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Elektronik für Physiker - Physik-Institut

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KAPITEL 2. HALBLEITER – BAUELEMENTE 30<br />

angehoben. Diese ne Leitungselektronen und die dadurch entstehenden np Löcher im<br />

Valenzband sind die Träger der Leitfähigkeit des Materials.<br />

Bei reinen Halbleitern spricht man von intrinsischer Leitung: Es gibt gleich viele<br />

Leitungselektronen wie Löcher: np = ne =: ni. Aus der Fermifunktion lässt sich leicht<br />

ableiten, dass<br />

ni ∼ e − EG 2kT (2.2)<br />

.<br />

Die folgende Tabelle zeigt einige Beispiele, wobei <strong>für</strong> die Halbleiter auch die intrinsische<br />

Leitungsdichte bei 300 K angegeben ist. Diese ist absolut sehr klein im Vergleich<br />

zu der Zahl der Atome, die <strong>für</strong> ein reines Siliziumgitter zum Beispiel etwa 5 · 10 22 cm −3<br />

beträgt.<br />

EG [eV] ni [cm −3 ]<br />

Isolatoren SiO2 8<br />

Diamant 5<br />

Halbleiter GaAs 1.42 2 · 10 6<br />

Si 1.12 1 · 10 10<br />

Ge 0.66 2 · 10 13<br />

Metalle � 0<br />

Der überwiegende Teil aller Halbleiterelektronik wird heute aus Silizium hergestellt.<br />

Der wesentliche Trick besteht nun in der Dotierung (englisch Doping). Dabei werden<br />

minimal kleine Mengen von 3 oder 5 wertigen Atomen als Verunreinigung in das Gitter<br />

der 4 wertigen Silizium Atome eingebracht.<br />

Wird ein 5-wertiges Atom an einer Gitterstelle eingebracht, die eigentlich <strong>für</strong> ein 4wertiges<br />

Atom gedacht ist, gibt es einen zusätzlichen Elektronenzustand, der allerdings<br />

sehr schwach gebunden ist. Sein Energieniveau liegt nahe am Leitungsband. Man spricht<br />

von einem Donator, wo<strong>für</strong> typischerweise Phosphor oder Arsen verwendet wird.<br />

Ebenso ergibt sich bei einer 3-wertigen Verunreinigung einen zuätzlichen Lochzustand,<br />

dessen Energieniveau nahe am Valenzband liegt und das leicht ein Elektron aus<br />

dem Valenzband binden kann. Typische Akzeptoren sind Bor, Aluminium oder Gallium.<br />

Die Bindungsenergien <strong>für</strong> die zusätzlichen durch die Dotierung mit Bor oder Phosphor<br />

entstehenden Elektronen- oder Lochzustände betragen nur 0.045 eV, sind also in<br />

der Grössenordnung von kT bei Raumtemperatur. Deshalb befinden sich im normalen<br />

Betrieb die meisten der zusätzlichen Elektronen im Leitungsband (ebenso die Löcher<br />

im Valenzband). Die Dotierungsstärke bestimmt die Leitfähigkeit.

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