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パンフレット - 科学技術振興機構

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次 世 代 エレクトロニクス<br />

デバイスの 創 出 に<br />

資 する 革 新 材 料 ・プロセス<br />

研 究<br />

戦 略 目 標<br />

新 原 理 ・ 新 機 能 ・ 新 構 造 デバイス 実 現<br />

のための 材 料 開 拓 とナノプロセス 開 発<br />

平 成 19 年 度 採 択<br />

機 能 性 酸 化 物 を 用 いた 界 面 相 転 移<br />

スイッチングデバイスの 開 発<br />

秋 永 広 幸<br />

( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所 ナノ 電 子 デバイス<br />

研 究 センター 研 究 センター 長<br />

金 属 / 絶 縁 性 酸 化 膜 の 界 面 電 子 状<br />

態 および 強 相 関 相 転 移 の 物 性 制 御<br />

研 究 を 通 して、それを 利 用 した 不 揮 発<br />

性 スイッチングデバイス 技 術 の 開 発 を<br />

行 います。<br />

極 微 細 加 工 用 レジスト 研 究 とプロセス<br />

シミュレーターの 開 発<br />

田 川 精 一<br />

大 阪 大 学 産 業 科 学 研 究 所 特 任 教 授<br />

イオン 化 放 射 線 (EUV、 電 子 線 等 )は<br />

ナノ 領 域 にエネルギーを 自 由 自 在 に<br />

付 与 することが 可 能 であり、 将 来 の 極<br />

微 細 加 工 を 支 える 重 要 な 技 術 です。<br />

本 研 究 では、このようなイオン 化 放 射<br />

線 の 優 れた 特 性 を 産 業 界 が 微 細 加 工 において 十 分 に<br />

活 用 できるようにするための 学 術 基 盤 を 確 立 することを<br />

目 標 とします。イオン 化 放 射 線 を 用 いる 極 微 細 加 工 用 レ<br />

ジスト 中 に 起 きる 反 応 機 構 を 解 明 し、ナノ 分 子 設 計 及 び<br />

プロセス 設 計 に 活 用 し、プロセスシミュレーターの 開 発 を<br />

行 います。<br />

研 究 総 括<br />

渡 辺 久 恒<br />

( 株 )EUVL 基 盤 開 発 センター<br />

代 表 取 締 役 社 長<br />

グラフェン・オン・シリコン 材 料 ・デバイス<br />

技 術 の 開 発<br />

LSI 用 3 次 元 カーボン・アクティブ 配 線<br />

の 開 発<br />

この 研 究 領 域 は、 半 導 体 ロードマップ 戦 略 に 基<br />

づく 技 術 進 化 の 飽 和 を 超 越 することを 目 的 として、<br />

微 細 化 パラダイムのみでは 実 現 できない 機 能 ・ 性<br />

能 を 持 つ、 革 新 的 且 つ 実 用 化 可 能 なエレクトロニ<br />

クスデバイスを 創 製 するための 材 料 ・ 構 造 の 開 発<br />

及 びプロセス 開 発 を 行 う 研 究 を 対 象 とします。<br />

具 体 的 には、 新 しい 原 理 により 消 費 電 力 の 増 大 、<br />

製 造 コストの 巨 額 化 といった 実 用 上 の 問 題 を 解 決<br />

するための 高 集 積 情 報 処 理 デバイス、 有 機 物 を 含<br />

め 異 種 材 料 や 技 術 の 融 合 により 新 機 能 ・ 高 性 能<br />

を 発 揮 するデバイス、 及 びそれらを 可 能 にするプロ<br />

セス 研 究 、また 従 来 にない 斬 新 なアプリケーション<br />

を 切 り 拓 く 研 究 等 が 含 まれます。<br />

本 研 究 領 域 では、 材 料 ・プロセスの 特 性 ・ 機 構<br />

解 明 に 留 まらず、 実 用 技 術 に 発 展 することが 十 分<br />

見 込 まれる 研 究 を 推 進 します。<br />

尾 辻 泰 一<br />

グラフェン・オン・シリコン(GOS) 材<br />

料 ・プロセス 技 術 の 開 発 を 通 して、 相<br />

補 的 スイッチングデバイス(CGOS)<br />

及 びプラズモン 共 鳴 テラヘルツデバ<br />

イス(PRGOS) 技 術 の 開 発 を 行 いま<br />

す。これにより、シリコンテクノロジーをベースとしながら、<br />

キャリア 輸 送 限 界 を 超 えた 新 しい 超 高 速 大 規 模 集 積 デ<br />

バイスの 実 現 が 期 待 されます。<br />

真 空 紫 外 レーザー 光 発 生 用 非 線 形<br />

光 学 結 晶 の 開 発<br />

二 瓶 瑞 久<br />

東 北 大 学 電 気 通 信 研 究 所 教 授 富 士 通 株 式 会 社 知 的 財 産 権 本 部 情 報 部 先<br />

端 技 術 研 究 室 室 長 付<br />

グラフェンは、 電 気 伝 導 特 性 や 熱 伝 導<br />

特 性 に 優 れていることに 加 え、アクティ<br />

ブ 素 子 としての 機 能 も 期 待 される 次 世<br />

代 エレクトロニクス 材 料 の 候 補 です。 本<br />

