CPF - Pharmtech.uni-erlangen.de - Friedrich-Alexander-Universität ...
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3. Concentrated Pow<strong>de</strong>r Form: <strong>CPF</strong>-Technologie<br />
RESS GAS / PCA PGSS Sprühtrocknung Feuchtgranulierung <strong>CPF</strong>-Technologie<br />
• Substanzen mit<br />
Löslichkeit in<br />
überkritischen Gasen<br />
• Substanzen, die sich in<br />
organischen Lösungsmitteln<br />
gut lösen<br />
• Substanzen, in <strong>de</strong>nen sich<br />
überkritische flui<strong>de</strong> lösen<br />
• Flüssigkeiten, die sich mit<br />
pumpen för<strong>de</strong>rn lassen<br />
• Flüssigkeiten, die sich mit<br />
Pumpen för<strong>de</strong>rn lassen<br />
• Hochviskose bis<br />
niedrigviskose<br />
Flüssigkeiten<br />
• Nanopartikel • Mikropartikel • Mikropartikel • Mikropartikel (5-250µm) • Partikel (100-1000µm) • Partikel (20-500µm)<br />
• geringe Durchsätze • mittlere Durchsätze • Durchsätze von 200 kg/h • hohe Durchsätze • hohe Durchsätze • Durchsätze von 200 kg/h<br />
• technische Umsetzung<br />
noch nicht bekannt<br />
• technische Umsetzung noch<br />
nicht bekannt<br />
• technische Umsetzung<br />
realisiert<br />
• technische Umsetzung weit<br />
entwickelt<br />
• technische Umsetzung weit<br />
entwickelt<br />
• technische Umsetzung<br />
realisiert<br />
• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />
einfach (Druck,<br />
Temperatur)<br />
• Verfahren lösemittelfrei<br />
und thermisch schonend<br />
• Abtrennung von<br />
Nanopartikeln aus<br />
Gasstrom schwierig<br />
• Inertgasatmosphäre<br />
möglich<br />
• lösemittelfreie Produkte<br />
• hoher Gasüberschuss, da<br />
geringe Löslichkeit von<br />
Feststoffen in<br />
überkritischen Flui<strong>de</strong>n<br />
• Kontinuierlicher Betrieb<br />
<strong>de</strong>nkbar<br />
• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />
einfach (Druck,<br />
Temperatur), genauer als bei<br />
RESS, sehr enge<br />
Korngrößenverteilung<br />
• Einsatz von organischen<br />
Lösemitteln<br />
• aufwendige Trennung <strong>de</strong>s<br />
Feststoffes vom<br />
Lösungsmittel<br />
• Inertgasatmosphäre möglich<br />
• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />
einfach (Druck,<br />
Temperatur)<br />
• Verfahren lösemittelfrei<br />
und thermisch schonend<br />
• einfache Trennung von<br />
Feststoff und Gas,<br />
Kreislaufführung <strong>de</strong>s<br />
überkritischen Flui<strong>de</strong>s<br />
• Inertgasatmosphäre<br />
möglich<br />
• Korngröße abhängig von<br />
<strong>de</strong>n Düsen, Steuerung <strong>de</strong>r<br />
Korngröße kaum möglich,<br />
relativ breite Streuung<br />
• Lösemittel muss entfernt<br />
wer<strong>de</strong>n, Verunreinigungen<br />
durch Reste an Lösemittel<br />
• große Mengen an Abgas<br />
müssen von Lösemittel und<br />
Staub befreit wer<strong>de</strong>n<br />
• Feinverteiltes Produkt in<br />
Sauerstoffatmosphäre,<br />
Verluste durch Oxidation<br />
• Inertgasatmosphäre<br />
möglich<br />
• eventuell Verunreinigung<br />
durch Lösemittelreste<br />
• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />
abhängig von Granulator u.<br />
Bin<strong>de</strong>mittel gut möglich,<br />
enges Kornspektrum<br />
• Einsatz von Lösemitteln nicht<br />
unbedingt nötig, wenn dann<br />
muss Entfernung erfolgen<br />
• große Mengen Abgas (WS)<br />
müssen von Staub und<br />
Lösemittel befreit wer<strong>de</strong>n<br />
• Feinverteiltes Produkt in<br />
Sauerstoffatmosphäre,<br />
Verluste durch Oxidation<br />
• Inertgasatmosphäre möglich<br />
• Korngröße abhängig von<br />
Verweilzeit im Sprühturm<br />
und vom Trägerstoff<br />
• Als Lösemittel wer<strong>de</strong>n nur<br />
verdichtete Gase eingesetzt,<br />
keine Entfernung nötig<br />
• geringe Mengen Abgas<br />
müssen von Staub befreit<br />
wer<strong>de</strong>n<br />
• Inertgasatmosphäre, keine<br />
Verluste durch Oxidation<br />
• eventuell Verunreinigung<br />
durch Lösemittelreste<br />
• lösemittelfreie Produkte<br />
• eventuell Verunreinigung<br />
durch Lösemittelreste<br />
• lösemittelfreie Produkte<br />
• geringer Gasbedarf • geringer Gasbedarf • sehr hoher Gasbedarf • hoher Gasbedarf (WS) • geringer Gasbedarf, 0,5-2<br />
kg Gas/kg Feststoff<br />
• Verfahren nur im<br />
Batchbetrieb möglich<br />
Tabelle 3.1: Verfahren zur Pulverisierung<br />
• Kontinuierliches<br />
Verfahren<br />
• Verluste an flüchtigen<br />
Substanzen, thermische<br />
Belastung<br />
• Kontinuierlicher Betrieb<br />
möglich<br />
• eventuell Verlust an<br />
leichtflüchtigen Substanzen<br />
• Kontinuierlicher Betrieb<br />
möglich<br />
• Temperaturen niedrig,<br />
reduzierte Verluste an<br />
leichtflüchtigen Substanzen,<br />
geringe thermische<br />
Belastung<br />
• Kontinuierlicher Betrieb<br />
möglich