Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Сборник списков контролируемых товаров и технологий
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Категор<strong>и</strong>я 2. ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ<br />
Табл<strong>и</strong>ца к пункту 2.5.3.6. Техн<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>е пр<strong>и</strong>емы нанесен<strong>и</strong>я покрыт<strong>и</strong>й<br />
Сп<strong>и</strong>сок 580<br />
Раздел 1.<br />
пучком (пучкам<strong>и</strong>) в целях получен<strong>и</strong>я контрол<strong>и</strong>руемого <strong>и</strong> однородного потока пара матер<strong>и</strong>ала<br />
покрыт<strong>и</strong>я;<br />
в) пр<strong>и</strong> <strong>и</strong>спарен<strong>и</strong><strong>и</strong> лазером <strong>и</strong>спользуется <strong>и</strong>мпульсный <strong>и</strong>л<strong>и</strong> непрерывный лазерный луч;<br />
г) в процессе катодного дугового напылен<strong>и</strong>я <strong>и</strong>спользуется расходный катод, <strong>и</strong>з матер<strong>и</strong>ала<br />
которого образуется покрыт<strong>и</strong>е <strong>и</strong> <strong>и</strong>меется дуговой разряд, который <strong>и</strong>н<strong>и</strong>ц<strong>и</strong><strong>и</strong>руется на поверхност<strong>и</strong><br />
катода после кратковременного контакта с пусковым устройством. Контрол<strong>и</strong>руемое<br />
дв<strong>и</strong>жен<strong>и</strong>е дуг<strong>и</strong> пр<strong>и</strong>вод<strong>и</strong>т к эроз<strong>и</strong><strong>и</strong> поверхност<strong>и</strong> катода <strong>и</strong> образован<strong>и</strong>ю высоко<strong>и</strong>он<strong>и</strong>зованной<br />
плазмы. Анод может быть кон<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>м <strong>и</strong> располагаться по пер<strong>и</strong>фер<strong>и</strong><strong>и</strong> катода<br />
через <strong>и</strong>золятор, <strong>и</strong>л<strong>и</strong> сама камера может <strong>и</strong>грать роль анода. Для реал<strong>и</strong>зац<strong>и</strong><strong>и</strong> процесса нанесен<strong>и</strong>я<br />
покрыт<strong>и</strong>я вне прямой в<strong>и</strong>д<strong>и</strong>мост<strong>и</strong> подается электр<strong>и</strong>ческое смещен<strong>и</strong>е на подложку;<br />
Особое пр<strong>и</strong>мечан<strong>и</strong>е.<br />
Оп<strong>и</strong>санный в подпункте "г" процесс не относ<strong>и</strong>тся к нанесен<strong>и</strong>ю покрыт<strong>и</strong>й неуправляемой<br />
катодной дугой <strong>и</strong> без подач<strong>и</strong> электр<strong>и</strong>ческого смещен<strong>и</strong>я на подложку.<br />
д) <strong>и</strong>онное осажден<strong>и</strong>е - спец<strong>и</strong>альная мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>кац<strong>и</strong>я процесса ф<strong>и</strong>з<strong>и</strong>ческого осажден<strong>и</strong>я <strong>и</strong>з<br />
паровой фазы, получаемой нагревом, в котором плазменный <strong>и</strong>л<strong>и</strong> <strong>и</strong>онный <strong>и</strong>сточн<strong>и</strong>к<br />
<strong>и</strong>спользуется для <strong>и</strong>он<strong>и</strong>зац<strong>и</strong><strong>и</strong> матер<strong>и</strong>ала нанос<strong>и</strong>мых покрыт<strong>и</strong>й, а отр<strong>и</strong>цательное смещен<strong>и</strong>е,<br />
пр<strong>и</strong>ложенное к подложке, способствует экстракц<strong>и</strong><strong>и</strong> необход<strong>и</strong>мых <strong>и</strong>онов <strong>и</strong>з<br />
плазмы. Введен<strong>и</strong>е акт<strong>и</strong>вных реагентов, <strong>и</strong>спарен<strong>и</strong>е твердых матер<strong>и</strong>алов в камере, а<br />
также <strong>и</strong>спользован<strong>и</strong>е контрольно-<strong>и</strong>змер<strong>и</strong>тельных устройств, обеспеч<strong>и</strong>вающ<strong>и</strong>х <strong>и</strong>змерен<strong>и</strong>е<br />
(в процессе нанесен<strong>и</strong>я покрыт<strong>и</strong>й) опт<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>х характер<strong>и</strong>ст<strong>и</strong>к <strong>и</strong> толщ<strong>и</strong>ны покрыт<strong>и</strong>й,<br />