研 究 では、 従 来 のLSI 横 配 線 の 課 題 で<br />

ある 配 線 抵 抗 の 増 大 、 大 電 流 密 度 によ<br />

る 信 頼 性 劣 化 を 抑 えるためにグラフェンを 用 いた 高 性 能 な<br />

配 線 技 術 の 開 発 を 行 いました。 特 に、オリジナルな 光 電 子<br />

制 御 プラズマCVD 法 を 用 いて、 触 媒 金 属 を 用 いずに 絶 縁<br />

膜 上 に 多 層 グラフェンを 形 成 することに 成 功 しました。この<br />

ように、 従 来 の 銅 配 線 に 替 わる 高 性 能 配 線 として、 新 しい<br />

付 加 価 値 を 有 する3 次 元 カーボン・アクティブ 配 線 の 基 盤<br />

技 術 を 開 発 しました。<br />

( 研 究 期 間 : 平 成 19 年 10 月 1 日 ~ 平 成 22 年 3 月 31 日 )<br />

平 成 20 年 度 採 択<br />

縦 型 ボディーチャネルMOSFETと<br />

その 集 積 プロセスの 開 発<br />

佐 々 木 孝 友<br />

遠 藤 哲 郎<br />

大 阪 大 学 光 科 学 センター 特 任 教 授 東 北 大 学 学 際 科 学 国 際 高 等 研 究 センター<br />

教 授<br />

領 域 アドバイザー<br />

石 原 宏 東 京 工 業 大 学 名 誉 教 授<br />

大 泊 巌 早 稲 田 大 学 名 誉 教 授<br />

大 野 英 男 東 北 大 学 電 気 通 信 研 究 所 教 授<br />

財 満 鎭 明 名 古 屋 大 学 大 学 院 工 学 研 究 科 教 授<br />

高 木 信 一 東 京 大 学 大 学 院 工 学 系 研 究 科 教 授<br />

福 間 雅 夫 一 般 社 団 法 人 半 導 体 産 業 研 究 所<br />

代 表 理 事 所 長<br />

百 瀬 寿 代 ( 株 ) 東 芝 研 究 開 発 センター 主 務<br />

和 田 敏 美 技 術 研 究 組 合 次 世 代 パワーエレクトロニクス<br />

研 究 開 発 機 構 専 務 理 事<br />

次 世 代 の 極 微 小 欠 陥 検 査 用 光 源 の<br />

ために、 波 長 170nm 台 の 真 空 紫 外<br />

光 発 生 用 光 学 結 晶 の 開 発 を 行 います。<br />

また、 紫 外 レーザー 損 傷 メカニズムの<br />

解 明 を 通 して 光 源 の 短 波 長 ・ 長 寿 命<br />

化 技 術 の 開 発 を 行 います。<br />

本 研 究 では、デバイスのボディー 領 域<br />

全 体 を 電 流 駆 動 領 域 とする 新 概 念 の<br />

縦 型 構 造 トランジスタのデバイス 技 術<br />

に 加 えて、その 回 路 設 計 ・ 材 料 ・プロセ<br />

ス 技 術 までを 一 貫 して 開 発 します。こ<br />

れにより、 平 面 型 MOSFET と 比 較 して、 駆 動 電 流 特<br />

性 、リーク 電 流 特 性 、 集 積 密 度 を 大 幅 に 向 上 させた 半<br />

導 体 LSIの 新 しいユニバーサル 技 術 プラットフォームを<br />

提 供 することを 目 指 します。<br />

ハーフメタル 強 磁 性 体 を 用 いたスピン<br />

機 能 MOSFETの 開 発<br />

コヒーレントEUV 光 を 用 いた<br />

極 微 パタン 構 造 計 測 技 術 の 開 発<br />

菅 原<br />

聡<br />

東 京 工 業 大 学 大 学 院 理 工 学 研 究 科<br />

准 教 授<br />

木 下 博 雄<br />

兵 庫 県 立 大 学 高 度 産 業 科 学 技 術 研 究 所<br />

教 授<br />

キャリア のスピン に 基 づく 機 能 を<br />

MOSFETに 導 入 し、スピン 自 由 度 を<br />

用 いた 新 しいシリコン 集 積 回 路 を 創 出<br />

しま す 。ハ ーフメタ ル 強 磁 性 体<br />

(HMF)によるメタル・ソース/ドレイン<br />

構 造 を 用 いた 高 機 能 MOSFET(スピンMOSFET)、お<br />

よびハーフメタル 強 磁 性 体 電 極 を 用 いた 強 磁 性 トンネ<br />

ル 接 合 とMOSFETとの 機 能 融 合 デバイス( 擬 似 スピン<br />

MOSFET)を 開 発 して、これらの 機 能 デバイスによる 新<br />

概 念 のアーキテクチャに 基 づく 新 機 能 集 積 回 路 を 創 出<br />

します。<br />

X 線 回 折 顕 微 法 をEUV 領 域 に 展 開 し、<br />

より 高 精 度 な 露 光 パタンの 寸 法 計 測<br />

ならびに 欠 陥 観 察 が 可 能 な 計 測 技 術<br />

の 確 立 を 図 ります。スタンドアロン 型<br />

の 極 短 パルスレーザの 高 次 高 調 波<br />

レーザからのコヒーレントEUV 光 源 とEUVスキャトロメト<br />

リー 顕 微 鏡 との 融 合 により、サブナノ 精 度 のパタン 寸 法<br />

計 測 及 び 露 光 用 マスク 欠 陥 観 察 技 術 を 構 築 します。<br />

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