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Bei Hartlötprozessen insbesondere oberhalb von etwa 800 °C hingegen gelingt es, über<br />

kontrollierte Prozessatmosphären die Bedingungen derart einzustellen, dass thermisch aktivierte,<br />

physikalisch-chemische Vorgänge auch ohne Flussmittelunterstützung oxidfreie Oberflächen auf<br />

vielen Werkstoffen hervorrufen. Darüber hinaus können bestimmte Bestandteile in den<br />

verwendeten Hartloten einen inhärenten Beitrag zum Oxidschichtabbau leisten. Insbesondere<br />

Additive wie Phosphor, Bor, Silizium und/oder Mangan, die Bestandteile vieler Lotlegierungen auf<br />

Nickel- oder Kupferbasis sind, haben benetzungsfördernde Eigenschaften. Speziell für das<br />

flussmittelfreie Löten von Kupferwerkstoffen werden daher niedrig schmelzende, phosphorhaltige<br />

Kupferbasislote eingesetzt, die je nach Lotlegierung bereits schon ab 700°C Löttemperatur<br />

einsetzbar sind. Beim Löten von Stahlwerkstoffen hingegen können phosphorhaltige Kupferlote<br />

nicht verwendet werden, da die im Lötprozess entstehenden Eisenphosphide mechanisch<br />

belastbaren Lötverbindungen entgegenstehen.<br />

Bauteile aus Stählen werden daher mit phosphorfreien Kupferlot (i.d.R. reines Kupfer mit einem<br />

Schmelzpunkt von 1084°C) gelötet, wenn eine mechanisch belastbare Lötverbindung ohne große<br />

Anforderungen an die Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit benötigt wird. Für viele<br />

Anwendungen werden aber auch Nickelbasislote eingesetzt, die unter den verfügbaren Hartloten<br />

für rost- und säurebeständige Stähle die höchste Korrosions- und Oxidationsbeständigkeit der<br />

resultierenden Lötverbindungen versprechen.<br />

Die Verarbeitung der beschriebenen Lote erfolgt i.d.R. flussmittelfrei unter inerten resp.<br />

reduzierenden Prozessgasen in einem Schutzgasdurchlaufofen oder in einem Hochvakuumofen<br />

(z.T. mit Gasabkühlung nach dem Lötprozess). Beim Löten in einem Durchlaufofen sind die<br />

Verweilzeiten im Glühkanal typischerweise 10 bis 15 min, wobei hierbei das Bauteil nur für die<br />

etwa letzten 3 min Löttemperatur erreicht. Je nach verwendetem Lot und Grundwerkstoff kann<br />

diese zwischen 700 °C bis 1200 °C liegen, bevor das Bauteil dann den Glühkanal verlässt und in<br />

den Kühlkanal eintritt. Kennzeichnend für Lötprozesse in einem Durchlaufofen sind somit hohe<br />

Aufheiz- und Abkühlraten sowie kurze Verweilzeiten bei Löttemperatur. Dieses T-t-Regime ist<br />

prozessbedingt aber für alle Bauteile, die durch den Ofen geführt werden, nahezu gleich.<br />

Vakuumlötprozesse hingegen werden in Batchöfen durchgeführt, in denen in der Serienfertigung<br />

mitunter eine große Anzahl von Bauteilen gleichzeitig aufgeheizt und abgekühlt werden müssen.<br />

Je nach Chargengröße können einzelne Bauteile (beispielsweise im Randbereich einer Charge)<br />

hierbei über eine Stunde auf Löttemperatur sein. Das Abkühlen erfolgt anschließend zunächst<br />

unter Hochvakuum, bis sichergestellt ist, dass alle Bauteile in der Charge unterhalb der<br />

Solidustemperatur des verwendeten Lotes sind. Hiernach kann der Ofenrezipient mit Schutzgas<br />

geflutet werden (je nach Ofenbauart bis 6 bar Gasdruck) und durch Umwälzen des Gases eine<br />

beschleunigte Abkühlung erzwungen werden. Im Gegensatz zum Durchlaufofen erfahren die<br />

Bauteile je nach Position im Ofen unterschiedliche Abkühlraten. Das T-t-Regime, welchem die<br />

Bauteile in einem Vakuumofen ausgesetzt sind, ist daher stark von der Position der Bauteile<br />

abhängig, sodass Bauteileigenschaften, die empfindlich vom T-t-Regime der Wärmebehandlung<br />

abhängen, auch innerhalb einer Charge stark variieren können.<br />

2.2. Ellipsometrie<br />

Jede Oberfläche tritt in eine physikalische Wechselwirkung mit eingestrahlten Lichtphotonen, die<br />

je nach Eigenschaften des verwendeten Lichtstrahls (Wellenlänge, Polarisierung,<br />

Einstrahlungswinkel) und der Oberflächenbeschaffenheit (Werkstoffart, Rauheit,<br />

Oberflächenbelegung mit anorganischen oder organischen Deckschichten etc.) zu optischen<br />

Erscheinungen wie Reflexion, Absorption, Brechung, Phasenverschiebungen bzw. Drehung der<br />

Polarisationsebene führen.<br />

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