Optyczna spektroskopia nanostruktur - Kierunki zamawiane ...
Optyczna spektroskopia nanostruktur - Kierunki zamawiane ...
Optyczna spektroskopia nanostruktur - Kierunki zamawiane ...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
stanu |b i > para elektron – dziura rekombinuje promieniście, emitując foton (rozproszony). Proces<br />
ten wykorzystuje elektron, który pośrednicząc w procesie rozpraszania, sam nie zmienia swojego<br />
stanu. Wirtualny charakter przejść z udziałem elektronu zapewnia zachowanie energii, natomiast<br />
zachowany musi być jeszcze wektor falowy. JeŜeli padający foton ma energie równą energii<br />
przerwy wzbronionej lub ekscytonu, to procesy z udziałem elektronu stają się rzeczywiste, co<br />
prowadzi do bardzo silnego wzrostu elementu macierzowego, a więc prawdopodobieństwa procesu<br />
rozproszenia. Warto wspomnieć, Ŝe w materiałach posiadających symetrie inwersji, fonony<br />
obserwowane w widmie rozpraszania Ramana nie występują w widmie absorpcji ani odbicia.<br />
Wynika to z faktu, Ŝe w podczerwieni aktywne są tylko fonony, opisywane reprezentacjami nieparzystymi,<br />
podczas gdy tensor Ramana R nie znika jedynie dla reprezentacji parzystych (reguła<br />
wykluczania). Czułość metody rozpraszania Ramana ilustruje Rys. 1.24. Przedstawiono na nim<br />
widma ramanowskie dla warstw SiGe o róŜnej grubości, naniesionych na GaAs o orientacji<br />
(110). Sygnał rozpraszania Ramana, charakterystyczny dla drgań zespołu atomów Si – Ge oraz Si<br />
– Si staje się widoczny juŜ dla grubosci warstwy SiGe, odpowiadającej dwóm komórkom elementarnym<br />
(10A). Dodatkowo moŜemy zauwaŜyć obecność napręŜeń w strukturze. Warstwy o<br />
grubościach poniŜej 400A są silnie napręŜone, co widoczne jest jako przesuniecie energii fononów,<br />
odpowiadającej drganiom Si – Ge oraz Si – Si. PowyŜej tej grubości warstwa ulega relaksacji<br />
i energie fononów odpowiadają drganiom w materiale litym.<br />
44