11.02.2015 Views

ЦИЭС - xcels

ЦИЭС - xcels

ЦИЭС - xcels

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

162<br />

для данной задачи параметрах в трехмерной геометрии, о чем говорит согласие<br />

получаемых при моделировании результатов с результатами экспериментов. В<br />

другом подходе, основанном на приближении гидродинамики, система<br />

дифференциальных уравнений в частных производных позволяет в общем виде<br />

математически описать процесс облучения поверхности закритической плазмы<br />

релятивистски интенсивным излучением [104]. Однако для рассматриваемого<br />

процесса характерно сильно нелинейное поведение плазмы, что значительно<br />

затрудняет развитие аналитических подходов для исследования этой задачи и<br />

вынуждает часто ограничиваться качественным анализом результатов численного<br />

моделирования с последующим развитием феноменологических моделей.<br />

Чтобы понять физику, лежащую в основе генерации высоких гармоник на<br />

твердотельных мишенях, рассмотрим результат численного расчета процесса<br />

взаимодействия линейно поляризованного лазерного излучения с поверхностью<br />

плотной плазмы. Пусть лазерное излучение падает под некоторым углом θ к<br />

поверхности, а вектор электрического поля лежит в плоскости падения. Чтобы<br />

учесть эффект теплового разлета плазмы, для общности рассмотрим случай<br />

плавной границы плазмы, так что имеется некоторый градиент концентрации.<br />

Подобные расчеты удобно проводить в системе отсчета, движущейся со<br />

скоростью<br />

csinθ вдоль поверхности. В этой системе отсчета лазерное излучение<br />

падает перпендикулярно поверхности и задача становится одномерной<br />

(см. Рис. 4.29.<br />

Рис. 4.29. Сведение задачи наклонного облучения поверхности плазмы<br />

к одномерной геометрии при переходе в движущуюся систему отсчета<br />

На Рис. 4.30 приведен результат расчета для следующих параметров:<br />

θ = π/4, N e = 8·10 22 см –3 , I = 5·10 17 Вт/см 2 . Толщина плазменного слоя составляла<br />

60 нм, с облучаемой стороны слоя располагалась область с экспоненциальным<br />

градиентом концентрации, имеющая характерный масштаб спадания<br />

концентрации равный 60 нм, длина волны лазерного излучения — 1 мкм. Видно

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!