frequenz <strong>von</strong> 210 Hz aufmoduliert <strong>und</strong> daraufhin <strong>von</strong> einen Monochromator<br />
vom Typ 260 der Firma Oriel Cornerstone spektral aufgespalten. Nun fällt das Licht<br />
auf die Photodiode, deren Photostrom verstärkt <strong>und</strong> danach <strong>von</strong> einem Lock-in Ampli-<br />
fier (Merlin Digital Lock-in Radiometry system), der sein Referenzsignal vom Chopper<br />
erhält, gemessen. Das Messsignal wird im Anschluss mit einer auf LabView basierenden<br />
Software verarbeitet.<br />
3.3.3 Schichtdicken <strong>und</strong> Rauheitsmessungen<br />
Zur Ermittlung der Schichtdicke <strong>und</strong> Rauheit der einzelnen Schichten werden Felder <strong>von</strong><br />
1 cm × 1 cm Größe auf Glassubstrate aufgesprüht. Diese Felder werden für die Schicht-<br />
dickenmessung daraufhin noch mithilfe eines Skalpells geritzt <strong>und</strong> so mit einem Kratzer<br />
versehen, der bis zum Glassubstrat reicht. Die anschließende Vermessung erfolgt mittels<br />
eines Dektak-Profilometers der Firma Veeco Instruments Inc. mit einer Diamantspitze
3 Methodik<br />
Abbildung 3.6: Schematische Darstellung eines EQE Messaufbaus [16].<br />
mit einem 10 µm Radius. Es wurde über eine Länge <strong>von</strong> 1000 µm gemessen <strong>und</strong> ein<br />
Druck <strong>von</strong> 5 mg während der Messung ausgeübt.<br />
Bei einem Profilometer wird eine feine Diamantspitze mit einem definierten Druck über<br />
eine Oberfläche geführt. Die dabei ausgeführte Vertikalbewegung wird über einen Hebel<br />
an einen kapazitiven Messaufnehmer weitergegeben <strong>und</strong> mittels einer Software ausge-<br />
wertet <strong>und</strong> als Linienprofil dargestellt. Die Dicke der Schicht wurde aus dem Höhenun-<br />
terschied zwischen Kratzer <strong>und</strong> beschichtetem Bereich ermittelt. Aus den so ermittelten<br />
Daten wurde auch die quadratische Rauheit Rq der Schichten ermittelt. Dies wurde nach<br />
der nachfolgenden Formel berechnet.<br />
�<br />
�<br />
�<br />
Rq = � 1<br />
N�<br />
(y(xn) − 〈y〉)<br />
N n=1<br />
2 (3.2)<br />
33
34<br />
3 Methodik<br />
Wobei N die Anzahl der Messpunkte, y(xn) die Auslenkung an Position x <strong>und</strong> 〈y〉 den<br />
Mittelwert der Auslenkung darstellt.
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
Ziel der vorliegenden Arbeit ist die hergestellten organischen Photodioden hinsichtlich<br />
ihrer Strom-Spannungs-Kennlinien sowie ihrer externen Quanteneffizienz zu optimieren.<br />
Zeitgleich wurde zudem das Degradationsverhalten der Dioden unter der Verwendung<br />
<strong>von</strong> verschieden Klebern zur Verkapselung betrachtet. Zu Beginn wird das Verhalten<br />
der photoaktiven Schicht unter Verwendung verschiedener Lösungsmittel betrachtet,<br />
daraufhin wird auf die PEDOT:PSS-Schicht eingegangen. Zuletzt wird das Degradati-<br />
onsverhalten der Dioden betrachtet.<br />
Das Ziel ist die Entwicklung eines stabilen <strong>Herstellung</strong>sprozesses mittels Sprühbeschich-<br />
tung, welche die reproduzierbare <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> Photodioden ermöglicht, deren Ei-<br />
genschaften denen mittels Rotationsbeschichtung hergestellter Photodioden möglichst<br />
genau entsprechen. Dabei ist die <strong>Herstellung</strong> der Photodioden mittels Sprühprozess<br />
anfälliger für Störungen als die <strong>Herstellung</strong> mittels Rotationsbeschichtung. Neben den<br />
Eigenschaften der unterschiedlichen Lösungsmittel können bereits geringe Schwankun-<br />
gen in den in Kapitel 3.2.2 beschriebenen <strong>Herstellung</strong>sparametern wie Substratabstand<br />
d, Substrattemperatur T , Druck des Treibgases p <strong>und</strong> Sprühzeit t zu erheblichen Ab-<br />
weichungen der Bauteileigenschaften führen. Die Rotationsbeschichtung ist aufgr<strong>und</strong><br />
ihrer geringen Anzahl <strong>von</strong> wenig anfälligen Prozessparametern deutlich stabiler. Ihrem<br />
Einsatz sind aber wie in Kapitel 1 beschrieben Grenzen gesetzt. Da d, T , p <strong>und</strong> t vom<br />
verwendeten Lösungsmittel abhängig sind, sollte dieses auch bei geringen Abweichungen<br />
der Parameter möglichst gleichbleibende Ergebnisse liefern.<br />
In Abbildung 4.1 ist die Strom-Spannung-Kennlinie einer vollständig mittels Rotations-<br />
beschichtung hergestellten organischen Photodiode dargestellt. Dargestellt sind jeweils<br />
der Strom bei Beleuchtung (Photostrom), wie in Kapitel 3.3.1 beschrieben, sowie der<br />
35
36<br />
��������������������<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
1 E -7<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.1: Strom-Spannungs-Kennlinie einer mittels Rotationsbeschichtung hergestellten<br />
organischen Photodiode<br />
Strom ohne Beleuchtung (Dunkelstrom). Der Photostrom ist in Sperrrichtung nahezu<br />
konstant. Der Dunkelstrom steigt hingegen mit zunehmender Spannung leicht an. Dies<br />
erlaubt einen Betrieb bei nahezu allen Sperrspannungen. Die mittels Sprühbeschich-<br />
tung hergestellten Photodioden sollen eine dieser möglichst ähnliche Strom-Spannungs-<br />
Charakteristik aufweisen. Die externe Quanteneffizienz einer solchen Diode ist in Abbil-<br />
dung 4.19 in Kapitel 4.2.3 als Referenz dargestellt. Das Maximum liegt bei etwa 550 nm<br />
<strong>und</strong> beträgt 45 %.<br />
4.1 Optimierung der photoaktiven Schicht<br />
Zur Optimierung der photoaktiven Schicht wurde diese unter Verwendung verschiede-<br />
ner Lösungsmittel hergestellt. Beim Aufsprühen der Schichten wird ein Substratabstand<br />
zum Sprühkopf gewählt, bei der wie in Kapitel 3.2.2 beschrieben eine trockene Schicht<br />
entsteht, der Abstand aber gleichzeitig möglichst groß ist, um einen möglichst großen<br />
Sprühfleck zu erhalten. Dieser beträgt für 1,2 Dichlorbenzol <strong>und</strong> für Xylol sowie das
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
1,2 Dichlorbenzol-Toluol-Gemisch 15 cm, nur für Toluol wird der Abstand auf 14 cm<br />
reduziert um den Materialverbrauch zu reduzieren. Das Substrat wird durch eine Heiz-<br />
platte auf einer konstanten Temperatur gehalten, die für 1,2 Dichlorbenzol 150 ◦ C <strong>und</strong><br />
für Toluol, Xylol <strong>und</strong> der Mischung aus 1,2 Dichlorbenzol <strong>und</strong> Toluol 100 ◦ C beträgt. Im<br />
Rahmen dieser Arbeit wird diese nicht weiter variiert. Die PEDOT:PSS-Schicht wird<br />
für diese Proben im Gegensatz zur photoaktiven Schicht selber nicht aufgesprüht son-<br />
dern mittels Rotationsbeschichtung hergestellt, um möglichst gleiche Bedingungen für<br />
alle Proben zu ermöglichen.<br />
4.1.1 Rauheit der Schichten<br />
In Abbildung 4.2 ist die Rauheit verschiedener Schichten unter Verwendung der un-<br />
terschiedlichen Lösungsmittel dargestellt. Die Rauheit der Schichten ist <strong>von</strong> großer Be-<br />
deutung, da bei einer zu großen Rauheit Leckpfade <strong>und</strong> somit Leckströme entstehen<br />
können, zudem führt sie zu großen Inhomogenitäten in der Schichtdicke. Die gemesse-<br />
nen Schichten wurden wie in Kapitel 3.3.3 beschrieben auf Glassubstrate aufgesprüht,<br />
deren Rauheit unter 10 nm liegt <strong>und</strong> daher vernachlässigt werden kann.<br />
Die Rauheiten der einzelnen Schichten sind stark unterschiedlich, wobei die Schich-<br />
ten mit Xylol als Lösungsmittel die größte Rauheit aufweisen. Die geringste Rauheit<br />
wird bei der 1,2-Dichlorbenzol-Toluol-Mischung erreicht. Diese erreicht selbst bei hohen<br />
Schichtdicken nur Werte <strong>von</strong> 150 nm. Geringfügig darüber liegen die mit Toluol als Lö-<br />
sungsmittel hergestellten Schichten. Bei allen Lösungsmitteln außer 1,2-Dichlorbenzol<br />
steigt die Rauheit kontinuierlich mit der Schichtdicke an. Bei 1,2-Dichlorbenzol bleibt<br />
sie hingegen relativ konstant für alle Schichtdicken. Generell sind eher geringe Rauhei-<br />
ten erstrebenswert, da es bei hohen Rauheiten zu Inhomogenitäten in der PEDOT:PSS-<br />
