Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Категор<strong>и</strong>я 2. ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ<br />
Сп<strong>и</strong>сок 580<br />
Раздел 1.<br />
2.2. Испытательное, контрольное <strong>и</strong> про<strong>и</strong>зводственное оборудован<strong>и</strong>е<br />
см. Техн<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>е пр<strong>и</strong>мечан<strong>и</strong>я к этому пункту<br />
2.2.5. Оборудован<strong>и</strong>е, спец<strong>и</strong>ально разработанное для осажден<strong>и</strong>я, обработк<strong>и</strong> <strong>и</strong> акт<strong>и</strong>вного<br />
управлен<strong>и</strong>я процессом нанесен<strong>и</strong>я неорган<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>х покрыт<strong>и</strong>й, слоев <strong>и</strong> мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>кац<strong>и</strong><strong>и</strong><br />
поверхност<strong>и</strong> (за <strong>и</strong>сключен<strong>и</strong>ем форм<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я подложек для электронных<br />
схем) с <strong>и</strong>спользован<strong>и</strong>ем процессов, указанных в табл<strong>и</strong>це к пункту 2.5.3.6 <strong>и</strong> отмеченных<br />
в пр<strong>и</strong>мечан<strong>и</strong>ях к ней, а также спец<strong>и</strong>ально разработанные для него автомат<strong>и</strong>з<strong>и</strong>рованные<br />
компоненты установк<strong>и</strong>, поз<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>он<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я, ман<strong>и</strong>пул<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я <strong>и</strong> регул<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я:<br />
2.2.5.1. Про<strong>и</strong>зводственное оборудован<strong>и</strong>е для х<strong>и</strong>м<strong>и</strong>ческого осажден<strong>и</strong>я <strong>и</strong>з паровой фазы<br />
(CVD), <strong>и</strong>меющее все н<strong>и</strong>жеследующее:<br />
а) процесс, мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>рованный для реал<strong>и</strong>зац<strong>и</strong><strong>и</strong> одного <strong>и</strong>з следующ<strong>и</strong>х методов:<br />
CVD с пульс<strong>и</strong>рующ<strong>и</strong>м реж<strong>и</strong>мом; терм<strong>и</strong>ческого осажден<strong>и</strong>я с управляемым<br />
образован<strong>и</strong>ем центров кр<strong>и</strong>сталл<strong>и</strong>зац<strong>и</strong><strong>и</strong> (CNTD); <strong>и</strong>л<strong>и</strong> CVD с пр<strong>и</strong>менен<strong>и</strong>ем<br />
плазменного разряда, мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>рующего процесс;<br />
<strong>и</strong><br />
б) включающее любое <strong>и</strong>з следующего: высоковакуумные (вакуум, равный 0,01<br />
Па <strong>и</strong>л<strong>и</strong> н<strong>и</strong>же (лучше)) вращающ<strong>и</strong>еся уплотнен<strong>и</strong>я; <strong>и</strong>л<strong>и</strong> средства регул<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я<br />
толщ<strong>и</strong>ны покрыт<strong>и</strong>я в процессе осажден<strong>и</strong>я;<br />
8419 89 989 0<br />
2.2.5.2. Про<strong>и</strong>зводственное оборудован<strong>и</strong>е <strong>и</strong>онной <strong>и</strong>мплантац<strong>и</strong><strong>и</strong> с током пучка 5 мА <strong>и</strong>л<strong>и</strong><br />
более;<br />
8543 10 000<br />
2.2.5.3 Технолог<strong>и</strong>ческое оборудован<strong>и</strong>е для ф<strong>и</strong>з<strong>и</strong>ческого осажден<strong>и</strong>я <strong>и</strong>з паровой фазы,<br />
получаемой нагревом электронным пучком (EB-PVD), включающее с<strong>и</strong>ловые<br />
с<strong>и</strong>стемы с расчетной мощностью более 80 кВт <strong>и</strong> <strong>и</strong>меющее любую <strong>и</strong>з следующ<strong>и</strong>х<br />
составляющ<strong>и</strong>х:<br />
а) лазерную с<strong>и</strong>стему управлен<strong>и</strong>я уровнем ж<strong>и</strong>дкой ванны, которая точно регул<strong>и</strong>рует<br />
скорость подач<strong>и</strong> заготовок;<br />
<strong>и</strong>л<strong>и</strong><br />
б) управляемое компьютером контрольно-<strong>и</strong>змер<strong>и</strong>тельное устройство, работающее<br />
на пр<strong>и</strong>нц<strong>и</strong>пе фотолюм<strong>и</strong>несценц<strong>и</strong><strong>и</strong> <strong>и</strong>он<strong>и</strong>з<strong>и</strong>рованных атомов в потоке пара,<br />
необход<strong>и</strong>мое для управлен<strong>и</strong>я скоростью осажден<strong>и</strong>я покрыт<strong>и</strong>я, содержащего<br />
два <strong>и</strong>л<strong>и</strong> более элемента;<br />
8543 70 900<br />
2.2.5.4. Про<strong>и</strong>зводственное оборудован<strong>и</strong>е плазменного напылен<strong>и</strong>я, обладающее любой <strong>и</strong>з<br />
следующ<strong>и</strong>х характер<strong>и</strong>ст<strong>и</strong>к:<br />
а) работающее пр<strong>и</strong> пон<strong>и</strong>женном давлен<strong>и</strong><strong>и</strong> контрол<strong>и</strong>руемой атмосферы (равном<br />
<strong>и</strong>л<strong>и</strong> н<strong>и</strong>же 10 кПа, <strong>и</strong>змеряемом на расстоян<strong>и</strong><strong>и</strong> до 300 мм над выходным сечен<strong>и</strong>ем<br />
сопла плазменной горелк<strong>и</strong>) в вакуумной камере, которая перед началом<br />
процесса напылен<strong>и</strong>я может быть откачана до 0,01 Па;<br />
<strong>и</strong>л<strong>и</strong><br />
б) включающее средства регул<strong>и</strong>рован<strong>и</strong>я толщ<strong>и</strong>ны покрыт<strong>и</strong>я в процессе напылен<strong>и</strong>я;<br />
8419 89 300 0; 8419 89 98<br />
2.2.5.5. Про<strong>и</strong>зводственное оборудован<strong>и</strong>е осажден<strong>и</strong>я распылен<strong>и</strong>ем, обеспеч<strong>и</strong>вающее<br />
плотность тока 0,1 мА/кв. мм <strong>и</strong>л<strong>и</strong> более, со скоростью осажден<strong>и</strong>я 15 мкм/ч <strong>и</strong>л<strong>и</strong><br />
более;<br />
8419 89 300 0; 8419 89 98<br />
ДН (05) Л<strong>и</strong>ст 56 <strong>и</strong>з 286
Change language