- обычные мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>кац<strong>и</strong><strong>и</strong> этого процесса.<br />
3. Твердофазное д<strong>и</strong>ффуз<strong>и</strong>онное насыщен<strong>и</strong>е - процесс, мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>рующ<strong>и</strong>й поверхностный слой, <strong>и</strong>л<strong>и</strong><br />
процесс нанесен<strong>и</strong>я внешнего покрыт<strong>и</strong>я, пр<strong>и</strong> которых <strong>и</strong>здел<strong>и</strong>е погружено в порошковую<br />
смесь (засыпку), состоящую <strong>и</strong>з:<br />
а) порошков металлов, подлежащ<strong>и</strong>х нанесен<strong>и</strong>ю на поверхность <strong>и</strong>здел<strong>и</strong>я (обычно алюм<strong>и</strong>н<strong>и</strong>й,<br />
хром, кремн<strong>и</strong>й <strong>и</strong>л<strong>и</strong> <strong>и</strong>х комб<strong>и</strong>нац<strong>и</strong><strong>и</strong>);<br />
б) акт<strong>и</strong>ватора (в больш<strong>и</strong>нстве случаев гало<strong>и</strong>дная соль); <strong>и</strong><br />
в) <strong>и</strong>нертного порошка, чаще всего окс<strong>и</strong>да алюм<strong>и</strong>н<strong>и</strong>я.<br />
Издел<strong>и</strong>е <strong>и</strong> порошковая смесь находятся в муфеле с температурой от 1030 К (757 град. C) до<br />
1375 К (1102 град. C) в течен<strong>и</strong>е достаточно продолж<strong>и</strong>тельного времен<strong>и</strong> для нанесен<strong>и</strong>я покрыт<strong>и</strong>я.<br />
4. Плазменное напылен<strong>и</strong>е - процесс нанесен<strong>и</strong>я внешнего покрыт<strong>и</strong>я, пр<strong>и</strong> котором в горелку, образующую<br />
<strong>и</strong> управляющую плазмой, подается порошок <strong>и</strong>л<strong>и</strong> проволока матер<strong>и</strong>ала покрыт<strong>и</strong>я,<br />
который пр<strong>и</strong> этом плав<strong>и</strong>тся <strong>и</strong> несется на подложку, где форм<strong>и</strong>руется покрыт<strong>и</strong>е. Плазменное<br />
напылен<strong>и</strong>е может провод<strong>и</strong>ться л<strong>и</strong>бо в реж<strong>и</strong>ме н<strong>и</strong>зкого давлен<strong>и</strong>я, л<strong>и</strong>бо в реж<strong>и</strong>ме высокой<br />
скорост<strong>и</strong>.<br />
Особые пр<strong>и</strong>мечан<strong>и</strong>я:<br />
а) н<strong>и</strong>зкое давлен<strong>и</strong>е означает давлен<strong>и</strong>е н<strong>и</strong>же атмосферного;<br />
б) высокая скорость означает, что скорость потока на срезе сопла горелк<strong>и</strong>, пр<strong>и</strong>веденная к<br />
температуре 293 К (20 град. С) <strong>и</strong> давлен<strong>и</strong>ю 0,1 МПа, превышает 750 м/с.<br />
5. Нанесен<strong>и</strong>е шл<strong>и</strong>кера - процесс, мод<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>рующ<strong>и</strong>й поверхностный слой, <strong>и</strong>л<strong>и</strong> процесс нанесен<strong>и</strong>я<br />
внешнего покрыт<strong>и</strong>я, в которых металл<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>й <strong>и</strong>л<strong>и</strong> керам<strong>и</strong>ческ<strong>и</strong>й порошок с орган<strong>и</strong>ческой<br />
связкой, суспенд<strong>и</strong>рованный в ж<strong>и</strong>дкост<strong>и</strong>, нанос<strong>и</strong>тся на подложку посредством напылен<strong>и</strong>я,<br />
погружен<strong>и</strong>я <strong>и</strong>л<strong>и</strong> окраск<strong>и</strong> с последующ<strong>и</strong>м<strong>и</strong> сушкой пр<strong>и</strong> комнатной <strong>и</strong>л<strong>и</strong> повышенной температуре<br />
<strong>и</strong> термообработкой для получен<strong>и</strong>я необход<strong>и</strong>мого покрыт<strong>и</strong>я.<br />
6. Осажден<strong>и</strong>е распылен<strong>и</strong>ем - процесс нанесен<strong>и</strong>я внешнего покрыт<strong>и</strong>я, основанный на передаче <strong>и</strong>мпульса,<br />
когда полож<strong>и</strong>тельные <strong>и</strong>оны ускоряются в электр<strong>и</strong>ческом поле в направлен<strong>и</strong><strong>и</strong> к по-<br />
ДН (05) Л<strong>и</strong>ст 72 <strong>и</strong>з 286
Change language