Schicht kommen kann, wenn diese mittels Rotationsbeschichtung hergestellt wird. Auch<br />
bei einer <strong>Herstellung</strong> mittels Sprühen können bei starker Rauheit leichter Leckpfade ent-<br />
stehen.<br />
Die hohe Rauheit bei der Verwendung <strong>von</strong> Xylol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol kann unter-<br />
schiedliche Ursachen haben. P3HT <strong>und</strong> PCBM besitzen in Xylol nur eine geringe Lös-<br />
lichkeit [45], was zu Ausflockungen führen (siehe auch Kapitel 4.1.4) <strong>und</strong> somit die<br />
37
38<br />
R a u h e it (n m )<br />
3 5 0<br />
3 0 0<br />
2 5 0<br />
2 0 0<br />
1 5 0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
1 .2 -D ic h lo rb e n z o l<br />
T o lu o l<br />
X y lo l<br />
D C B -T o lu o l<br />
1 0 0<br />
2 0 0 3 0 0 4 0 0 5 0 0 6 0 0 7 0 0 8 0 0 9 0 0 1 0 0 0 1 1 0 0 1 2 0 0 1 3 0 0<br />
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
Abbildung 4.2: Die Rauheit über Schichtdicke bei der Verwendung <strong>von</strong> unterschiedlichen<br />
Lösungsmitteln<br />
Rauheit erhöhen kann. Bei 1,2-Dichlorbenzol ist ein möglicher Gr<strong>und</strong> die deutlich hö-<br />
here Viskosität (siehe Kapitel 2.6.4). Die Tröpfchen verlaufen beim Auftreffen auf das<br />
Substrat nicht so stark wie bei Toluol, was zu einer höheren Rauheit führt.<br />
4.1.2 1,2-Dichlorbenzol<br />
Als erstes Lösungsmittel wird 1,2-Dichlorbenzol betrachtet. Seine Anwendung ist bei der<br />
<strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> organischen Photodioden <strong>und</strong> Photodetektoren weit verbreitet [16, 32,<br />
34, 42, 46]. Bei der <strong>Herstellung</strong> beträgt die Entfernung des Sprühkopfes zum Substrat<br />
15 cm <strong>und</strong> die Substrattemperatur 150 ◦ C. Diese liegt deutlich unter dem Siedepunkt<br />
des Lösungsmittels <strong>von</strong> 180 ◦ C, da aus früheren Messungen bekannt ist, dass bei höheren<br />
Temperaturen die Schicht degradiert.<br />
In Abbildung 4.3 ist die Schichtdicke über die Sprühzeit <strong>von</strong> verschiedenen Proben, die<br />
an drei unterschiedlichen Tagen hergestellt wurden, dargestellt. Die Schichtdicke nimmt<br />
bei allen drei Proben mit etwa 50 nm/s zu, diese weichen jedoch mit teils über 200 nm
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
1 6 0 0<br />
1 4 0 0<br />
1 2 0 0<br />
1 0 0 0<br />
8 0 0<br />
6 0 0<br />
4 0 0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
2 0 0<br />
5 1 0 1 5 2 0 2 5 3 0 3 5 4 0 4 5 5 0 5 5 6 0 6 5<br />
�������������<br />
�������<br />
�������<br />
�������<br />
�������������<br />
Abbildung 4.3: Schichtdicke über Sprühzeit verschiedener 1 wt-%-iger 1,2-<br />
Dichlorbenzol-Lösungen an unterschiedlichen Tagen<br />
in der Schichtdicke <strong>von</strong>einander ab. Diese sind auf Positionierungsungenauigkeiten zu-<br />
rückzuführen, wie sie in Kapitel 3.2.2 beschrieben werden. Es ist zu sehen, dass sich<br />
schon bei relativ geringen Sprühzeiten große Schichtdicken erzielen lassen. Schon nach<br />
20 s Sprühzeit werden Schichtdicken zwischen 1,0 µm <strong>und</strong> 1,2 µm erreicht. Der Anstieg<br />
der Schichtdicke verhält sich nahezu linear zur Sprühzeit.<br />
Die externe Quanteneffizienz <strong>von</strong> Dioden mit verschiedenen Sprühzeiten ist in Abbil-<br />
dung 4.4 dargestellt. Mit zunehmender Sprühzeit, also steigender Schichtdicke, ändert<br />
sich die EQE erheblich. Das Effizienzmaximum wandert zunächst zu höheren Wellenlän-<br />
gen. Danach beginnt sie zu sinken, bis sie bei einer Sprühzeit <strong>von</strong> 40 Sek<strong>und</strong>en nahezu<br />
völlig einbricht, bis auf einen Peak bei 640 nm. Gr<strong>und</strong> hierfür ist die höhere Eindringtiefe<br />
der langwelligen Photonen, kurzwelligere Photonen werden schon frühzeitig absorbiert.<br />
Die hierbei entstehenden Ladungsträger können aufgr<strong>und</strong> der geringen Ladungsträger-<br />
beweglichkeit nur zum Teil die Elektroden erreichen <strong>und</strong> gehen durch Rekombination<br />
verloren. Durch die höhere Eindringtiefe <strong>von</strong> langwelligen Photonen kommt es jedoch<br />
auch zu einer Erzeugung <strong>von</strong> Ladungsträgern näher an der unteren Elektrode. Auf die-<br />
39
40<br />
E Q E (% )<br />
5 0<br />
4 5<br />
4 0<br />
3 5<br />
3 0<br />
2 5<br />
2 0<br />
1 5<br />
1 0<br />
5<br />
0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
U = -4 V<br />
5 s<br />
1 5 s<br />
2 0 s<br />
3 0 s<br />
4 0 s<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
����������� (n m )<br />
Abbildung 4.4: Externe Quanteneffizienz einer 1 wt-%-igen 1,2-Dichlorbenzol-Lösung<br />
bei verschiedenen Sprühzeiten<br />
se weise kommt es zu einem Stromfluß trotz hoher Verluste durch Rekombination <strong>von</strong><br />
Ladungsträgern auf dem Weg zu den Elektroden.<br />
Die Strom-Spannungs-Kennlinien einiger den Quanteneffizienzen in Abbildung 4.4 ent-<br />
sprechenden Dioden sind in Abbildung 4.5 dargestellt. Zur besseren Übersicht werden<br />
nur die Dioden mit den Sprühzeiten 5 s, 15 s <strong>und</strong> 40 s gezeigt. Für jede Diode ist jeweils<br />
die Kennlinie mit <strong>und</strong> ohne Beleuchtung (Photostrom <strong>und</strong> Dunkelstrom) dargestellt.<br />
Die Diode mit 5 s Sprühzeit hat den höchsten Dunkelstrom, zugleich aber auch einen<br />
geringeren Photostrom als die anderen Dioden. Die Vorwärtsströme, also der Stromfluß<br />
bei Spannungen in Flußrichtung der Diode, sind bei Dunkel- <strong>und</strong> Photostrom nahezu<br />
gleich hoch. Die Diode mit 15 s Sprühzeit hingegen besitzt einen deutlich geringeren<br />
Dunkelstrom <strong>und</strong> zugleich einen höheren Photostrom, welcher bis auf die Höhe dem<br />
der Diode mit 5 s Sprühzeit entspricht. Im unbeleuchteten Zustand ist allerdings der<br />
Vorwärtsstrom etwas kleiner als bei Beleuchtung. Bei der letzten dargestellten Diode<br />
beträgt die Sprühzeit 40 s. Der Dunkelstrom ist auch hier äußerst niedrig, allerdings<br />
geringfügig höher als bei der Diode mit 15 s Sprühzeit. Der Photostrom jedoch erreicht
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
4 0 s<br />
1 5 s<br />
5 s<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.5: Strom-Spannungs-Kennlinien mit 1,2-Dichlorbenzol als Lösungsmittel<br />
hergestellter Dioden bei verschiedenen Sprühzeiten<br />
nicht mehr die gleiche Höhe <strong>und</strong> ist vor allem bei niedrigen Spannungen deutlich gerin-<br />
ger als bei den vorherigen Dioden.<br />
Das Absinken der Dunkel- <strong>und</strong> Vorwärtsströme wird durch einen aufgr<strong>und</strong> der zuneh-<br />
mende Schichtdicke steigenden Schichtwiderstands verursacht. Auch rekombiniert durch<br />
die höhere Entfernung der Elektroden ein größerer Teil thermisch erzeugter Ladungs-<br />
träger, was besonders für die Dunkelströme in Sperrrichtung <strong>von</strong> Bedeutung ist. Ein<br />
weiterer Gr<strong>und</strong> ist die Abnahme <strong>von</strong> Leckströmen. Diese sind bei der Schicht mit 5 s<br />
Sprühzeit sehr hoch, da die Schicht mit etwa 300 nm Schichtdicke außerordentlich dünn<br />
ist <strong>und</strong> wie in Kapitel 4.1.1 beschrieben eine Rauheit in der Größenordnung der Schicht-<br />
dicke besitzt.<br />
Wird 1,2-Dichlorbenzol als Lösungsmittel verwendet, lassen sich reproduzierbar geringe<br />
Dunkelströme <strong>und</strong> gute Photoströme erzielen. Allerdings ist der Schichtwiderstand der<br />
erstellten Schichten relativ hoch, was sich durch das Einbrechen der Vorwärts- sowie<br />
der Photoströme bei geringen Spannungen zeigt. Zudem sind die erreichbaren externen<br />
Quanteneffizienten mit Maximalwerten <strong>von</strong> 21 % relativ gering. Die möglichen Gründe<br />
41
42<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
hierfür sind vielfältig. Ein möglicher Gr<strong>und</strong> ist eine geringere Ladunsgträgerbeweglich-<br />
keit innerhalb der Schicht. Auch kann es durch die hohe Viskosität <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbezol<br />
