SB_19101NLP
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Seite 2 des Schlussberichts zu IGF-Vorhaben 19.101N<br />
Inhaltsverzeichnis<br />
1 WISSENSCHAFTLICH- TECHNISCHE UND WIRTSCHAFTLICHE PROBLEMSTELLUNG ..... 11<br />
2 DURCHGEFÜHRTE ARBEITEN UND ERGEBNISSE IM BERICHTSZEITRAUM .................. 12<br />
2.1 Arbeitspaket 1: Evaluierung des plasmabasierten Cu-Auftrags auf<br />
unstrukturierten Wafern; Nachbehandlung und Charakterisierung von Cu-<br />
Schichten; Definition von Anforderungen ......................................................12<br />
2.1.1 Theoretische Hintergründe des Plasmas ........................................................... 13<br />
2.1.2 Beschaffenheit der verwendeten Pulverpartikel ............................................... 25<br />
2.1.3 Die Partikel nach dem Aufprall - Splatformation ............................................... 27<br />
2.1.4 Analyse des Plasmastrahls ................................................................................. 34<br />
2.1.5 Anlagenaufbau und Prozessgestaltung ............................................................. 40<br />
2.1.6 Nachbehandlung und Charakterisierung von Cu-Schichten ........................... 49<br />
2.1.7 Elektrische Leitfähigkeit der Kupferschicht ...................................................... 60<br />
2.1.8 Zusammenfassung der Beschichtungsergebnisse .......................................... 62<br />
2.2 Erarbeitung eines für Folgeprozesse kompatiblen<br />
Strukturierungsverfahrens für den selektiven plasmabasierten Cu-Auftrag<br />
...........................................................................................................................63<br />
2.2.1 Einteilung der Isolationswerkstoffe .................................................................... 63<br />
2.2.2 Anforderungen an die Isolationswerkstoffe ...................................................... 65<br />
2.2.3 Verwendete Anlagen ............................................................................................ 71<br />
2.2.4 Verwendete Isolationswerkstoffe und Substrate .............................................. 73<br />
2.2.5 Applikation der Isolationswerkstoffe .................................................................. 78<br />
2.2.6 Auswertung und Fazit der Isolationswerkstoffe ............................................... 88<br />
2.2.7 Hauptversuche mit erwärmten Substraten ........................................................ 96<br />
2.2.8 Hauptversuche ohne erwärmte Substrate ....................................................... 102<br />
2.2.9 Auswertung und Ergebnisse ............................................................................. 103<br />
2.2.10 Bewertung der verwendeten Werkstoffe .......................................................... 110<br />
2.2.11 Optimierung der Flanken und Aspektverhältnisse ......................................... 113<br />
2.2.12 Zusammenfassung der Strukturierungskonzepte .......................................... 147<br />
2.3 Herstellung von strukturierten Cu-Schichten auf Wafern mit<br />
Leistungsbauelementen; Charakterisierung insbesondere der elektrischen<br />
Eigenschaften................................................................................................. 151<br />
2.3.1 Testwaferbeschichtung mit Aluminium-Metallisierung, nicht reduziert ....... 161<br />
2.3.2 Testwaferbeschichtung mit Aluminium-Metallisierung, reduziert ................ 163<br />
2.3.3 Beschichtung der Test-IGBTs mit den ausgewählten Parametern ............... 165<br />
2.3.4 Testwaferbeschichtung mit Nickel-Gold-Metallisierung, nicht reduziert ..... 166<br />
2.3.5 Testwaferbeschichtung mit Nickel-Gold-Metallisierung, reduziert ............... 167