Materiály a technická dokumentace - UMEL - Vysoké uÄÂenà...
Materiály a technická dokumentace - UMEL - Vysoké uÄÂenà...
Materiály a technická dokumentace - UMEL - Vysoké uÄÂenà...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
88 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 4.13 Závislost koncentrace nosičů na teplotě ve vlastním polovodiči Si, Ge a GaAs<br />
Kontrolní otázky:<br />
1) Co vyjadřuje Fermiho – Diracova rozdělovací funkce, nakreslete průběh této funkce pro<br />
T > 0 K?<br />
2) Jaká je pravděpodobnost obsazení Fermiho energetické hladiny elektronem; s jakou<br />
pravděpodobností jsou obsazeny elektronem energetické hladiny nad, resp. pod Fermiho<br />
hladinou?<br />
3) Co vyjadřuje funkce hustoty stavů, nakreslete průběh této funkce pro tzv. parabolický<br />
vodivostní pás?<br />
4) Jak se mění koncentrace nosičů ve vlastním polovodiči s teplotou?<br />
5) Graficky vyjádřete a srovnejte změnu koncentrace nosičů na teplotě ve vlastních<br />
polovodičích Ge, Si a GaAs.<br />
6) Nakreslete jak se mění poloha Fermiho energetické hladiny s teplotou ve vlastním<br />
polovodiči.<br />
Shrnutí:<br />
V kapitole je naznačen způsob stanovení koncentrace volných elektronů a děr ve vlastním<br />
polovodiči, vycházející ze znalosti rozdělovací funkce a funkce hustoty stavů ve valenčním<br />
a vodivostním pásu. Jsou uvedeny vztahy, umožňující vypočítat tuto koncentraci při dané<br />
teplotě, stejně jako stanovit polohu Fermiho energetické hladiny.<br />
4.5 Příměsový polovodič<br />
Cíl:<br />
Naznačení způsobu stanovení koncentrace nosičů v příměsovém polovodiči na základě<br />
znalosti Fermiho - Diracovy rozdělovací funkce a funkce hustoty stavů ve vodivostním<br />
a valenčním pásu. Ukázka způsobu stanovení koncentrace nosičů ve stavu plné ionizace<br />
příměsí a vysvětlení, jak se mění koncentrace nosičů v příměsovém polovodiči v širokém<br />
rozsahu teplot.