plasmatis - INP Greifswald
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PUBlIKAtIOnEn<br />
81. zalach, J.; Araoud, z.; charrada, K.; Franke, St.; Schöpp,<br />
H.; Zissis, G.:<br />
Experimental and theoretical investigations on the<br />
warm-up of a high-pressure mercury discharge lamp<br />
Phys. Plasmas 18 (2011) 033511<br />
82. zalach, J.; Araoud, z.; Franke, St.; charrada, K.:<br />
Experimental and theoretical wall temperatures of Hg<br />
HID lamps<br />
IEEE trans. Plasma Sci. 39 (2011) 2986-2987<br />
83. zalach, J.; Kettlitz, M.:<br />
Arc diagnostics by simple optical means<br />
IEEE trans. Plasma Sci. 39/11 (2011) 2984-2985<br />
84. zimmermann, h.; Mizuno, t.:<br />
Infrared Laser Absorption Spectroscopy with Quantum<br />
Cascade Lasers in Industrial Applications<br />
rev. laser Eng. 39 (2011) 753-756<br />
85. zimmermann, S.; Ahner, n.; Blaschta, F.; Schaller, M.;<br />
zimmermann, h.; rülke, h.; lang, n.; röpcke, J.; Schulz,<br />
S.E.; Gessner, T.:<br />
Influence of the additives Argon, O2, C4F8, H2, N2 and<br />
CO on plasma conditions and process results during the<br />
etch of SiCOH in CF4 plasma<br />
Microelectron. Eng. 88 (2011) 671-676<br />
MOnOgrAPhIEn 2010<br />
1. Ehlbeck, J.; Brandenburg, r.; Stieber, M.; Krohmann, U.;<br />
von Woedtke, Th.; Weltmann, K.-D.:<br />
Antimikrobielle Behandlung mit Atmosphärendruckplasmen<br />
vakuum - Plasma – technologien : Beschichtung und Modifizierung<br />
von Oberflächen, Bad Saulgau : leuze 2010, 978-<br />
3-87480-257-4<br />
2. röpcke, J.; Engeln, r.; Schram, D.; rousseau, A.; Davies, P.<br />
B.:<br />
Kinetic and Diagnostic Studies of Molecular Plasmas<br />
Using Laser Absorption Techniques<br />
Introduction to complex Plasma, heidelberg [u.a.] : Springer<br />
2010, 978-3-642-10591-3<br />
3. Schoepp, H.; Uhrlandt, D.; Goett, G.:<br />
Plasmaphysikalische Untersuchungen am Schweißlichtbogen<br />
DVS Jahrbuch Schweißtechnik 2011, Düsseldorf : DVS-Verl.<br />
2010<br />
78<br />
4. Schröder, K.; Ohl, A.; Nitschke, M.:<br />
Plasmaprozesse zur Beeinflussung der Biokompatibilität<br />
von Oberflächen<br />
vakuum – Plasma - technologien : Beschichtung und Modifizierung<br />
von Oberflächen, Bad Saulgau : leuze 2010, 978-<br />
3-87480-257-4<br />
5. Schröder, K.; Finke, B.; Jesswein, h.; lüthen, F.; Diener,<br />
A.; Ihrke, r.; Ohl, A.; Weltmann, K.-D.; rychly, J.; nebe, J.B.:<br />
Similarities of plasma amino functionalized PEEK and titanium<br />
surfaces concerning enhanced osteoblast cell adhesion<br />
Surface and Interfacial Aspects of cell Adhesion, leiden<br />
[u.a.] : Brill 2010, 978-90-04-1907-8<br />
6. Witt, G.; Häckel, M.:<br />
PMO-Implementierung in öffentlichen Forschungseinrichtungen<br />
handbuch Project Management Office : mit PMO zum strategischen<br />
Management der Projektlandschaft, Düsseldorf :<br />
Symposion Publ. 2010, 978-3-93970765-3<br />
MOnOgrAPhIEn 2011<br />
1. Jupé, M.; Malobabic, S.; Schmitz, c.; gouldieff, c.; Steffen,<br />
h.; Wiese, r.; ristau, D.:<br />
Investigation of Ion Beam properties and Coating Material<br />
during IBS<br />
Advances in Optical Thin Films IV ; Proceedings of SPIE Volume<br />
8168, Bellingham, Wash. : SPIE 2011, 978-08194-8794-0<br />
2. röpcke, J.; rousseau, A.; Davies, P. B.:<br />
Kinetic and Diagnostic Studies of Carbon Containing<br />
Plasmas and Vapors Using Laser Absorption Techniques<br />
Spectroscopy, Dynamics and Molecular theory of carbon<br />
Plasmas and vapors, Singapore [u.a.] : World Scientific<br />
2011, 978-981-283764-6<br />
3. Savastenko, N.A.; Tarasenko, N.V.:<br />
Optical Emission Spectroscopy of C2 and C3 Molecules<br />
in Laser Ablation Carbon Plasma<br />
Spectroscopy, Dynamics and Molecular theory of carbon<br />
Plasmas and vapor, Singapore [u.a.] : World Scientific 2011,<br />
978-981-283764-6<br />
4. Stenzel, O.; Wilbrandt, S.; Kaiser, n.; Schmitz, c.; turowski,<br />
M.; ristau, D.; Awakowicz, P.; Brinkmann, r.-P.; Musch,<br />
t.; rolfes, I.; Steffen, h.; Foest, r.; Ohl, A.; Köhler, t.; Dolgonos,<br />
G.; Frauenheim, T.:<br />
Plasma and optical thin film technologies<br />
Advances in Optical Thin Films IV ; Proceedings of SPIE Volume<br />
8168, Bellingham, Wash. : SPIE 2011, 978-08194-8794-0