zu einem nicht ausreichenden Verlaufen der Tröpfchen kommen, wodurch es zu Kon-<br />
taktproblemen zwischen den einzelnen Tropfen kommt. Des Weiteren ist es möglich,<br />
dass das äußerst aggressive 1,2-Dichlorbezol die Aluminiumelektroden angreift <strong>und</strong> an<br />
deren Oberfläche die Leitfähigkeit herabsetzt. Durch die relativ schnelle Zunahme der<br />
Schichtdicke mit der Sprühzeit ist zudem der Prozess fehleranfällig, da nur ein äußerst<br />
kurzes Zeitfenster optimale Werte liefert.<br />
4.1.3 Toluol<br />
Als zweites Lösungsmittel wird Toluol betrachtet. Es besitzt mit 111 ◦ C einen deutlich<br />
geringeren Siedepunkt als 1,2-Dichlorbenzol. Aus diesem Gr<strong>und</strong> beträgt die Substrat-<br />
temperatur bei der <strong>Herstellung</strong> 100 ◦ C. Die Entfernung vom Substrat zum Sprühkopf<br />
wird auf 14 cm reduziert um den Materialverbrauch zu reduzieren. Eine Substratab-<br />
stand <strong>von</strong> 15 cm ist zwar ebenfalls möglich, der Verbrauch an Material liegt allerdings<br />
nochmal um den Faktor zwei höher. Auch wird die Konzentration der Lösung auf 0,5<br />
wt-% herabgesetzt, da sonst der Materialverbrauch nochmals deutlich höher wäre.<br />
Die Schichtdicke über die Sprühzeit ist in Abbildung 4.6 dargestellt. Die Zunahme der<br />
Schichtdicke ist deutlich geringer als bei der Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol. Auch<br />
ist die die Reproduzierbarkeit der Schichtdicke deutlich höher. Auffällig ist, dass bei<br />
gleicher Sprühzeit <strong>und</strong> somit geringerer resultierender Schichtdicke der Verbrauch im<br />
Vergleich zu 1,2-Dichlorbenzol nahezu drei mal so hoch ist. Ein Gr<strong>und</strong> hierfür kann die<br />
geringere Viskosität <strong>von</strong> Toluol gegenüber 1,2-Dichlorbenzol sein, was zu einer höheren<br />
Materialzufuhr im Sprühkopf führt. Eine weitere Verringerung des Abstandes um den<br />
Materialverbrauch zu minimieren ist nicht möglich, da die Schicht daraufhin nass wird.<br />
Zudem ist der Sprühfleck nicht mehr ausreichend groß um die Diodenfläche homogen<br />
zu bedecken.<br />
In Abbildung 4.7 ist die externe Quanteneffizienz verschiedener Dioden, die mit unter-<br />
schiedlichen Sprühzeiten hergestellt wurden, dargestellt. Die Quanteneffizienz nimmt<br />
mit zunehmender Sprühzeit, also steigender Schichtdicke, kontinuierlich ab <strong>und</strong> zeigt
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
1 6 0 0<br />
1 4 0 0<br />
1 2 0 0<br />
1 0 0 0<br />
8 0 0<br />
6 0 0<br />
4 0 0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
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2 0 0<br />
5 1 0 1 5 2 0 2 5 3 0 3 5 4 0 4 5 5 0 5 5 6 0 6 5<br />
�������������<br />
Abbildung 4.6: Schichtdicke über die Sprühzeit verschiedener 0,5 wt-%-igen Toluol-<br />
Lösungen an unterschiedlichen Tagen<br />
E Q E (% )<br />
5 0<br />
4 5<br />
4 0<br />
3 5<br />
3 0<br />
2 5<br />
2 0<br />
1 5<br />
1 0<br />
5<br />
0<br />
U = -4 V 5 s<br />
1 0 s<br />
1 5 s<br />
2 0 s<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
W e lle n l�n g e (n m )<br />
Abbildung 4.7: Externe Quanteneffizienz mehrerer mit einer Toluol-Lösung hergestellter<br />
Dioden mit unterschiedlichen Sprühzeiten<br />
43
44<br />
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
1 5 s<br />
2 5 s<br />
3 5 s<br />
-4 -3 -2 -1<br />
S p a n n u n g (V )<br />
0 1 2<br />
Abbildung 4.8: Strom-Spannungs-Kennlinien verschiedener mit einer Toluol-Lösung<br />
<strong>und</strong> unterschiedlichen Sprühzeiten hergestellter Dioden<br />
eine ähnliche wenn auch deutlich geringere Verschiebung des Maximums in Richtung<br />
höherer Wellenlängen wie bei mit 1,2-Dichlorbenzol hergestellten Dioden. Die höchste<br />
Quanteneffizienz <strong>von</strong> 30 % bei 530 nm wird bei der kürzesten Sprühzeit <strong>von</strong> 5 s erreicht.<br />
Daraufhin sinkt die Quanteneffizienz auf 27 % bei 555 nm bei einer Sprühzeit <strong>von</strong> 15 s.<br />
Bei weiter steigenden Sprühzeiten sinkt die Quanteneffizienz kontinuierlich weiter <strong>und</strong><br />
das Maximum verschiebt sich weiter in den langwelligen Bereich.<br />
Die Strom-Spannungs-Kennlinien in Abbildung 4.8 zeigen einen deutlichen Unterschied<br />
zu den mit 1,2-Dichlorbenzol hergestellten Dioden in Abbildung 4.5. Am auffälligsten<br />
sind die gegenüber 1,2-Dichlorbenzol bei allen Sprühzeiten deutlich höheren Dunkel-<br />
ströme. Auch brechen die Vorwärtsströme, sowohl bei Beleuchtung als auch ohne, viel<br />
früher ein, was für einen stark steigenden Schichtwiderstand spricht. Der Photostrom<br />
in Sperrrichtung sinkt ähnlich wie bei 1,2-Dichlorbenzol mit zunehmender Sprühzeit<br />
zuerst im Bereich niedriger Spannungen ab.<br />
Wird Toluol als Lösungsmittel verwendet, lassen sich deutlich höhere Quanteneffizi-<br />
enzen als bei der Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol erreichen. Es werden Werte <strong>von</strong>
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
30 % erreicht, bei der Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol hingegen liegen die Maxi-<br />
malwerte bei 21 %. Allerdings sind die Dunkelströme eine Größenordnung höher. Bei<br />
Schichtdicken, die einen akzeptablen Dunkelstrom erreichen, beginnen die Photoströme<br />
im Bereich kleiner Spannungen bereits abzusinken. Auch der Materialverbrauch ist bei<br />
gleicher Sprühzeit drei mal höher bei kleinerer resultierender Schichtdicke.<br />
4.1.4 Xylol<br />
Als nächstes wird das dem Toluol chemisch sehr ähnliche Xylol betrachtet. Der Siede-<br />
punkt <strong>von</strong> Xylol liegt mit 144 ◦ C in etwa der Mitte zwischen 1,2-Dichlorbenzol (179 ◦ C)<br />
<strong>und</strong> Toluol (111 ◦ C). Die Substrattemperatur beträgt während der <strong>Herstellung</strong> wie bei<br />
Toluol 100 ◦ C <strong>und</strong> der Abstand des Sprühkopfes zum Substrat 15 cm. Die Substrattem-<br />
peratur <strong>von</strong> 100 ◦ C beruht auf Erfahrungswerten <strong>und</strong> liegt ähnlich 1,2-Dichlorbenzol<br />
nur in der Nähe des Verdampfungspunktes, ist aber trotzdem ausreichend hoch um eine<br />
trockene Schicht zu ermöglichen.<br />
Die Zunahme der Schichtdicke mit der Sprühzeit (Abbildung 4.9) ist ähnlich hoch wie<br />
bei der Verwendung <strong>von</strong> Toluol als Lösungsmittel <strong>und</strong> somit deutlich geringer als bei der<br />
Verwendung <strong>von</strong> 1,2 Dichlorbenzol. Der Materialverbrauch entspricht dem <strong>von</strong> Toluol,<br />
welches eine ähnliche Viskosität besitzt (siehe Kapitel 2.6.4). Allerdings kommt es bei<br />
der Verwendung <strong>von</strong> Xylol sehr häufig zur kurzzeitigen oder dauerhaften Verstopfung<br />
des Sprühkopfes, was sich auch nicht durch eine Herabsetzung der Konzentration der<br />
Lösung auf 0,5 wt-% beseitigen lässt. Dies führt zu sehr hohen Ausfallraten während<br />
des <strong>Herstellung</strong>sprozesses, da selbst bei nur kurzzeitiger Verstopfung die <strong>Herstellung</strong><br />
<strong>von</strong> definierten Schichten nicht möglich ist.<br />
Die in Abbildung 4.10 dargestellte externe Quanteneffizienz mittels Xylol als Lösungs-<br />
mittel hergestellter Dioden unterscheidet sich nur geringfügig <strong>von</strong> der mit Toluol als<br />
Lösungsmittel hergestellten Dioden (Abbildung 4.7). Auch hier wandert das Maximum<br />
in Richtung größerer Wellenlängen mit zunehmender Sprühzeit <strong>und</strong> sinkt dabei konti-<br />
nuierlich ab. Die höchste Quanteneffizienz <strong>von</strong> 31 % bei 530 nm wird bei der kürzesten<br />
Sprühzeit <strong>von</strong> 5 s erreicht.<br />
45
46<br />
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
1 6 0 0<br />
1 4 0 0<br />
1 2 0 0<br />
1 0 0 0<br />
8 0 0<br />
6 0 0<br />
4 0 0<br />
2 0 0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
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5 1 0 1 5 2 0 2 5 3 0 3 5 4 0 4 5 5 0 5 5 6 0 6 5<br />
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Abbildung 4.9: Schichtdicke über Sprühzeit verschiedener Xylol-Lösungen an unterschiedlichen<br />
