Rys. 1. Widma fotoodbicia studni kwantowej InGaAsSb/GaSb otrzymanew układzie z monochromatorem (panel a) w układzie ze spektrometremFouriera (panel b)Fig. 1. Photoreflectance spectra of InGaAsSb/GaSb quantum well obtainedby using monochromatore based configuration (panel a) andFourier spectrometer configuration (panel b)nio wykonanymi obliczeniami struktury energetycznej) możliwośćbadania wielu istotnych parametrów wytwarzanych struktur jak np.:nieciągłości pasm [4], wartość wbudowanego pola elektrycznego[5], poziom Fermiego na powierzchni -między powierzchniach [6]czy stopień relaksacji (jakość optyczna) warstw [7].W związku z niewątpliwymi zaletami wspomnianymi powyżej,spektroskopia modulacyjna jest stosowana w szerokim zakresiespektralnym od ultrafioletu (ok. 275 nm) [8] do średniej podczerwieni(ok. 3 µm) [9]. Niemniej jednak, realizowana w klasycznymukładzie eksperymentalnym wykorzystującym monochromatorjako element dyspersyjny (np. monochromator z siatką dyfrakcyjną)ma pewne ograniczenia [<strong>10</strong>], które właściwie wykluczająstosowalność metody w obszarze fal dłuższych. Wynikają onegłównie z faktu strat w intensywności światła próbkującego naelemencie dyspersyjnym. Ograniczenia te można jednak wyeliminowaćpoprzez zastosowanie spektrometru Fouriera zamiastmonochromatora [<strong>10</strong>–12]. Rozwiązanie to pozwala ominąć wyżejwymienione trudności i realizować eksperymenty modulacyjnew obszarze dla fal dłuższych niż 3 µm. Na rysunku 2 został przedstawionyukład pomiarowy, który pozwala realizować pomiary PL,PR i FDR (ang. Fast Differential Reflectance) w obszarze średnieji długofalowej podczerwieni (do ~20 µm). Na rysunku tym widzimy,że odpowiednie ustawienie luster i dobór systemu detekcjiumożliwia w prosty sposób realizację wspomnianych pomiarów,gdzie wiązka optyczna prowadzona jest całkowicie w próżni. Tozaś pozwala eliminować niedogodności związanie z absorpcjągazów- składowych powietrza, jak CO 2, czy para wodna, co jestszczególnie istotne w przypadku eksperymentu FDR[12].Na rysunku 3 przedstawiono widma fotoluminescencji (szarelinie) i fotoodbicia (czarne linie) otrzymane w zakresie średniejpodczerwieni dla studni kwantowych drugiego rodzaju GaSb/AlSb/InAs/InGaSb/InAs/AlSb/GaSb o różnych grubościach warstwyInAs zmieniających się w zakresie 1,2…2,9 nm. Wraz zezmianą grubości InAs zmienia się energia poziomu elektronowego,a w konsekwencji energia podstawowego przejścia optycznego(typu drugiego, gdzie dziury zlokalizowane są w warstwieGaInSb). Im szersza warstwa InAs tym energia przejścia przesuwasię bardziej w stroną podczerwieni. Widzimy, że wykonaniepowyższych eksperymentów za pomocą układu ze spektrometremFouriera pozwoliło otrzymać wysokiej jakości widma PL i PRtemperaturze 300K w szerokim zakresie 2…6 µm. Przeprowadzonebadania pozwoliły wykazać możliwość zastosowania tegorodzaju struktur kwantowych do detekcji różnego rodzaju gazówtakich jak np.: CO 2, NH 3, węglowodory, których charakterystycznelinie spektralne zawierają się w tym obszarze spektralnym.Dotąd przedstawione wyniki otrzymywane za pomocą spektroskopiimodulacyjnej wykorzystującej spektrometr Fouriera pokazujązalety takiego podejścia w przypadku prowadzonych badańw obszarze średniej podczerwieni. Na wykresie 4 zostały przedstawionewyniki badań warstw HgCdTe w zakresie fal dłuższychniż 5 µm (osiągając zakres długofalowej podczerwieni). Z racjiwspomnianych wcześniej ograniczeń klasycznego układu pomiarowegoz monochromatorem siatkowym pomiary przeprowadzonezostały ze spektrometrem Fouriera: FTPR (panel b) i FDR(panel c), oraz dodatkowo poparte pomiarami emisji w formiefotoluminescencji (panel a). Zmiana koncentracji atomów kadmuw badanych próbkach, jak i zmiana temperatury pomiaru skutkująRys. 