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2 Theoretische Grundlagen - Institut für Kernphysik - Johannes ...

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2.1 Polarisierte Elektronen und deren Erzeugung<br />

und Leitungsbandunterkante. Zusätzlich definiert man noch die sog. Arbeitsfunktion Φ,<br />

die über<br />

Φ=Evak − EF<br />

(2.10)<br />

gegeben ist.Abbildung 2.4 (a) zeigt den Zustand, wie er ohne äußeres Eingreifen im<br />

Kristall vorliegen würde.<br />

(a) Energieverhältnisse in einem<br />

idealen Halbleiter<br />

(b) p-dotierter Zustand mit<br />

Bandverbiegung<br />

(c) NEA nach Bedampfung mit<br />

Cäsium<br />

Abbildung 2.4: Vorgehensweise zur Herstellung einer Photokathode mit negativer Elektronenaffinität<br />

(NEA)<br />

In einem ersten Schritt wird mit Fremdatomen dotiert. Um χ zu verkleinern, muss man<br />

einen p-dotierten Kristall herstellen, da nur in diesem Fall später eine Bandbiegung in<br />

die richtige Richtung stattfindet. Die hier vermessenen Photokathoden sind mit Beryllium<br />

(Be) dotierte, von GaAs abgeleitete Kristalle. Als Element der zweiten Hauptgruppe<br />

hat Be ein Valenzelektron weniger als Gallium. Es kommt zur Ausbildung eines Akzeptorniveau<br />

28 meV über der ursprünglichen Valenzbandoberkante, in das Elektronen<br />

aufgrund thermischer Anregung leicht angehoben werden können. Dadurch entstehen<br />

Elektronenlöcher im Valenzband und die Fermi-Energie im Inneren des Kristalls wird,<br />

wie in Abbildung 2.4 (b) zu sehen, in dessen Richtung verschoben.<br />

Das allein verringert χ allerdings noch nicht, da sich ja nur die Lage der Fermi-Energie<br />

relativ zum Vakuum, also der Wert von Φ ändert. Der entscheidende Punkt ist, dass<br />

es immer eine Grenzfläche zwischen Kristall und Vakuum geben wird. Diese besteht<br />

in der Regel aus einer Halbleiter-Halbleiteroxid-Schicht und umfasst alle Atomschichten,<br />

deren Bindungsverhältnisse oder Bindungssymmetrien anders sind als im Volumen<br />

selbst. Bindungen mit anderen Atomen, Bindungen mit anderen Bindungsenergien, nicht<br />

abgesättigte Bindungen, etc. führen in dieser Schicht zu zusätzlichen Zuständen, den<br />

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