Tagen gesprüht<br />
Die Strom-Spannungs-Kennlinien in Abbildung 4.11 unterscheiden sich <strong>von</strong> den mit<br />
Toluol hergestellten Dioden (Abbildung 4.8). Das Absinken des Photostromes bei höhe-<br />
ren Sprühzeiten ist geringer als bei Toluol. Auch die dabei erzielten Dunkelströme sind<br />
geringer. Allerdings bricht bei Schichtdicken mit akzeptablem Dunkelstrom die Quan-<br />
teneffizienz bereits deutlich ein. Ein möglicher Gr<strong>und</strong> ist die hohe Rauheit der Schicht<br />
gegenüber Toluol oder 1,2-Dichlorbenzol (siehe Kapitel 4.1.1). Es müssen hohe Schicht-<br />
dicken erzielt werden um die Leckpfade in der Schicht, die durch die Rauheit entstehen,<br />
zu schließen, was durch die geringe Ladungsträgerbeweglichkeit innerhalb der Schicht<br />
zu einer geringen externen Quanteneffizienz führt.<br />
Die Probleme bei der <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> Dioden unter der Verwendung <strong>von</strong> Xylol als<br />
Lösungsmittel sind beträchtlich. Durch die durch Verstopfungen des Sprühkopfes <strong>und</strong><br />
Verklumpungen in der Lösung verursachte Tröpfchenbildung <strong>und</strong> Ungenauigkeit im er-<br />
zielen <strong>von</strong> definierten Schichtdicken kommt es zu Ausfallraten in der <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong><br />
bis zu 50 %. Auch ist die Quanteneffizienz bei Sprühzeiten, welche einen niedrigen Dun-
E Q E (% )<br />
5 0<br />
4 5<br />
4 0<br />
3 5<br />
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1 5<br />
1 0<br />
5<br />
0<br />
U = -4 V<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
5 s<br />
1 0 s<br />
1 5 s<br />
2 0 s<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
W e lle n l�n g e (n m )<br />
Abbildung 4.10: Externe Quanteneffizienz mehrerer mit einer Xylol-Lösung hergestellter<br />
Dioden mit unterschiedlichen Sprühzeiten<br />
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
5 s<br />
1 0 s<br />
2 0 s<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.11: Strom-Spannungs-Kennlinien verschiedener mit einer Xylol-Lösung<br />
<strong>und</strong> unterschiedlichen Sprühzeiten hergestellter Dioden<br />
47
48<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
kelstrom besitzen gering. Dies liegt in der hohen Schichtdicke begründet die notwendig<br />
ist um die durch die hohe Rauheit entstehenden Leckpfade auszuschließen.<br />
4.1.5 Mischung aus Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol<br />
Um die Vorteile <strong>von</strong> Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol zu kombinieren <strong>und</strong> andere Unter-<br />
suchungen [33] eine Verbesserung der elektrischen Eigenschaften durch die Verwendung<br />
<strong>von</strong> Lösungmittelgemsichen mit niedrigem <strong>und</strong> hohem Siedepunkt zeigen, wird auch<br />
eine Mischung im Verhältnis 1:1 dieser beiden Lösungsmittel betrachtet. Ziel war es<br />
zum einen die hohe Quanteneffizienz der Toluol-Lösungen <strong>und</strong> andererseits die nied-<br />
rigen Dunkelströme der 1,2-Dichlorbenzol-Lösungen zu erreichen. Zum anderen sollte<br />
auch der Verbrauch auf ein ähnliches Maß wie bei 1,2-Dichlorbenzol-Lösungen gesenkt<br />
werden. Beide Lösungsmittel sind vollständig mischbar, es ist also nicht da<strong>von</strong> auszu-<br />
gehen, das es zu <strong>Phasen</strong>trennungen der beiden Lösungsmittel während des Sprühens<br />
kommt. Die Substrattemperatur beträgt aufgr<strong>und</strong> des Toluols 100 ◦ C, die Entfernung<br />
zwischen Sprühkopf <strong>und</strong> Substrat 15 cm.<br />
In Abbildung 4.12 wird die Schichtdicke in Abhängigkeit zur Sprühzeit dargestellt. Die<br />
Zunahme der Schichtdicke mit der Sprühzeit ist mit etwa 20 nm/s deutlich geringer als<br />
bei allen vorhergehenden Lösungsmitteln. Auch ist die Abweichung der unterschiedli-<br />
chen Messungen kleiner als bei reinem 1,2-Dichlorbenzol, allerdings auch größer als bei<br />
reinem Toluol als Lösungsmittel. Der Materialverbrauch bei der <strong>Herstellung</strong> liegt nur<br />
geringfügig über dem bei der Verwendung <strong>von</strong> reinem 1,2-Dichlorbenzol.<br />
Die in Abbildung 4.13 dargestellte externe Quanteneffizienz <strong>von</strong> Dioden, welche mit un-<br />
terschiedlichen Sprühzeiten hergestellt wurden, unterscheidet sich deutlich <strong>von</strong> denen<br />
der vorher beschriebenen Lösungsmittel. Die gemessenen Werte sind mit einem Maxi-<br />
malwert <strong>von</strong> 35 % nicht nur um 5 % höher als bei der Verwendung <strong>von</strong> reinem Toluol<br />
<strong>und</strong> 15 % höher als bei reinem 1,2-Dichlorbenzol als Lösungsmittel, sondern auch über<br />
einen sehr großen Bereich an Sprühzeiten nahezu konstant. Erst bei einer Sprühzeit<br />
<strong>von</strong> 35 s, was eine Schichtdicke <strong>von</strong> etwa 600 nm entspricht, beginnt die Quanteneffi-<br />
zienz leicht abzusinken. Auch ist die Verschiebung des Maximums mit zunehmender<br />
Sprühzeit zu höheren Wellenlängen nur sehr gering. Dies ist möglicherweise auf die ge-
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
1 6 0 0<br />
1 4 0 0<br />
1 2 0 0<br />
1 0 0 0<br />
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6 0 0<br />
4 0 0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
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2 0 0<br />
5 1 0 1 5 2 0 2 5 3 0 3 5 4 0 4 5 5 0 5 5 6 0 6 5<br />
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Abbildung 4.12: Schichtdicke über Sprühzeit verschiedener Toluol-1,2-Dichlorbenzol-<br />
Lösungen an unterschiedlichen Tagen gesprüht<br />
E Q E (% )<br />
5 0<br />
4 5<br />
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U = -4 V<br />
1 5 s<br />
2 0 s<br />
2 5 s<br />
3 5 s<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
W e lle ������ (n m )<br />
Abbildung 4.13: Externe Quanteneffizienz einer 1 wt-%-igen 1,2-Dichlorbenzol-Toluol-<br />
Mischung bei verschiedenen Sprühzeiten<br />
49
50<br />
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
1 5 s<br />
2 0 s<br />
2 5 s<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.14: Strom-Spannungs-Kennlinien verschiedener Sprühzeiten einer 1,2-<br />
Dichlorbenzol-Toluol-Lösung<br />
ringe Änderung der Schichtdicke zurückzuführen. Die Schichtdicke liegt selbst bei hohen<br />
Sprühzeiten noch deutlich unter denen der vorher untersuchten Lösungen.<br />
Die in Abbildung 4.14 dargestellten Strom-Spannungs-Kennlinien ähneln denen <strong>von</strong> 1,2-<br />
Dichlorbenzol. Schon bei Sprühzeiten <strong>von</strong> 15 Sek<strong>und</strong>en können niedrige Dunkelströme<br />
<strong>von</strong> unter 1 × 10 −6 A/cm 2 zu erzielt werden. Auch bei höheren Dunkelströmen beginnt<br />
der Photostrom bei geringen Spannungen nur sehr leicht zu sinken. Der Vorwärtsstrom<br />
sinkt ähnlich 1,2-Dichlorbenzol nur leicht ab. Als Gr<strong>und</strong> hierfür ist die deutlich geringere<br />
Rauheit der Schichten im Vergleich zu 1,2-Dichlorbenzol möglich, wie in Kapitel 4.1.1<br />
beschrieben wird. Durch die geringere Rauheit ist die Schichtdicke gleichmäßiger <strong>und</strong><br />
es gibt weniger dünne Bereiche oder Leckpfade, die den Dunkelstrom erhöhen.<br />
Wird eine Mischung aus Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol im Verhältnis 1 zu 1 als Lö-<br />
sungsmittel verwendet, lassen sich Dioden mit niedrigen Dunkelströmen bei gleichzei-<br />
tig hoher externer Quanteneffizienz herstellen. Die höchste erreichte Quanteneffizienz<br />
beträgt 37 %, was höher ist als bei allen anderen untersuchten Lösungsmitteln. Der
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
Materialverbrauch ist nur geringfügig höher als bei der Verwendung <strong>von</strong> reinem 1,2-<br />
Dichlorbenzol.<br />
4.1.6 Schlussfolgerung<br />
Xylol, Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol erweisen sich aus verschiedenen Gründen als we-<br />
niger geeignet. Mit 1,2-Dichlorbenzol können zwar niedrige Dunkelströme <strong>von</strong> unter<br />
