Elektronik für Physiker - Physik-Institut
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KAPITEL 2. HALBLEITER – BAUELEMENTE 30<br />
angehoben. Diese ne Leitungselektronen und die dadurch entstehenden np Löcher im<br />
Valenzband sind die Träger der Leitfähigkeit des Materials.<br />
Bei reinen Halbleitern spricht man von intrinsischer Leitung: Es gibt gleich viele<br />
Leitungselektronen wie Löcher: np = ne =: ni. Aus der Fermifunktion lässt sich leicht<br />
ableiten, dass<br />
ni ∼ e − EG 2kT (2.2)<br />
.<br />
Die folgende Tabelle zeigt einige Beispiele, wobei <strong>für</strong> die Halbleiter auch die intrinsische<br />
Leitungsdichte bei 300 K angegeben ist. Diese ist absolut sehr klein im Vergleich<br />
zu der Zahl der Atome, die <strong>für</strong> ein reines Siliziumgitter zum Beispiel etwa 5 · 10 22 cm −3<br />
beträgt.<br />
EG [eV] ni [cm −3 ]<br />
Isolatoren SiO2 8<br />
Diamant 5<br />
Halbleiter GaAs 1.42 2 · 10 6<br />
Si 1.12 1 · 10 10<br />
Ge 0.66 2 · 10 13<br />
Metalle � 0<br />
Der überwiegende Teil aller Halbleiterelektronik wird heute aus Silizium hergestellt.<br />
Der wesentliche Trick besteht nun in der Dotierung (englisch Doping). Dabei werden<br />
minimal kleine Mengen von 3 oder 5 wertigen Atomen als Verunreinigung in das Gitter<br />
der 4 wertigen Silizium Atome eingebracht.<br />
Wird ein 5-wertiges Atom an einer Gitterstelle eingebracht, die eigentlich <strong>für</strong> ein 4wertiges<br />
Atom gedacht ist, gibt es einen zusätzlichen Elektronenzustand, der allerdings<br />
sehr schwach gebunden ist. Sein Energieniveau liegt nahe am Leitungsband. Man spricht<br />
von einem Donator, wo<strong>für</strong> typischerweise Phosphor oder Arsen verwendet wird.<br />
Ebenso ergibt sich bei einer 3-wertigen Verunreinigung einen zuätzlichen Lochzustand,<br />
dessen Energieniveau nahe am Valenzband liegt und das leicht ein Elektron aus<br />
dem Valenzband binden kann. Typische Akzeptoren sind Bor, Aluminium oder Gallium.<br />
Die Bindungsenergien <strong>für</strong> die zusätzlichen durch die Dotierung mit Bor oder Phosphor<br />
entstehenden Elektronen- oder Lochzustände betragen nur 0.045 eV, sind also in<br />
der Grössenordnung von kT bei Raumtemperatur. Deshalb befinden sich im normalen<br />
Betrieb die meisten der zusätzlichen Elektronen im Leitungsband (ebenso die Löcher<br />
im Valenzband). Die Dotierungsstärke bestimmt die Leitfähigkeit.