2. Układ pomiarowy do eksperymentów FTPL, FTPR i FDR wykorzystującypróżniowy spektrometr Fourierowski [11]Fig. 2. Scheme of experimental setup for FTPL, FTPR and FDR basedon Fourier transformed spectrometer [11]38Rys. 3. Widma FTPR otrzymane dla studni kwantowych drugiego rodzajuGaSb/AlSb/InAs/InGaSb/InAs/AlSb/GaSb o różnej grubości warstwyInAs zmieniającej się od 1,2 nm (panel a) do 2,9 nm (panel c)Fig. 3. FTPR spectra obtained for the GaSb/AlSb/InAs/InGaSb/InAs/AlSb/GaSb type II quantum wells with different InAs layers widthchanging from 1.2 nm (panel a) to 2.9 nm (panel c)<strong>Elektronika</strong> <strong>10</strong>/<strong>2011</strong>
Rys. 4. Widma FTPL (panel a), FTPR (panel b) oraz FDR (panel c)warstw HgCdTe o różnej zawartości atomów kadmu (odpowiednioczarne i szare linie) otrzymane w temperaturze 300K (ciągłe linie)i 77K (linie przerywane)Fig. 4. FTPL spectra (panel a), FTPR (panel b), FDR (panel c) spectra ofthe HgCdTe layers with different Cd atoms concentration (black andgray curves) obtained with 300K (solid lines) and 77K (dashed lines)zmianą energii podstawowego przejścia optycznego związanegoz absorpcją przez przerwę wzbroniona materiału [13]. Warto zwrócićuwagę na fakt czasu trwania pomiarów: 30 minut dla eksperymentuFTPR i 1 minuta dla eksperymentu FDR. Analizując wynikizamieszczone na tym wykresie widzimy, iż spektroskopię modulacyjnązarówno w postaci FTPR jak i FDR można z powodzeniemstosować w obszarze fal dłuższych niż <strong>10</strong> µm otrzymując widmaoptyczne o dobrym stosunku sygnał – szum, przy równocześniebardzo krótkim czasie trwania pomiaru. Przedstawione w pracywyniki związane były z badaniem (pomiarami fotoodbiciowymi jaki fotoluminescencyjnymi) struktur półprzewodnikowych w zakresieprzejść międzypasmowych badanych struktur. Na ostatnim rysunkupokazano zalety zastosowania spektrometru Fourierowskiegodo badania przejść optycznych wewnątrzpodpasmowych.Na rysunku 5 pokazano widma fotoluminescencji dla supersieciGaAs/AlGaAs [14] o różnych grubościach zarówno warstwRys. 5. Widma FTPL otrzymane dla supersieci GaAs(8.1 nm)/AlGaAs(1.1nm)(czarna krzywa), GaAs(5.4 nm)/AlGaAs(4.6 nm)(szara krzywa)Fig. 5. FTPL spectra for GaAs(8.1nm)/AlGaAs(1.1 nm)(black line) andGaAs(5.4 nm)/AlGaAs(4.6 nm)(grey line)materiału studni kwantowych, jak i bariery przeprowadzone w obszarzeprzejść wewnątrzpodpasmowych (związanych z emisjąświatła na skutek przejścia elektronu między poziomami/pasmamie2 i e1). Widzimy, iż dla struktury GaAs(5,4 nm)/AlGaAs(4,6 nm)– szara linia, otrzymano emisję wewnątrzpasmową przy długościfali ~7 µm. Zaś, dla struktury GaAs(8,1 nm)/AlGaAs(1,1 nm)– czarna linia, sygnał ten przesunięty jest w kierunku podczerwieniz maksimum przy długości fali ~12 µm co jest głównie konsekwencjąszerszej studni kwantowej i bliżej siebie położonychstanów elektronowych. Otrzymane rezultaty pozostają w dużejzgodności z obliczeniami struktury energetycznej dla tych supersieci(patrz rys. 5) przedstawiając możliwość wykonywania tegotypu eksperymentów w szerszym jeszcze zakresie spektralnym.PodsumowanieW pracy przedstawiono wyniki badań spektroskopowych przeprowadzonychprzy pomocy spektroskopii