Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid - Materials Science ...

1. J. M. Ripalda, N. Diaz, I. Montero, L.Galán and F. Rueda. Journal of Applied Physics, 2 (2002) 644-646.
2. M. García, I. Montero, J. M. Ripalda and L.Galán. Journal of Applied Physics, 91 (2002) 3626 – 3631.
3. I. Montero, E. Román, J. L. Segovia and L. Galán, Surface Science, (en prensa).
Proyectos:
Materiales nanoestructurados con aplicación en equipos de observación terrestre en misiones en el espacio. Código: ESP99-1112,
Período: 1/10/2000 - 1/11/2002, Fuente de financiación: CICyT, Importe total (euros): 53.490, Investigador Principal: Montero
Herrero, I., Investigadores: Galán, L.;de Segovia,J.L.;Sánchez,M.
17. Síntesis de capas de CN x mediante
técnicas CVD
Palabras clave: nitruro de carbono hidrogenado, activación
de moléculas CH 4 , mecanismos deposición
En este estudio se ha mostrado que la velocidad de
formación de capas CN x
por procesos ECR-CVD a partir
de mezclas CH 4
/N 2
/Ar, se encuentra determinada por la
concentración de metano en la mezcla gaseosa. Las
moléculas de metano, son activadas por colisión con
especies previamente excitadas procedentes de la activación
del nitrógeno o bien del argón. Dependiendo de
la relación N 2 /Ar, el CH 4 es activado preferentemente
por uno u otro agente. Otro aspecto importante del
estudio es la influencia de los diferentes parámetros
experimentales en el contenido de hidrógeno de las
capas así como en su forma de incorporación (CH x
ó
NH y
)y por tanto en la densidad del material depositado.
Las muestras han sido caracterizadas por espectroscopía
IR, perfilometría, análisis nuclear, ERDA, SEM, EDAX,
XANES ... mientras la composición del plasma se ha
analizado por espectroscopia de emisión óptica y
espectrometría de masas. A partir de estos resultados
ha sido posible establecer posibles mecanismos de
deposición.
17. Synthesis of CNx films
by CVD techniques
Keywords: hydrogenated carbon nitride, methane molecules
activation, deposition mechanisms
In this study we have shown the growth rate of ECR-CVD
CN x
films from CH 4
/N 2
/Ar mixtures, is mainly controlled
by methane concentration in the gas mixture. Methane
molecules are activated by collision with either nitrogen
or argon species previously excited, depending on the
N 2
/Ar ratio. Other aim of the work is the study of the
influence of some experimental parameters on the
hydrogen content of the films as well as its incorporation
as CH x
or NH y
radicals. The samples were characterised
by infrared spectroscopy, profilometry, nuclear
analysis, ERDA, SEM, EDAX, XANES... and plasma composition
has been analysed by Optical Emission
Spectroscopy and Mass Spectrometry. From these
results, it is possible to propose different mechanisms
for the deposition process.
1. F. Alonso, R. Gago, I. Jimenez, C. Gomez-Aleixandre, U. Kreissig and J. M. Albella. Diamond & Related Materials 11, 1161-1165 (2002)
2. M. Camero, R. Gago, C. Gómez-Aleixandre and J. M Albella. Diamond & Related Materials (to be published)
3. M. Camero, C. Gómez-aleixandre and J. M Albella. J.Electrochem.Soc. (to be published)
Proyectos:
Preparación de recubrimientos duros para aplicaciones mecánicas mediante la técnica ECR-CVD. Código: 07/N/0027/2001, Período:
1/1/2002 - 31/12/2002, Fuente de financiación: CAM, Importe total (euros): 69.868, Investigador Principal: Gomez-Aleixandre, C.,
Investigadores: Albella Martín, J.M.; Fernández Rodriguez, M.; Castañeda Quintana, S.; Gago Fernández, R., Personal de apoyo: Ortiz
Alvarez, J.
18. Síntesis de oxinitruro de silicio sobre
sustratos porosos
Palabras clave: mecanismos de crecimiento, sustratos
porosos, oxinitruro de silicio
Durante el proceso de PACVD, el mecanismo de formación
de capas de oxinitruro de silicio, a partir de mezclas
SiH 4 /O 2 /NH 3 , está controlado fundamentalmente
por el tamaño de poro del sustrato a recubrir, el cual
determina la morfología y espesor de la capa resultante.
Los primeros núcleos se pueden formar por aporte
de masa a partir de : a) especies de la fase gaseosa que
inciden directamente sobre la superficie o b) especies
reactivas adsorbidas que se desplazan sobre la superficie.
Según el balance entre ambas contribuciones, la
capa resultante puede presentar una estructura densa o
bien columnar. Sobre sustratos con tamaño de poro
grande > (1) ì m o superficies pulidas, ambas contribuciones
son similares y el recubrimiento presenta una
estructura densa homogénea. Sin embargo cuando el
tamaño de poro es relativamente pequeño ( 1 ì m), the contributions are
similar resulting in a homogeneous dense coating,
which follows the topography of the bare surface.
However, for substrates with small pore size (diameter
< 1 ì m) the surface irregularities disturb the migration
of the adsorbed species, giving rise to films with a
columnar structure.
1. F. Alonso, C. Gómez-Aleixandre, J.M. Albella and F.J. Martí. Vacuum, 64, 381 (2002)
2. F.Alonso, C.Gómez-Aleixandre and J.M.Albella. Journal.of Membrane Science (to be published)
135