1 × 10 −7 A/cm 2 erreicht werden, allerdings sind die Quanteneffizienzen mit maximal<br />
circa 20 % sehr niedrig. Bei Toluol hingegen lassen sich deutlich höhere Quanteneffi-<br />
zienzen <strong>von</strong> bis zu 30 % erreichen, jedoch sind die Dunkelströme hier auch bei hohen<br />
Sprühzeiten deutlich höher als bei der Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol. Der Mate-<br />
rialverbrauch ist zudem sehr hoch. Durch die Verwendung <strong>von</strong> Xylol lassen sich zwar<br />
niedrigere Dunkelströme als bei der Verwendung <strong>von</strong> Toluol erzielen, ohne dass der Pho-<br />
tostrom bei niedrigen Spannungen absinkt, allerdings sinkt die externe Quanteneffizienz<br />
bei entsprechenden Sprühzeiten auf Werte unter 20 %. Ein möglicher Gr<strong>und</strong> hierfür sind<br />
Schichtinhomogenitäten der mittels Rotationsbeschichtung hergestellten PEDOT:PSS-<br />
Schicht, die aufgr<strong>und</strong> der hohen Rauheit der P3HT:PCBM-Schicht entstehen. Auch ist<br />
der Materialverbrauch im Vergleich zu 1,2-Dichlorbenzol ebenfalls sehr hoch <strong>und</strong> es be-<br />
steht bedingt durch Verklumpen der Polymerlösung <strong>und</strong> Verstopfungen des Sprühkopfes<br />
eine hohe Ausfallrate bei der <strong>Herstellung</strong> der Dioden.<br />
Von den untersuchten Lösungsmitteln erweist sich eine Mischung aus Toluol <strong>und</strong> 1,2-<br />
Dichlorbenzol im Verhältnis 1 zu 1 als am geeignetsten. Mit diesem Lösungsmittel wer-<br />
den die höchsten externen Quanteneffizienzen <strong>von</strong> 37 % erzielt. Gleichzeitig wird auch<br />
ein niedriger Dunkelstrom <strong>von</strong> unter 1 × 10 −6 A/cm 2 erzielt. Die Quanteneffizienz bleibt<br />
über einen großen Bereich an Sprühzeiten konstant. Auch der Materialverbrauch ist um<br />
den Faktor 3 kleiner als bei der Verwendung <strong>von</strong> Xylol oder Toluol als Lösungsmit-<br />
tel. Durch den flachen Anstieg der Schichtdicke mit der Sprühzeit erhöht sich auch die<br />
Reproduzierbarkeit des Prozesses.<br />
51
52<br />
4.2 PEDOT:PSS<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
Wie schon in Kapitel 2.6.3 <strong>und</strong> Kapitel 2.5 beschrieben ist die Aufgabe der PEDOT:PSS-<br />
Schicht zum einen das Ausgleichen des Unterschiedes der Austrittsarbeiten <strong>von</strong> Goldan-<br />
ode <strong>und</strong> Bulk Heterojunktion. Zum anderen blockiert es als Löcherleiter den Elektronen-<br />
fluss zwischen Bulk Heterojunktion <strong>und</strong> Goldanode <strong>und</strong> reduziert so den Dunkelstrom<br />
der entsprechenden Diode. Die PEDOT:PSS-Schichten werden ebenfalls gesprüht. Da<br />
das PEDOT:PSS, welches bereits als wässrige Lösung geliefert wird, in unverdünnter<br />
Form zu Verstopfungen des Sprühkopfes führen kann, wird es mit einem Lösungsmittel<br />
verdünnt. Im unverdünnten Zustand ist zudem der Anstieg der Schichtdicke sehr stark,<br />
was zu Problemen bei der Reproduzierbarkeit führen kann. Als Lösungsmittel dienen<br />
hier deionisiertes Wasser <strong>und</strong> Isopropanol. Die Lösungen werden vor dem Prozess für<br />
mehrere St<strong>und</strong>en bei Raumtemperatur gerührt. Während des Sprühprozesses beträgt<br />
der Abstand zwischen Sprühkopf <strong>und</strong> Substrat in allen Fällen 25 cm <strong>und</strong> die Substrat-<br />
temperatur Raumtemperatur (21 ◦ C). Um den Einfluss <strong>von</strong> Schichtdickenschwankungen<br />
der photoaktiven Schicht während der Messung gering zu halten wird diese anfangs mit<br />
1,2-Dichlorbenzol als Lösungsmittel mittels Rotationsbeschichtung hergestellt, welche<br />
sehr gut reproduzierbare glatte Schichten liefert. Darauf folgend werden PEDOT:PSS-<br />
Schichten auf gesprühte photoaktive Schichten aufgesprüht, um mögliche Effekte durch<br />
den raueren Untergr<strong>und</strong> zu untersuchen.<br />
Isopropanol wird als Lösungsmittel verwendet, da es einen niedrigen Siedepunkt <strong>von</strong><br />
82 ◦ C besitzt <strong>und</strong> schon bei Raumtemperatur sehr schnell verdunstet, was zu schnell<br />
trocknenden Schichten führt. Zudem besitzt es die Eigenschaft in wässrigen Lösungen<br />
die Oberflächenspannung herabzusetzen. Dies kann zusätzlich zur Plasmabehandlung<br />
der hydrophoben P3HT:PCBM-Schicht zu einer besseren Benetzung führen [47].<br />
4.2.1 Schichtdicken<br />
Durch die größere Entfernung <strong>von</strong> 25 cm anstelle <strong>von</strong> 15 cm des Sprühkopfes zum Sub-<br />
strat ist die erreichte Schichtdicke pro Zeit sowie deren Anstieg deutlich geringer als<br />
bei der <strong>Herstellung</strong> der photoaktiven Schicht. Diese Entfernung wird gewählt, da bei
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
3 0 0<br />
2 5 0<br />
2 0 0<br />
1 5 0<br />
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4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
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0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0 1 2 0 1 4 0 1 6 0 1 8 0 2 0 0<br />
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Abbildung 4.15: Dicke der PEDOT:PSS-Schicht über Sprühzeit bei verschiedenen Verdünnungen<br />
mit Wasser <strong>und</strong> Isopropanol<br />
geringeren Distanzen die entstehenden Schichten nass sind. Eine Erhöhung der Sub-<br />
strattemperatur ist aufgr<strong>und</strong> der Plasmabehandlung nicht möglich. Diese würde bei<br />
einer Erwärmung des Substrates über Raumtemperatur ihre Wirkung verlieren. In Ab-<br />
bildung 4.15 ist der Anstieg <strong>von</strong> mehreren mit Wasser <strong>und</strong> Isopropanol verdünnten<br />
PEDOT:PSS-Lösung dargestellt. Folgende Verdünnungen wurden untersucht:<br />
• 2:1 Wasser zu PEDOT:PSS<br />
• 4:1 Wasser zu PEDOT:PSS<br />
• 2:1:2 Wasser zu PEDOT:PSS zu Isopropanol<br />
• 2:1:4 Wasser zu PEDOT:PSS zu Isopropanol<br />
Selbst nach Sprühzeiten <strong>von</strong> 160 s werden bei der geringsten Verdünnung <strong>von</strong> 2:1 Wasser<br />
zu PEDOT:PSS nur Schichtdicken <strong>von</strong> etwa 350 nm erreicht. Bei höheren Verdünnungen<br />
sind die errichten Schichtdicken noch geringer. Die Schichtdicken bei der Verwendung<br />
53
54<br />
S c h ic h td ic k e (n m )<br />
4 0 0<br />
3 5 0<br />
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4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
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0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0 1 2 0 1 4 0 1 6 0 1 8 0<br />
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Abbildung 4.16: Vergleich der Schichticke <strong>von</strong> zwei unterschiedlichen Chargen<br />
PEDOT:PSS<br />
<strong>von</strong> Isopropanol erreichen selbst bei Sprühzeiten <strong>von</strong> 180 s nur Werte unter 100 nm. Auf-<br />
fällig ist, dass die Schichtdicken bei gleicher Verdünnung (4:1 Wasser <strong>und</strong> 2:1:2 Wasser<br />
<strong>und</strong> Isopropanol) <strong>und</strong> Sprühzeit bei der Verwendung <strong>von</strong> Isopropanol dünner sind. Die<br />
geringen Schichtdicken <strong>und</strong> der geringe Anstieg kommen den Bemühungen entgegen eine<br />
dünne Schicht herzustellen, die aber gleichzeitig geschlossen ist <strong>und</strong> somit keine Leck-<br />
pfade enthält. Durch den langsamen Anstieg der Schichtdicke ist das Erreichen einer<br />
bestimmten Schichtdicke weniger störanfällig für Ungenauigkeiten in der Prozesssteue-<br />
rung.<br />
In Abbildung 4.16 ist die Schichtdicke über die Sprühzeit <strong>von</strong> zwei unterschiedlichen<br />
Chargen PEDOT:PSS des Herstellers Firma Heraeus Clevios GmbH dargestellt. Es zeigt<br />
sich, dass die Schichtdicke deutlich <strong>von</strong>einander abweicht. Die mit der alten Charge er-<br />
zielten Schichtdicken sind nahezu doppelt so hoch. Bei nachfolgenden Untersuchungen<br />
muss also darauf geachtet werden, dass für jede neue Charge ein neuer Sprühparame-<br />
tersatz ermittelt wird um mit den vorhergehenden Ergebnissen vergleichbare Resultate<br />
zu erzielen.
