산업폐수 생태독성 원인물질 탐색 및 저감방안에 관한 연구 (II) 환 경 부
산업폐수 생태독성 원인물질 탐색 및 저감방안에 관한 연구 (II) 환 경 부
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3. 독성<strong>원인물질</strong> 정밀분석 <strong>및</strong> 규명결과 <strong>및</strong> 독성저감방안 도출<br />
표 168.조반도체 <strong>및</strong> 기타영상 음향기기 제조시설 M-4업체 <strong>생태독성</strong>원인 탐<br />
색 결과 요약<br />
1.<strong>생태독성</strong> TU 수치<br />
<strong>생태독성</strong> 값<br />
반도체 <strong>및</strong> 기타영상 음향기기 제조시설 M-4업체<br />
유입수 <strong>생태독성</strong>값 방류수 <strong>생태독성</strong>값<br />
24시간 48시간 24시간 48시간<br />
2008년 8월 22일 - - 2.3 2.8<br />
2008년 12월 24일 8.0 - 1.3 -<br />
2.<strong>생태독성</strong> 원인 진단<br />
-TIEPhaseI단계 결과 산화제 <strong>및</strong> 중금속류가 독성<strong>원인물질</strong> 그룹으로 <strong>탐색</strong>.<br />
-TIEPhase I단계 결과 구리가 독성<strong>원인물질</strong>로 확인됨.<br />
-TIEPhase I단계 결과 구리가 독성<strong>원인물질</strong>임을 확증함.<br />
3.독성저감방안 도출<br />
○ 오염물질이 발생되는 공정(에칭)에 중금속 물질을 제거할 수 있<br />
기술적<br />
는 이온교<strong>환</strong>수지,역삼투 공법 등을 단일공정에 추가적으로 설치하<br />
독성저감방안<br />
여 독성을 저감.<br />
○ 구리는 에칭공정에서 발생되는데 에칭공정에서 사용되는 용수는<br />
초순수로 최소한의 양으로 사용됨.그러므로 발생되는 폐수도 타 공<br />
현실적<br />
정에 비해 적은 양으로 배출되고 구리는 반도체 생산공정에서 매우<br />
독성저감방안<br />
종요한 원료 물질이며 현실적으로 원료물질을 저감할 수 가 없으므<br />
로 기술적인 독성저감방안을 고려할 수 있음.<br />
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