Detektory średniej podczerwieni (MIR) na bazie supersieciII rodzaju ze związków InAs/GaInSbdr inż. Waldemar Gawron, Wojskowa Akademia Techniczna, <strong>Instytut</strong> Fizyki Technicznej, Warszawamgr inż. Zbigniew Orman, VIGO System SA Ożarów MazowieckiTellurek kadmowo-rtęciowy, Hg 1–xCd xTe (HgCdTe), ze względuna unikalne właściwości, nadal zajmuje wiodącą pozycję wśródmateriałów do konstrukcji detektorów promieniowania podczerwonego,szczególnie pracujących bez chłodzenia kriogenicznego[1–6]. Niestety jest on materiałem bardzo trudnym technologicznie.Jednym z największych problemów technologii HgCdTe jestniska stabilność właściwości tego materiału. Wynika ona z niskiejenergii wiązania Hg-Te, co w szczególności skutkuje łatwym odparowaniemHg i HgTe z roztworu oraz tworzeniem luk w podsiecimetalu. Wynikająca z tego niestabilność sieciowa i powierzchniowazwiązku powoduje przyśpieszoną degradację detektorówpodczerwieni konstruowanych z HgCdTe. Problem ten ujawniasię szczególnie w wąskoprzerwowym HgCdTe. Ponadto okazujesię, że małe fluktuacje składu Hg 1–xCd xTe powodują duże fluktuacjew długofalowej granicy czułości, co w konsekwencji powodujeduże trudności w uzyskiwaniu jednorodnych macierzy detektorów,szczególnie w długofalowym zakresie widma podczerwieni12…16 µm. Niejednorodności składu są natomiast przyczyną niskiejrozdzielczości temperaturowej macierzy.Najbardziej perspektywicznym nowym materiałem do konstrukcjidetektorów podczerwieni są supersieci z naprężeniamiSLSs (ang. Strained Layer Superlattices) układu InAs/Ga 1–xIn xSb(InAs/GaInSb). Już w 1987 r. wskazali na to Smith i Mailhiot [7]. Tezwiązki półprzewodnikowe, ze względu na większy udział wiązaniakowalencyjnego, charakteryzują się większą trwałością wiązańw porównaniu z HgCdTe. Poza tym supersieci II rodzaju InAs/Ga-InSb mają szereg właściwości, podobnych do tych, jakie obserwujesię w HgCdTe [8–<strong>10</strong>]. Współczynniki absorpcji w obu materiałachsą podobne, więc wydajności kwantowe detektorów z obu tychmateriałów również są podobne. Szerokość przerwy energetycznejw obu materiałach można zmieniać w szerokim zakresie. SupersieciII rodzaju InAs/GaInSb mogą być także stosowane dokonstrukcji detektorów podczerwieni, pracujących bez chłodzeniakriogenicznego. Pod pewnymi względami właściwości fizycznesupersieci są bardziej odpowiednie w konstrukcji detektorów niżwłaściwości HgCdTe. Masa efektywna elektronów w supersieci jestwiększa niż w HgCdTe, co ogranicza składową prądu tunelowegow fotodiodach. Budowa struktury pasmowej supersieci umożliwiabardziej efektywne dławienie rekombinacji Augera nośników, cow konsekwencji wpływa na zwiększenie czasu życia nośników i polepszenieosiągów fotodiod (wydajności kwantowej, iloczynu R 0A).Dodatkową korzyścią z zastosowania supersieci jest wyeliminowanieszkodliwych dla zdrowia metali ciężkich Hg i Cd.Pewnym ograniczeniem w technologii fotodiod z supersieci IIrodzaju InAs/GaInSb, a w szczególności macierzy detektorów,są podłoża. Handlowo dostępne są niedomieszkowane podłożaz GaSb typu p i domieszkowane tellurem typu n, jednak o wysokiejkoncentracji nośników. Problemem jest duża absorpcja takiegoGaSb w podczerwieni. Aby uzyskać dobrą transmisję promieniowaniawymaganą przy oświetlaniu fotodiod od tyłu, podłożeGaSb musi być ścieniane do grubości poniżej 25 µm.Przed rozpoczęciem pracy badawczej PBZ- MNiSW 02/I/2007,nikt w Polsce nie zajmował się praktycznym wykorzystaniemsupersieci II rodzaju do konstrukcji detektorów promieniowaniapodczerwonego. Znane są natomiast prace teoretyczne na tematwykorzystania