4.2.2 Morphologie<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
Die Morphologie der einzelnen Schichten wurde mithilfe eines Mikroskops untersucht. In<br />
Abbildung 4.17 sind die Bilder <strong>von</strong> verschieden verdünnten Schichten bei einer Sprüh-<br />
zeit <strong>von</strong> 120 s Sprühzeit <strong>und</strong> 20x Vergrößerung dargestellt. Die mit Wasser verdünnten<br />
PEDOT:PSS-Schichten besteht aus relativ gleichmäßig r<strong>und</strong>en Tropfen. Bei der dicks-<br />
ten Schicht in Abbildung 4.17 a) kommt es zum Auftreten <strong>von</strong> Interferenzfarben. Dies<br />
ist unabhängig <strong>von</strong> der Verdünnung <strong>und</strong> tritt immer auf sobald die PEDOT:PSS-Schicht<br />
die notwendige Dicke erreicht hat. Die Tropfenform der mit Isopropanol hergestellten<br />
Schichten unterscheidet sich deutlich <strong>von</strong> denen ohne Isopropanol. Sie sind anstatt r<strong>und</strong><br />
eher rosettenförmig <strong>und</strong> zeigen einen ausgeprägten ” coffee-drop“-Effekt. Der Rand der<br />
Tropfen ist dicker als der innere Bereich. Diese abweichende Form lässt sich mit der Ei-<br />
genschaft <strong>von</strong> Isopropanol erklären, die Oberflächenspannung <strong>von</strong> wässrigen Lösungen<br />
zu reduzieren. Die geringere Oberflächenspannung reicht für die Bildung <strong>von</strong> r<strong>und</strong>en<br />
Tropfen nicht aus <strong>und</strong> Sprühtropfen auf der Substratoberfläche verlaufen zu einer Ro-<br />
settenform.<br />
4.2.3 Elektrische Eigenschaften<br />
In Abbildung 4.18 sind die Strom-Spannungs-Kennlinien <strong>von</strong> mit unterschiedlichen Lö-<br />
sungen hergestellten Dioden dargestellt. Als Referenz dient eine Diode, bei der sowohl<br />
P3HT:PCBM-Schicht als auch PEDOT:PSS-Schicht mittels Rotationsbeschichtung her-<br />
gestellt werden. Verdünnung <strong>von</strong> 2:1:4 Wasser zu PEDOT:PSS zu Isopropanol <strong>und</strong> 4:1<br />
Wasser PEDOT:PSS erwiesen sich aufgr<strong>und</strong> der auch bei hohen Sprühzeiten außeror-<br />
dentlich geringen Schichtdicken als nicht geeignet. Die dargestellten Dioden sind die mit<br />
der Sprühzeit, die bei der jeweiligen Lösung den niedrigsten Dunkelstrom bei gleichzei-<br />
tig hohem Photostrom erreicht. Generell verhalten sich bei PEDOT:PSS die Photo- <strong>und</strong><br />
Dunkelströme mit der Sprühzeit ähnlich wie bei der P3HT:PCBM-Schicht. Der Dunkel-<br />
strom nimmt mit der Sprühzeit ab, während der Photostrom erst im Bereich niedriger<br />
Spannungen absinkt um dann auch bei größeren Spannungen abzusinken.<br />
55
56<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
Abbildung 4.17: Mikroskopaufnahmen verschieden verdünnter PEDOT:PSS-Schichten<br />
mit 120 s Sprühzeit <strong>und</strong> 20x Vergößerung. a) 2 zu 1 Wasser b) 2 zu<br />
1 zu 2 Wasser Isopropanol c) 4 zu 1 Wasser d) 2 zu 1 zu 4 Wasser<br />
Isopropanol
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
2 :1 :2 6 0 s<br />
2 :1 2 0 s<br />
R e fe re n z<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.18: Strom-Spannungs-Kennlinien verschieden verdünnter PEDOT:PSS-<br />
Lösungen bei unterschiedlichen Sprühzeiten<br />
Bei einer Verdünnung <strong>von</strong> 2:1 <strong>und</strong> 2:1:2 liegen die Dunkelströme nahe an denen der mit-<br />
tels Rotationsbeschichtung hergestellten Referenz, die der 2:1:2-Lösung sogar darunter.<br />
Die Photoströme weichen nur im Bereich unter −1 V <strong>von</strong> der Referenz ab <strong>und</strong> sind et-<br />
was niedriger. Da es sich hierbei aber um Einzelexperimente handelt, ist ein genereller<br />
Trend nicht aus den Daten abzuleiten.<br />
In Abbildung 4.19 sind die externen Quanteneffizienzen der oben beschriebenen Dioden<br />
dargestellt. Es zeigt sich, dass die mit einer 2:1:2-Lösung hergestellten Dioden nach der<br />
Referenz die höchste externe Quanteneffizienz erreichen. Das Maximum <strong>von</strong> 38 % liegt<br />
jedoch anders als bei der Referenz (41 %), wo es bei 550 nm liegt, bei 610 nm. Die 2:1-<br />
Lösung erreicht mit 31 % geringere Werte. Auffällig ist auch, dass sich das Spektrum der<br />
beiden zuletzt genannten Lösungen deutlich <strong>von</strong>einander unterscheidet. Die 2:1-Lösung<br />
besitzt bei 595 nm einen Buckel. Dieser tritt bei allen dünnen PEDOT:PSS-Schichten<br />
auf. Als Ursache wird ein Einkoppelungseffekt an der Oberfläche vermutet.<br />
57
58<br />
E Q E (% )<br />
5 0<br />
4 5<br />
4 0<br />
3 5<br />
3 0<br />
2 5<br />
2 0<br />
1 5<br />
1 0<br />
5<br />
0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
U = -4 V<br />
2 :1 :2 6 0 s<br />
2 :1 2 0 s<br />
S p in<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
W e lle n ����� (n m )<br />
Abbildung 4.19: Externe Quantenffizienzen <strong>von</strong> PEDOT:PSS-Lösungen mit unterschiedlicher<br />
Verdünnung <strong>und</strong> Sprühzeit<br />
4.2.4 Schlussfolgerung<br />
Die Betrachtung der unterschiedlichen PEDOT:PSS-Lösungen zeigt, dass bei einer Ver-<br />
dünnung <strong>von</strong> 2:1 mit Wasser <strong>und</strong> bei einer Verdünnung <strong>von</strong> 2:1:2 mit Wasser <strong>und</strong> Iso-<br />
propanol Strom-Spannungs-Kennlinien erzielt werden können, die nur geringfügig <strong>von</strong><br />
denen der vollständig mittels Rotationsbeschichtung hergestellten Referenz abweichen.<br />
Die externe Quanteneffizienz der Dioden ist denen der Referenz ebenfalls sehr ähn-<br />
lich, wenn auch etwas kleinere Werte erreicht werden. Ein möglicher Gr<strong>und</strong> hierfür ist,<br />
dass die Proben während des Sprühprozesses länger der Umgebungsluft ausgesetzt sind<br />
als bei einer <strong>Herstellung</strong> mittels Rotationsbeschichtung. Der bei dünnen PEDOT:PSS-<br />
Schichten auftretende Buckel in der externen Quanteneffizienz bei 595 nm scheint durch<br />
einen Einkoppelungseffekt verursacht zu werden.
