Lokale Verformungsmessung an partikelverstärktem Aluminium
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Abb. A-4: REM- Aufnahme eines Schliffs aus A6061+10%SiC, Partikelgröße 10µm, poliert<br />
am Gerät „Minimet Polisher“ von Buehler<br />
A.2.4.3 Elektrolytisches Polieren<br />
Vorteilhaft <strong>an</strong> dieser Methode ist, dass die polierte Oberfläche keine Verformungsschicht, die<br />
EBSD- Untersuchungen stört, aufweist. Andererseits wird die <strong>Aluminium</strong>-Matrix stärker<br />
abgetragen als die Partikel. Deswegen erhält m<strong>an</strong> beim elektrolytischen Polieren<br />
Probenoberflächen, <strong>an</strong> denen die SiC- Partikel deutlich aus der <strong>Aluminium</strong>matrix<br />
hervorstehen.<br />
Für die Präparierungsversuche wurde das Gerät „Polectrol“ von Struers benutzt, als Elektrolyt<br />
kam die Lösung A2-I der Firma Struers zum Einsatz.<br />
Proben wurden geschliffen, auf Filztuch mit Tonerde poliert und elektrolytisch poliert. Mit<br />
den Geräteeinstellungen Sp<strong>an</strong>nung 60V, Polierzeit 3sec und Flow3 konnte eine glatt polierte<br />
<strong>Aluminium</strong>matrix erhalten werden, aus der die SiC- Partikel aber 4 µm hervorst<strong>an</strong>den (Abb.<br />
A-5).<br />
Um diesen Höhenunterschied zu mindern variierten wir Sp<strong>an</strong>nung (20V, 40V) und Polierzeit<br />
(3s, 4s, 5s). Bei allen diesen Einstellungen ragten die Partikel 1,5µm bis 2,5µm aus der Matrix<br />
heraus, wobei kleinere Sp<strong>an</strong>nungen und geringere Polierzeiten nicht zu kleineren<br />
Höhenunterschieden zwischen Matrix und Partikel führten. Die erhaltenen Oberflächen<br />
wiesen, wie in Abb. A-6 ersichtlich, in der <strong>Aluminium</strong>matrix eine rau strukturierte Oberfläche<br />
auf.<br />
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