supersieci II rodzaju do konstrukcji detektorów promieniowaniapodczerwonego głównie A. Rogalskiego i innych [5,9-18], w których między innymi szczegółowo porównano detektorypodczerwieni na bazie supersieci II rodzaju oraz z HgCdTe.22Struktury detekcyjne z supersieciami II rodzajuNa rysunku 1 przedstawiono schematy dwóch struktur typu PINz supersieciami II rodzaju wykonanych w ITE. W tych supersieciachgrubości warstw GaAs wynoszą około 30,5 Å, a warstw InAs30,3 Å, co odpowiada przerwie energetycznej około 0,25 eV.a)b)20 nm InAs:Te N d = 5x<strong>10</strong> 17 cm -360 x <strong>10</strong> ML InAs:Te / <strong>10</strong> ML GaSb N d = 5x<strong>10</strong> 17 cm -340 x <strong>10</strong> ML InAs / <strong>10</strong> ML GaSb90 x <strong>10</strong> ML InAs / <strong>10</strong> ML GaSb:Be N a = 1x<strong>10</strong> 17 cm -3700 nm GaSb:Be N a = 1x<strong>10</strong> 17 cm -3pod łoże GaSb20 nm InAs:Te N d = 5x<strong>10</strong> 17 cm -360 x <strong>10</strong> ML InAs:Te / <strong>10</strong> ML GaSb N d = 5x<strong>10</strong> 17 cm -340 x <strong>10</strong> ML InAs / <strong>10</strong> ML GaSb90 x <strong>10</strong> ML InAs / <strong>10</strong> ML GaSb:Be N a = 1x<strong>10</strong> 17 cm -3<strong>10</strong>00 nm GaSb:Be N a = 1x<strong>10</strong> 18 cm -3pod łoże GaSbRys. 1. Schematy dwóch struktur typu PIN z supersieciami II rodzajuwykonanych w ITEFig. 1. Diagrams of two structures of type II InAs/GaSb superlatticedetectors with PIN design grown on a GaSb substrateObie badane struktury mają niemal identyczną budowę. Wykonanoje w postaci pięciu warstw, w tym trzech zbudowanychz supersieci. Podłożem jest półizolacyjny kryształ GaSb o niskiejtransmisji w podczerwieni. Na podłożu wyhodowano warstwęGaSb o wysokiej koncentracji domieszek berylu, tworząc półprzewodniktypu P + . W strukturze pierwszej (rys. 1a) warstwa ta jestdomieszkowana na poziomie N a= 1×<strong>10</strong> 17 cm -3 i jej grubość wynosiokoło 0,7 µm, natomiast w strukturze drugiej warstwa ta jestdomieszkowana na poziomie N a= 1×<strong>10</strong> 18 cm -3 i jej grubość wynosiokoło 1 µm. Jest to jedyna różnica między tymi strukturami.Modyfikacja drugiej struktury została wykonana w celu ułatwieniawykonania kontaktów elektrycznych do tej warstwy P + . Na tychwarstwach GaSb wytworzono już identyczne warstwy – najpierwwarstwę supersieci InAs/GaSb o grubości około 0,55 µm i domieszkowaniuberylem w fazie GaSb na poziomie N a= 5×<strong>10</strong> 17 cm -3 ,następnie warstwę niedomieszkowaną supersieci InAs/GaSbo grubości około 0,25 µm. Kolejno wytworzono na niej warstwęsupersieci InAs/GaSb typu n + o domieszkowaniu tellurem w fazieInAs na poziomie N d= 5×<strong>10</strong> 17 cm -3 i grubości około 0,37 µm.Powierzchniową warstwę stanowi InAs o grubości około 20 nmi domieszkowaniu tellurem na poziom N d= 5×<strong>10</strong> 17 cm -3 .<strong>Elektronika</strong> <strong>10</strong>/<strong>2011</strong>
Wyniki badańZ obydwu warstw otrzymanych w ITE w ramach zad. 2 PBZ– MNiSW 02/I/2007, wykonano do celów badawczych niepasywowanestruktury detekcyjne, oświetlane od góry, dzięki czemuuniknięto kłopotliwego ścieniania podłoża. Nieznacznie lepszerezultaty uzyskano dla struktur detekcyjnych z pierwszej warstwy(rys. 1a). Na rys. 2 przedstawiono przykładowe charakterystykispektralne czułości prądowej zmierzone w różnych temperaturach.Ich przebieg jest charakterystyczny dla struktur detekcyjnycho zbyt małej grubości absorbera (obserwujemy systematycznyspadek czułości ze wzrostem długości fali padającego na detektorpromieniowania). Jest