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
4.3 Vollständig gesprühte Photodioden<br />
In Abbildung 4.20 <strong>und</strong> Abbildung 4.21 sind sowohl die externe Quanteneffizienz als<br />
auch die Strom-Spannungs-Kennlinie <strong>von</strong> vollständig gesprühten organischen Photodi-<br />
oden dargestellt. Als Lösungsmittel wird in diesem Prozess eine Mischung aus Toluol<br />
<strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol im Verhältnis 1 zu 1 gewählt, da dies wie in Kapitel 4.1 be-<br />
schrieben die besten Ergebnisse der untersuchten Lösungsmittel liefert. Die Sprühzeit<br />
beträgt 20 Sek<strong>und</strong>en wodurch eine Schichtdicke <strong>von</strong> etwa 350 nm erzielt wird. Diese lie-<br />
fert ein gutes Verhältnis <strong>von</strong> Photostrom zu Dunkelstrom bei gleichzeitig hoher externer<br />
Quanteneffizienz (Kapitel 4.1.5). Für die PEDOT:PSS-Schicht wird eine Verdünnung<br />
mit Wasser <strong>von</strong> 2:1 gewählt <strong>und</strong> eine Sprühzeit <strong>von</strong> 110 Sek<strong>und</strong>en, was eine ungefähren<br />
Schichtdicke <strong>von</strong> 300 nm entstpricht <strong>und</strong> somit deutlich über der in Kapitel 4.1.1 be-<br />
schriebenen Rauheit der P3HT:PCBM-Schicht liegt. Diese ersten Ergebnisse zeigen eine<br />
deutliche Verbesserung der externen Quanteneffizienz auf etwa 55 %. Der Dunkelstrom<br />
der Diode mit der höchsten Effizienz ist mit Werten <strong>von</strong> knapp unter 1 × 10 −6 A/cm 2<br />
ähnlich hoch wie der in Kapitel 4.1.5<br />
Die externe Quanteneffizienz liegt nahezu 15 % über der in Abbildung 4.19 dargestellten<br />
Referenz. Die Gründe für diese deutliche Verbesserung sind Gegenstand aktueller Un-<br />
tersuchungen. Als mögliche Ursachen werden unter anderem Lichteinkopplungseffekte<br />
angenommen. Des Weiteren ist ein negativer Einfluss <strong>von</strong> mittels Rotationsbeschichtung<br />
hergestellten PEDOT:PSS-Schichten auf gesprühten P3HT:PCBM-Schichten möglich,<br />
der durch das Sprühen beider Schichten aufgehoben wird. Ursache können hier Benet-<br />
zungsprobleme sein, da die Rauheit der P3HT:PCBM-Schicht im Bereich der Schicht-<br />
dicken der PEDOT:PSS-Schicht liegt.<br />
59
60<br />
E Q E (% )<br />
6 0<br />
5 5<br />
5 0<br />
4 5<br />
4 0<br />
3 5<br />
3 0<br />
2 5<br />
2 0<br />
1 5<br />
1 0<br />
5<br />
0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
U = -4 V<br />
1 1 0 s P E D O T<br />
3 5 0 4 0 0 4 5 0 5 0 0 5 5 0 6 0 0 6 5 0 7 0 0 7 5 0 8 0 0<br />
W e lle n l�n g e (n m )<br />
Abbildung 4.20: Externe Quanteneffizienz einer komplett gesprühten Diode mit 110<br />
Sek<strong>und</strong>en Sprühzeit für PEDOT:PSS <strong>und</strong> 20 Sek<strong>und</strong>en für die<br />
P3HT:PCBM-Schicht<br />
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
1 0<br />
1<br />
0 .1<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
1 E -5<br />
1 E -6<br />
1 E -7<br />
1 E -8<br />
-4 -3 -2 -1 0 1 2<br />
S p a n n u n g (V )<br />
Abbildung 4.21: Strom-Spannungs-Kennlinie einer vollständig gesprühten Diode
4.4 Degradationsmessungen<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
In diesem Kapitel wird das Degradationsverhalten der Photodioden untersucht. Hier-<br />
für werden mehrere Proben mit beiden Layouts mittels Rotationsbeschichtung in ei-<br />
ner Stickstoffatmosphäre hergestellt. Die Proben werden mit unterschiedlichen UV-<br />
härtenden Klebern verkapselt. Verwendet werden Dymax 9001-E-v3.1 <strong>und</strong> Dymax OP-<br />
4-20632, wobei eine mit Dymax OP-4-20632 verkapselte Probe eine R<strong>und</strong>umverkap-<br />
selung erhält. Über einen Zeitraum <strong>von</strong> 90 Tagen werden daraufhin in regelmäßigen<br />
Abständen die EQE <strong>und</strong> Strom-Spannungs-Kennlinien der Proben ermittelt.<br />
Generell kann die Degradation der Dioden <strong>von</strong> vielen verschiedenen Mechanismen ver-<br />
ursacht werden. Die wichtigsten sind folgende [27]:<br />
• Oxidation der photoaktiven Schicht<br />
• Oxidation <strong>von</strong> Anode oder Kathode<br />
• Änderungen in der Morphologie der Schichten<br />
• Ablösung der Elektroden<br />
Zur Oxidation <strong>von</strong> Anode, Kathode oder photoaktiver Schicht kann es kommen, wenn<br />
Sauerstoff durch die Verkapselung in das Bauteil diff<strong>und</strong>iert oder bereits bei der Herstel-<br />
lung mit eingeschlossen wird. Dies kann durch eine bessere Verkapselung beziehungs-<br />
weise das Verhindern eines Sauerstoffeinschlusses während des <strong>Herstellung</strong>sprozesses<br />
minimiert werden. Änderungen der Morphologie der Schichten sowie eine Ablösung der<br />
Elektroden beruhen auf chemischen Reaktionen innerhalb der Schichten <strong>und</strong> können<br />
aus diesem Gr<strong>und</strong> durch die Verkapselung nur in einem geringen Maße beeinträchtigt<br />
werden.<br />
Im Rahmen dieser Arbeit wird die Veränderung des elektrischen Verhaltens der Bauteile<br />
über den Zeitraum <strong>von</strong> 90 Tagen untersucht. Betrachtet werden zwei Messreihen mit<br />
unterschiedlichem Entstehungsdatum, welche jedoch in denselben Zeitabständen gemes-<br />
sen werden. In Abbildung 4.22 <strong>und</strong> Abbildung 4.23 sind die externen Quanteneffizienzen<br />
61
62<br />
E Q E (% )<br />
3 8<br />
3 6<br />
3 4<br />
3 2<br />
3 0<br />
2 8<br />
2 6<br />
2 4<br />
2 2<br />
2 0<br />
1 8<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0<br />
Z e it (T a g e )<br />
D y m a x 9 0 0 1 -E -v 3 .1<br />
D y m a x O P -4 -2 0 6 3 2<br />
Abbildung 4.22: Externe Quanteneffizienz der Proben der ersten Messreihe über die Zeit<br />
bei 540 nm über alle Dioden einer Probe gemittelt.<br />
E Q E (% )<br />
4 4<br />
4 2<br />
4 0<br />
3 8<br />
3 6<br />
3 4<br />
3 2<br />
3 0<br />
2 8<br />
2 6<br />
2 4<br />
2 2<br />
2 0<br />
0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0<br />
Z e it (T a g e )<br />
D y m a x 9 0 0 1 -E -v 3 .1<br />
D y m a x O P -4 -2 0 6 3 2<br />
Abbildung 4.23: Externe Quanteneffizienz <strong>von</strong> Proben der zweiten Messreihe über die<br />
Zeit bei 540 nm über alle Dioden einer Probe gemittelt.
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
2 .2<br />
2 .1<br />
2 .0<br />
1 .9<br />
1 .8<br />
1 .7<br />
1 .6<br />
1 .5<br />
1 .4<br />
1 .3<br />
1 .2<br />
1 .1<br />
1 .0<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
D y m a x 9 0 0 1 -E -v 3 .1<br />
D y m a x O P -4 -2 0 6 3 2<br />
0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0<br />
Z e it (T a g e )<br />
Abbildung 4.24: Photoströme bei −4 V über die Zeit jeweils über alle Dioden einer<br />
Probe gemittelt.<br />
2 )<br />
S tro m d ic h te (m A /c m<br />
0 .0 1<br />
1 E -3<br />
1 E -4<br />
D y m a x O P -4 -2 0 6 3 2<br />
D y m a x 9 0 0 1 -E -v 3 .1<br />
0 2 0 4 0 6 0 8 0 1 0 0<br />
Z e it (T a g e )<br />
Abbildung 4.25: Dunlelströme bei über die Zeit jeweils über alle Dioden einer Probe<br />
gemittelt.<br />
63
64<br />
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
bei 540 nm <strong>und</strong> −4 V Biasspannung der beiden Messreihen über die Zeit dargestellt. Es<br />
werden jeweils die Mittelwerte aller Dioden einer Probe dargestellt, da sie identische<br />
<strong>Herstellung</strong>sparameter besitzen. Es ist in beiden Abbildungen ein deutlicher Unter-<br />
schied zwischen den beiden Klebern im Verlauf der Quanteneffizienzen zu erkennen. In<br />
Abbildung 4.22 fällt die Quanteneffizienz der mit Dymax 9001-E-v3.1 hergestellten Di-<br />
oden zunächst stark ab <strong>und</strong> bewegt sich dann nahezu gleichbleibend auf einem deutlich<br />
niedrigeren Niveau. Die mit Dymax OP-4-20632 hergestellten Dioden hingegen bleiben<br />
nahezu auf dem ursprünglichen Niveau kurz nach der <strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> sinken nur sehr<br />
leicht ab.<br />
Die in Abbildung 4.23 dargestellte zweite Messreihe verhält sich anders. Der Abfall<br />
der Quanteneffizienz der mit Dymax 9001-E-v3.1 hergestellten Dioden am Anfang der<br />
Messungen ist deutlich geringer <strong>und</strong> bleibt danach auch nicht auf einem nahezu gleich-<br />
bleibenden Niveau, sondern geht kontinuierlich weiter zurück. Allerdings erreichen sie<br />
nach 90 Tagen eine ähnlich niedrige externe Quanteneffizienz wie in der ersten Messrei-<br />
he. Die mit Dymax OP-4-20632 hergestellten Dioden zeigen auch hier nach einem kurzen<br />
Absinken das gleiche konstante Verhalten wie auch schon in in der ersten Messreihe.<br />
Abbildung 4.24 zeigt die Mittelwerte der Photoströme der Proben beider Messreihen.<br />
Der Übersicht halber wurde der Mittelwert aus allen Dioden einer Probe ermittelt. Der<br />
Photostrom der mit Dymax 9001-E-v3.1 hergestellten Proben sinkt zunächst stark <strong>und</strong><br />
danach nur noch langsam ab. Bei den mit Dymax OP-4-20632 hergestellten Dioden<br />
hingegen bleibt der Photostrom über den gesamten Messzeitraum nahezu konstant <strong>und</strong><br />
