NGHIÊN CỨU TỔNG HỢP VẬT LIỆU CeO2/TiO2 NANO ỐNG VÀ HOẠT TÍNH XÚC TÁC PHÂN HỦY QUANG HÓA TRONG VÙNG KHẢ KIẾN
https://app.box.com/s/iblcjiythku2zxxs54ngnytkei9tzkp1
https://app.box.com/s/iblcjiythku2zxxs54ngnytkei9tzkp1
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
2.3.5. Phổ quang điện t tia X (X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)<br />
Phƣơng pháp phổ quang điện tử tia X (XPS) đƣợc sử dụng để xác định những<br />
thông tin hóa học một cách chính xác của những bề mặt mẫu khác nhau, bằng cách ghi<br />
lại n ng lƣợng liên kết của các điện tử phóng ra từ một bề mặt mẫu, sau khi bề mặt mẫu<br />
bị chiếu bởi một tia X. XPS đƣợc sử dụng phổ biến để xác định thành phần nguyên tố<br />
c ng nhƣ các trạng thái oxi hóa của chúng trong mẫu.<br />
- Nguyên tắc: Phƣơng pháp này dựa trên hiệu ứng quang điện tử<br />
(photoelectronic effect) đƣợc tạo ra khi chiếu một chùm bức xạ có bƣớc sóng ng n vào<br />
bề mặt vật liệu. Khi đƣợc hấp thu n ng lƣợng từ các bức xạ điện từ tƣơng tác với vật liệu,<br />
các electron ở lớp ngoài cùng hoặc electron hóa trị thoát ra (gọi là quang electron) với<br />
động n ng E k . N ng lƣợng liên kết E b của các photoelectron phụ thuộc vào động n ng<br />
của chúng theo biểu thức dựa trên công trình nghiên cứu của Ernest Rutherford n m<br />
1914:<br />
E k = h - (E b + ) (2.2)<br />
Trong đó, là công thoát electron (phụ thuộc vào thiết bị), là tần số photon, h<br />
là hằng số Planck.<br />
N ng lƣợng liên kết E b là đại lƣợng đặc trƣng cho nguyên tử nên từ giá trị này<br />
ngƣ i ta có thể phát hiện các nguyên tố ở trên bề mặt vật liệu và xác định đƣợc trạng thái<br />
liên kết của các nguyên tử (mức độ oxy hóa, độ chuyển dịch electron).<br />
Phổ XPS thƣ ng đƣợc biểu diễn trong một đồ thị mà trục tung ghi cƣ ng độ d ng<br />
photoelectron, trục hoành ghi các giá trị n ng lƣợng liên kết của các electron ứng với các<br />
phân lớp trong v electron của nguyên tử [2], [173].<br />
- Thực nghiệm: Trong luận án này, phổ XPS đƣợc đo trên máy Shimadzu<br />
Kratos AXISULTRA DLD spectrometer và AXIS-ULTRA DLD-600W, sử dụng<br />
nguồn phát tia X với bia Al, ống phát làm việc ở 15 kV - 10 mA. Các dải n ng<br />
lƣợng liên kết (binding energies) đƣợc hiệu chỉnh bằng cách chu n nội với pic C1s<br />
(ở 284.6 eV). Pic đƣợc phân giải trên phần mềm Casa XPS. Trong trƣ ng hợp ghi<br />
phổ của vật liệu CeO 2 – TiO 2 nhƣ trong luận án, cần đặc biệt chú đến khả n ng xảy ra<br />
sự khử của cấu tử Ce dƣới bức xạ tia X. Vì thế, phải giới hạn n ng lƣợng của anot ít hơn<br />
33