Entwicklung von Submikron - Pulver-Suspensionen zur Herstellung ...
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3.5 Lecktest<br />
Charakterisierungsmethoden<br />
Die Gasdichtigkeit der gesinterten Schichten wird mittels eines Helium-Lecktestes bestimmt .<br />
An den Proben wird gegen Luft Vakuum gezogen, anschließend wird Helium aufgegeben .<br />
Die Heliummoleküle durchströmen die Restporen der Probe und bewirken einen Anstieg des<br />
Druckes auf der Vakuumseite . Der erreichte Enddruck ist charakteristisch für die<br />
Gasdurchlässigkeit der Probe . Der Wert wird auf die durchströmte Fläche normiert .<br />
L - (P2 - m) *V<br />
A*t<br />
(Gl. 3-6)<br />
mit L = Leckrate, p2 und p l Drücke (s . Skizze Abb . 3-5), V = Volumen des Vakuumraums, A = Probenfläche, t =<br />
Zeit<br />
Für gute" Schichten aus dem VSG-Verfahren liegt die Gasdurchlässigkeit bei Werten <strong>von</strong><br />
2* 10-5 mbarL/scm2 und darunter .<br />
Die folgende Abbildung zeigt das Schema dieses Gerätes .<br />
Vakuum<br />
Abb . 3-5 : Schematische Darstellung eines Lecktest-Gerätes .<br />
3.6 Weitere Charakterisierungsmethoden<br />
Substrat-Elektrolyt-<br />
Einheit mit Dichtung<br />
Zahlreiche Sinterproben wurden als Schliff präpariert am Lichtmikroskop untersucht .<br />
Schliffproben, Oberflächen- und Bruchflächen gesinterter und ungesinterter Proben wurden<br />
am Rasterelektronenmikroskop (REM, Joel JSMT300, LEO 11530 gemini" und ISIS300)<br />
näher charakterisiert, wobei sowohl Sekundärelektronen als auch Rückstreuelektronen für die<br />
Aufnahmen eingesetzt wurden . Es wurden REM-Aufnahmen der verarbeiteten, kommer-<br />
ziellen <strong>Pulver</strong> erstellt .<br />
Die Ausgangspulver und die selbst hergestellten <strong>Pulver</strong> wurden sowohl einer chemischen<br />
Analyse unterzogen als auch auf ihren Phasenbestand hin röntgenographisch untersucht (XRD<br />
für X-Ray Diffraction, D5000, Siemens) . Aus den Halbwertspeakbreiten der<br />
Röntgenbeugungsdiagramme kann die Kristallitgröße nach der Scherrer-Gleichung