sinkt nur sehr leicht ab. Bei den in Abbildung 4.25 dargestellten Dunkelströmen verhält<br />
es sich ähnlich. Während bei der Verwendung <strong>von</strong> Dymax 9001-E-v3.1 die Dunkelströme<br />
über den Messzeitraum um fast zwei Größenordnungen zunehmen, bleiben sie bei der<br />
Verwendung <strong>von</strong> Dymax OP-4-20632 nahezu konstant.<br />
Bei den über einen Zeitraum <strong>von</strong> 90 Tagen verteilten Messungen stellte sich Dymax OP-<br />
4-20632 als besser geeignet heraus als Dymax 9001-E-v3.1. Die externe Quanteneffizienz<br />
sowie der Photostrom der untersuchten Dioden blieben bei der Verwendung <strong>von</strong> Dymax<br />
OP-4-20632 über den gesamten Messzeitraum nahezu konstant <strong>und</strong> sinken nur gering-<br />
fügig ab. Bei der Verwendung <strong>von</strong> Dymax 9001-E-v3.1 hingegen kommt es schon nach<br />
wenigen Tagen zu einem erheblichen Einbruch <strong>von</strong> externer Quanteneffizienz <strong>und</strong> Pho-
4 Ergebnisse <strong>und</strong> Diskussion<br />
tostrom. Zwischen den einzelnen Probenlayouts ist kein Unterschied feststellbar. Die<br />
mit Dymax OP-4-20632 r<strong>und</strong>umverkapselte Probe zeigt ebenfalls keine Abweichung,<br />
kann aber bei nachfolgenden Langzeitversuchen eventuell noch einmal eine Verbesse-<br />
rung erzielen.<br />
65
5 Zusammenfassung<br />
Im Rahmen der vorliegenden Arbeit wurden organische Photodioden hergestellt <strong>und</strong><br />
charakterisiert sowie deren Degradationsverhalten untersucht. Um den <strong>Herstellung</strong>s-<br />
prozess mittels Sprühbeschichtung zu optimieren wurde hierfür zunächst der Einflusse<br />
des Sprühens auf die verschiedenen Schichten jeweils getrennt <strong>von</strong>einander betrachtet.<br />
Dies geschah indem die jeweils andere Schicht mittels Rotationsbeschichtung hergestellt<br />
wurde.<br />
Bei den untersuchten Lösungsmitteln handelt es sich um 1,2-Dichlorbenzol, Toluol, Xy-<br />
lol sowie einer Mischung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol <strong>und</strong> Toluol im Verhältnis 1 zu 1. Hierbei<br />
stellte sich heraus, dass <strong>von</strong> diesen die Mischung aus Toluol <strong>und</strong> 1,2-Dichlorbenzol für<br />
eine <strong>Herstellung</strong> mittels Sprühverfahren am besten geeinet ist. Sie liefert die höchste<br />
externe Quanteneffizienz bei niedrigem Dunkelstrom, einen akzeptablen Materialver-<br />
brauch sowie eine gute Reproduzierbarkeit. Die anderen Lösungsmittel erwiesen sich<br />
aus verschiedenen Gründen als ungeeignet. Bei Xylol ist der Materialverbrauch sehr<br />
hoch <strong>und</strong> es kommt aufgr<strong>und</strong> <strong>von</strong> Problemen bei der <strong>Herstellung</strong> <strong>von</strong> Ausschussquo-<br />
ten <strong>von</strong> bis zu 50 %. Zudem ist der Dunkelstrom bei Schichtdicken, welche noch eine<br />
akzeptable externe Quanteneffizienz bieten hoch. Bei Toluol ist der Materialverbrauch<br />
außerordentlich hoch, während ebenfalls nur erhöhte Dunkelströme erreicht werden.<br />
Eine Verwendung <strong>von</strong> 1,2-Dichlorbenzol als Lösungsmittel hingegen liefert zwar sehr<br />
niedrige Dunkelströme, allerdings ist die externe Quanteneffizienz niedrig.<br />
Untersucht wurden ebenfalls verschiedene Verdünnungen <strong>von</strong> PEDOT:PSS mit deioni-<br />
siertem Wasser <strong>und</strong> Isopropanol. Dabei erwies sich eine Verdünnung im Verhältnis <strong>von</strong><br />
2 zu 1 mit deionisiertem Wasser als am geeignetsten. Auch wurde festgestellt, dass es<br />
zwischen den einzelnen gelieferten Chargen an PEDOT:PSS vom selben Hersteller zu<br />
67
68<br />
5 Zusammenfassung<br />
erheblichen Unterschieden in der Schichtdicke kommt. Es müssen also für jede Charge<br />
die Prozessparameter überprüft <strong>und</strong> gegebenenfalls neue ermittelt werden.<br />
Erste Ergebnisse beim Herstellen vollständig gesprühter organischer Photodioden zeigen<br />
eine weitere Steigerung der externen Quanteneffizienz auf bis zu 55 %. Als Lösungsmittel<br />
für die photoaktive P3HT:PCBM-Schicht wurde eine Mischung aus 1,2-Dichlorbenzol<br />
<strong>und</strong> Toluol im Verhältnis 1 zu 1 verwendet. Die Verdünnung des PEDOT:PSS mit deio-<br />
nisiertem Wasser betrug 2 zu 1. Die Strom-Spannungs-Kennlinien dieser Dioden zeigen<br />
ein ähnliches Verhalten wie die Referenz, die mittels Rotationsbeschichtung hergestellt<br />
wurde. Allerdings liegt die erreichte externe Quanteneffizienz um 15 % höher, was Ge-<br />
genstand aktueller Untersuchungen ist.<br />
Zuletzt wurde das Degradationsverhalten bei der Verwendung <strong>von</strong> unterschiedlichen<br />
Klebern zur Verkapselung untersucht. Hierfür wurden die externe Quanteneffizienz <strong>und</strong><br />
die Strom-Spannungs-Kennlinien mehrerer Dioden über einen Zeitraum <strong>von</strong> 90 Tagen<br />
gemessen. Dabei stellte sich heraus, dass bei der Verwendung <strong>von</strong> Dymax OP-4-20632<br />
eine deutlich geringere Degradation auftritt als bei der Verwendung <strong>von</strong> Dymax 9001-E-<br />
v3.1. Die Lebensdauer der organischen Photodioden kann also auf diese Weise deutlich<br />
erhöht werden.
6 Ausblick<br />
Die Forschungen im Bereich der organischen Photodioden werden kontinuierlich weiter<br />
betrieben. Im Besonderen sollen der Einsatz einer leitfähigen Polymeranode sowie, der<br />
Einfluss einer R<strong>und</strong>umverkapselung auf die Lebenszeit untersucht werden <strong>und</strong> schließlich<br />
der Prozess auf CMOS-Substrate übertragen werden.<br />
6.1 Leitfähige Polymeranode<br />
Eine Möglichkeit die Effizienz der Photodioden zu steigern wäre der Ersatz der Goldan-<br />
ode durch eine leitfähige Polymeranode mit einer höheren Transparenz. Bei der bisher<br />
verwendeten Anode aus Gold gehen 50 % des eingestrahlten Lichtes durch Reflekti-<br />
on <strong>und</strong> Absorption in der Anode verloren <strong>und</strong> stehen nicht mehr zur Generation <strong>von</strong><br />
Ladungsträgern zu Verfügung. Wird das Gold der Anode durch ein transparenteres Ma-<br />
terial ausgetauscht, steigt durch den geringeren Verlust die Effizienz der Anode. Eine<br />
Möglichkeit hierfür wäre die Verwendung eines leitfähigen Polymers [47–49].<br />
Eine solche Anode kann Transparenzen <strong>von</strong> bis zu 90 % aufweisen, wodurch die Effizienz<br />
der Photodioden noch einmal beträchtlich gesteigert werden könnte.<br />
6.2 R<strong>und</strong>umverkapselung<br />
Eine weitere mögliche Verbesserung ist eine R<strong>und</strong>umverkapselung der organischen Pho-<br />
todioden. Auf diese Weise kann das Eindiff<strong>und</strong>ieren <strong>von</strong> Wasser <strong>und</strong> Sauerstoff noch voll-<br />
69
70<br />
6 Ausblick<br />
Abbildung 6.1: Aufbau einer mit einer leitfähigen Polymeranode versehenen organischen<br />
Photodiode<br />
ständiger verhindert werden. Dieser kann durch die PEDOT:PSS- <strong>und</strong> P3HT:PCBM-<br />
Schicht, welche nicht vollständig durch die Verkapselung überdeckt ist, noch eindiffun-<br />
dieren. Dies ist bei dem in Kapitel 3.1.2 beschriebenen zweiten Kathodenlayout möglich.<br />
Im Untersuchungszeitraum dieser Arbeit wurde allerdings keine Abweichung zu den an-<br />
deren mit Dymax OP-4-20632 hergestellten Proben festgestellt. Es wird aber erwartet,<br />
dass sich in nachfolgenden Langzeitversuchen zeigt, dass sich die Lebenszeit der Bauteile<br />
auf diese Weise noch einmal erhöhen lässt.<br />
6.3 CMOS<br />
Eine weitere Herausforderung ist die Übertragung des <strong>Herstellung</strong>sprozesses auf CMOS-<br />
Substrate. Probleme bereitet hierbei die hohe Textur der Substrate, das Handling der<br />
kleinen Substrate <strong>und</strong> die kleine Pixelgröße. Diese liegt bei einer Kantenlänge <strong>von</strong> kleiner<br />
100 µm. Ein mehrerer Mikrometer breiter Leckpfad macht somit einen signifikanten Teil<br />
der Pixeloberfläche aus. Ein solcher Chip ist in Abbildung 6.2 dargestellt.
6 Ausblick<br />
Abbildung 6.2: Foto eines CMOS-Substrates. Mittig ist der eigentliche Chip befestigt.<br />
71
Literaturverzeichnis<br />
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Oktober 2011.<br />
77
Literaturverzeichnis<br />
Selbständigkeitserklärung<br />
Hiermit erkläre ich gemäß § 31 Abs. 4 der Rahmenprüfungsordnung, dass ich die vor-<br />
liegende Arbeit mit dem Titel<br />
<strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> <strong>Charakterisierung</strong> <strong>von</strong> organischen Photodetektoren<br />
selbständig verfasst, noch nicht anderweitig für Prüfungszwecke vorgelegt, keine anderen<br />
als die angegebenen Quellen oder Hilfsmittel benutzt sowie wörtliche <strong>und</strong> sinngemäße<br />
Zitate als solche gekennzeichnet habe.<br />
München, den 30. August 2011 ......................................<br />
Morten Schmidt<br />
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