fotoluminescencyjneji fotoodbiciowej wykorzystującej spektrometr Fouriera. Badaniaprzeprowadzono dla różnego rodzaju struktur półprzewodnikowychtakich jak: studnie kwantowe I rodzaju InGaAsSb/GaSb,studnie kwantowe II rodzaju GaSb/AlSb/InAs/GaInSb/InAs/AlSb/GaSb, warstwy HgCdTe oraz supersieci AlGaAs/GaAs. Otrzymanerezultaty potwierdzają z jednej strony duże znaczenie tychtechnik pomiarowych z punktu widzenia charakteryzacji półprzewodnikówi struktur półprzewodnikowych na zakres średniej i długofalowejpodczerwieni, z drugiej strony konieczność realizacjitych eksperymentów (w tych zakresach spektralnych) w konfiguracjiwykorzystującej spektrometr Fouriera.Prace finansowane w ramach Projektu Badawczego ZamawianegoPBZ-MNiSW-02/I/2007 pt. „Zaawansowane technologie dlapółprzewodnikowej optoelektroniki podczerwieni” oraz ProjektuSensHy realizowanego w ramach 7 ramowego Programu Unii Europejskiej.Struktury użyte do badań w tej pracy pochodzą z: FirmyVIGO SA z Ożarowa Mazowieckiego (Prof. Józef Piotrowski);<strong>Instytut</strong> Technologii Materiałów <strong>Elektronicznych</strong> (Dr WłodzimierzStrupiński); <strong>Instytut</strong>u Technologii Elektronowej (Prof. Maciej Bugajski);<strong>Instytut</strong>u Fizyki Stosowanej Uniwersytetu w Wuerzburgu(Prof. Alfred Forchel).Literatura[1] Cardona M.: Modulation Spectroscopy Academic, New York, 1969.[2] Pollak F.H., in: Handbook on Semiconductors, edited by T. S. Moss,vol. 2, Elsevier Science, Amsterdam, (1994), pp. 527–635.[3] Motyka M., G. Sęk, R. Kudrawiec, J. Misiewicz, B. Alloing, L. H. Li, A.Fiore: J. Appl. Phys. <strong>10</strong>0, 073502 (2006).[4] Motyka M., R. Kudrawiec, J. Misiewicz, M. Hümmer, K. Rößner, T.Lehnhardt, M. Müller, and A. Forchel’: J. Appl. Phys. <strong>10</strong>3, 113514(2008).[5] Kudrawiec R., B. Paszkiewicz, M. Motyka, J. Misiewicz, J. Derluyn,A. Lorenz, K. Cheng, J. Das, and M. Germain: J. Appl. Phys. <strong>10</strong>4,096<strong>10</strong>8 (2008).[6] Kudrawiec R., H. B. Yuen, S. R. Bank, H. P. Bae, M. A. Wistey, JamesS. Harris, M. Motyka, and J. Misiewicz: J. Appl. Phys. <strong>10</strong>4, 033526(2008).[7] Gelczuk Ł., M. Motyka, J. Misiewicz, M. Dąbrowska-Szata: Optica Applicata,Materials Science and Engineering B 147 (2008) 166–170.[8] Motyka M., R. Kudrawiec, G. Cywinski, M. Siekacz, C. Skierbiszewski,J. Misiewicz: Appl. Phys. Lett, 89, 25, 251908, (2006).[9] Motyka M., G. Sęk, K. Ryczko, J. Misiewicz, T. Lehnhardt, S. Höfling,and A. Forchel: Appl. Phys. Lett. 94, 251901 (2009).[<strong>10</strong>] Hosea T.J.C., M. Merrick, B.N. Murdin: Phys. Stat. Sol.(a) 202, 1233(2005).[11] Motyka M., G. Sęk, J. Misiewicz, A. Bauer, M. Dallner, S. Höfling, andA. Forchel: Appl. Phys. Exp. 2 (12) 126505 (2009).[12] Motyka M., J. Misiewicz: Appl. Phys. Exp. 3, 112401(20<strong>10</strong>).[13] Motyka M., G. Sęk, J. Misiewicz, K. Kłos and J. Piotrowski: Fourier-transformedphotoreflectance and fast differential reflectance ofHgCdTe layers. The issues of spectral resolution and Fabry-Perotoscillations. Measurement Science and Technology, w recenzjii.[14] Motyka M., F. Janiak, J. Misiewicz, M. Wasiak, K. Kosiel, M. Bugajski:Deternination of the energy difference and width of the minibandsin GaAs/AlGaAs superlattices by using photoreflectance and Fouriertransform infrared photoluminescence. Optoelectronic Review,(<strong>2011</strong>) in press.<strong>Elektronika</strong> <strong>10</strong>/<strong>2011</strong> 39