to spowodowane malejącą wydajnościąkwantową. W wyższych temperaturach uwidacznia się wpływ rezystancjiszeregowej, powodującej spadek czułości, szczególniew temperaturze pokojowej (297K). W konsekwencji uzyskiwaneczułości prądowe, w zależności od temperatury pracy, są o rządR i , A/W<strong>10</strong>,<strong>10</strong>,0177 K114 K144 K174 K203 K230 K297 KR 0 A, Ωcm 2<strong>10</strong>0<strong>10</strong><strong>10</strong>,<strong>10</strong>,013 5 7 9 11 13<strong>10</strong>00/T, 1/KRys. 3. Zależność R 0A od odwrotności temperaturyFig. 3. R 0A product as a function of 1/TJ, A/cm 20,050-0,05JR d A15<strong>10</strong>5R d A, Ωcm 20,0012 2,5 3 3,5 4 4,5 5 5,5 6 6,5λ, µmRys. 2. Charakterystyki spektralne czułości prądowej zmierzonew różnych temperaturachFig. 2. Temperature-dependent spectral response from the type IIInAs/GaSb superlattice detectorwielkości (i więcej) niższe od oczekiwanych. Chłodzenie przesuwadługofalową granicę czułości ku falom krótszym, co wiążesię z temperaturową zależnością przerwy zabronionej absorbera.Przesunięcie to wynosi około 1 µm od długofalowej granicyczułości około 6 µm w temperaturze pokojowej, do długofalowejgranicy czułości około 5 µm w temperaturze azotowej.Iloczyn R 0ANajważniejszy parametr detektorów podczerwieni, jakim jest wykrywalnośćznormalizowana, jest zdeterminowany przez iloczynR 0A [3]. Na rys. 3 przedstawiono iloczyn R 0A w funkcji odwrotnościtemperatury. Załamanie krzywej rezystancji widoczne w skalilogarytmicznej dla temperatury około 150K wynika z rosnącegowpływu tunelopodobnych prądów upływności. Widać to na przykładziecharakterystyki prądowo-napięciowej i rezystancyjno-napięciowejprzedstawionej na rys. 4. Rezystancje dyfuzyjne i generacyjno-rekombinacyjnegwałtownie rosną przy zmniejszaniutemperatury. Natomiast rezystancja wynikająca z tunelowania lubupływności powierzchniowych nie zmienia sie istotnie w funkcjitemperatury i ona determinuje iloczyn R 0A dla temperatur poniżej150K. Wartość rezystancji znormalizowanej dla temperatury 77Kwynosi 22 Ωcm 2 , czyli ponad kilka rzędów wielkości mniej w porównaniuz fotodiodami na ten zakres spektralny [<strong>10</strong>].Na rysunku 5 przedstawiono charakterystyki prądowo-napięciowei rezystancyjno-napięciowe zmierzone w temperaturachuzyskiwanych na dwu-, trój- i czterostopniowych chłodziarkachtermoelektrycznych. W tych temperaturach R 0A uwarunkowanejest prądem dyfuzyjnym, natomiast w 230K R 0A jest lekko zafałszowaneprzez wpływ rezystancji szeregowej.Na rysunku 6 przedstawiono zależność iloczynu R 0A od długofalowejgranicy czułości detektorów wykonanych z warstw Hg-CdTe uzyskanych w laboratorium MOCVD. Wykres przedstawionodla temperatury 230K, czyli uzyskiwanej na dwustopniowychchłodziarkach termoelektrycznych (2TE). Dla porównania przed--0,<strong>10</strong>-800 -600 -400 -200 0 200U, mVRys. 4. Charakterystyki prądowo-napięciowa i rezystancyjno-napięciowazmierzone w temperaturze 94KFig. 4. J-U plots and R 0A-U plots of type II InAs/GaSb superlatticedetector at 94Ka)a) 0,4b)J, A/cm 2R d A, Ωcm 2b)0,30,20,<strong>10</strong>-0,1-0,2-0,3194 K203 K-0,4230 K-0,5-800 -600 -400 -200 0 200U, mV<strong>10</strong>1194 K203 K230 K0,1-800 -600 -400 -200 0 200U, mVRys. 5. Charakterystyki prądowo-napięciowe (a) i rezystancyjno-napięciowe(b) zmierzone w temperaturach uzyskiwanych na dwu-, trójiczterostopniowych chłodziarkach termoelektrycznychFig. 5. J-U plots and R 0A-U plots at 2-stage, 3-stage and 4-stage thermoelectriccoolers<strong>Elektronika</strong> <strong>10</strong>/<strong>2011</strong> 23