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Entwicklung von Submikron - Pulver-Suspensionen zur Herstellung ...

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3.5 Lecktest<br />

Charakterisierungsmethoden<br />

Die Gasdichtigkeit der gesinterten Schichten wird mittels eines Helium-Lecktestes bestimmt .<br />

An den Proben wird gegen Luft Vakuum gezogen, anschließend wird Helium aufgegeben .<br />

Die Heliummoleküle durchströmen die Restporen der Probe und bewirken einen Anstieg des<br />

Druckes auf der Vakuumseite . Der erreichte Enddruck ist charakteristisch für die<br />

Gasdurchlässigkeit der Probe . Der Wert wird auf die durchströmte Fläche normiert .<br />

L - (P2 - m) *V<br />

A*t<br />

(Gl. 3-6)<br />

mit L = Leckrate, p2 und p l Drücke (s . Skizze Abb . 3-5), V = Volumen des Vakuumraums, A = Probenfläche, t =<br />

Zeit<br />

Für gute" Schichten aus dem VSG-Verfahren liegt die Gasdurchlässigkeit bei Werten <strong>von</strong><br />

2* 10-5 mbarL/scm2 und darunter .<br />

Die folgende Abbildung zeigt das Schema dieses Gerätes .<br />

Vakuum<br />

Abb . 3-5 : Schematische Darstellung eines Lecktest-Gerätes .<br />

3.6 Weitere Charakterisierungsmethoden<br />

Substrat-Elektrolyt-<br />

Einheit mit Dichtung<br />

Zahlreiche Sinterproben wurden als Schliff präpariert am Lichtmikroskop untersucht .<br />

Schliffproben, Oberflächen- und Bruchflächen gesinterter und ungesinterter Proben wurden<br />

am Rasterelektronenmikroskop (REM, Joel JSMT300, LEO 11530 gemini" und ISIS300)<br />

näher charakterisiert, wobei sowohl Sekundärelektronen als auch Rückstreuelektronen für die<br />

Aufnahmen eingesetzt wurden . Es wurden REM-Aufnahmen der verarbeiteten, kommer-<br />

ziellen <strong>Pulver</strong> erstellt .<br />

Die Ausgangspulver und die selbst hergestellten <strong>Pulver</strong> wurden sowohl einer chemischen<br />

Analyse unterzogen als auch auf ihren Phasenbestand hin röntgenographisch untersucht (XRD<br />

für X-Ray Diffraction, D5000, Siemens) . Aus den Halbwertspeakbreiten der<br />

Röntgenbeugungsdiagramme kann die Kristallitgröße nach der Scherrer-Gleichung

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