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CPF - Pharmtech.uni-erlangen.de - Friedrich-Alexander-Universität ...

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24<br />

3. Concentrated Pow<strong>de</strong>r Form: <strong>CPF</strong>-Technologie<br />

RESS GAS / PCA PGSS Sprühtrocknung Feuchtgranulierung <strong>CPF</strong>-Technologie<br />

• Substanzen mit<br />

Löslichkeit in<br />

überkritischen Gasen<br />

• Substanzen, die sich in<br />

organischen Lösungsmitteln<br />

gut lösen<br />

• Substanzen, in <strong>de</strong>nen sich<br />

überkritische flui<strong>de</strong> lösen<br />

• Flüssigkeiten, die sich mit<br />

pumpen för<strong>de</strong>rn lassen<br />

• Flüssigkeiten, die sich mit<br />

Pumpen för<strong>de</strong>rn lassen<br />

• Hochviskose bis<br />

niedrigviskose<br />

Flüssigkeiten<br />

• Nanopartikel • Mikropartikel • Mikropartikel • Mikropartikel (5-250µm) • Partikel (100-1000µm) • Partikel (20-500µm)<br />

• geringe Durchsätze • mittlere Durchsätze • Durchsätze von 200 kg/h • hohe Durchsätze • hohe Durchsätze • Durchsätze von 200 kg/h<br />

• technische Umsetzung<br />

noch nicht bekannt<br />

• technische Umsetzung noch<br />

nicht bekannt<br />

• technische Umsetzung<br />

realisiert<br />

• technische Umsetzung weit<br />

entwickelt<br />

• technische Umsetzung weit<br />

entwickelt<br />

• technische Umsetzung<br />

realisiert<br />

• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />

einfach (Druck,<br />

Temperatur)<br />

• Verfahren lösemittelfrei<br />

und thermisch schonend<br />

• Abtrennung von<br />

Nanopartikeln aus<br />

Gasstrom schwierig<br />

• Inertgasatmosphäre<br />

möglich<br />

• lösemittelfreie Produkte<br />

• hoher Gasüberschuss, da<br />

geringe Löslichkeit von<br />

Feststoffen in<br />

überkritischen Flui<strong>de</strong>n<br />

• Kontinuierlicher Betrieb<br />

<strong>de</strong>nkbar<br />

• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />

einfach (Druck,<br />

Temperatur), genauer als bei<br />

RESS, sehr enge<br />

Korngrößenverteilung<br />

• Einsatz von organischen<br />

Lösemitteln<br />

• aufwendige Trennung <strong>de</strong>s<br />

Feststoffes vom<br />

Lösungsmittel<br />

• Inertgasatmosphäre möglich<br />

• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />

einfach (Druck,<br />

Temperatur)<br />

• Verfahren lösemittelfrei<br />

und thermisch schonend<br />

• einfache Trennung von<br />

Feststoff und Gas,<br />

Kreislaufführung <strong>de</strong>s<br />

überkritischen Flui<strong>de</strong>s<br />

• Inertgasatmosphäre<br />

möglich<br />

• Korngröße abhängig von<br />

<strong>de</strong>n Düsen, Steuerung <strong>de</strong>r<br />

Korngröße kaum möglich,<br />

relativ breite Streuung<br />

• Lösemittel muss entfernt<br />

wer<strong>de</strong>n, Verunreinigungen<br />

durch Reste an Lösemittel<br />

• große Mengen an Abgas<br />

müssen von Lösemittel und<br />

Staub befreit wer<strong>de</strong>n<br />

• Feinverteiltes Produkt in<br />

Sauerstoffatmosphäre,<br />

Verluste durch Oxidation<br />

• Inertgasatmosphäre<br />

möglich<br />

• eventuell Verunreinigung<br />

durch Lösemittelreste<br />

• Steuerung <strong>de</strong>r Korngröße<br />

abhängig von Granulator u.<br />

Bin<strong>de</strong>mittel gut möglich,<br />

enges Kornspektrum<br />

• Einsatz von Lösemitteln nicht<br />

unbedingt nötig, wenn dann<br />

muss Entfernung erfolgen<br />

• große Mengen Abgas (WS)<br />

müssen von Staub und<br />

Lösemittel befreit wer<strong>de</strong>n<br />

• Feinverteiltes Produkt in<br />

Sauerstoffatmosphäre,<br />

Verluste durch Oxidation<br />

• Inertgasatmosphäre möglich<br />

• Korngröße abhängig von<br />

Verweilzeit im Sprühturm<br />

und vom Trägerstoff<br />

• Als Lösemittel wer<strong>de</strong>n nur<br />

verdichtete Gase eingesetzt,<br />

keine Entfernung nötig<br />

• geringe Mengen Abgas<br />

müssen von Staub befreit<br />

wer<strong>de</strong>n<br />

• Inertgasatmosphäre, keine<br />

Verluste durch Oxidation<br />

• eventuell Verunreinigung<br />

durch Lösemittelreste<br />

• lösemittelfreie Produkte<br />

• eventuell Verunreinigung<br />

durch Lösemittelreste<br />

• lösemittelfreie Produkte<br />

• geringer Gasbedarf • geringer Gasbedarf • sehr hoher Gasbedarf • hoher Gasbedarf (WS) • geringer Gasbedarf, 0,5-2<br />

kg Gas/kg Feststoff<br />

• Verfahren nur im<br />

Batchbetrieb möglich<br />

Tabelle 3.1: Verfahren zur Pulverisierung<br />

• Kontinuierliches<br />

Verfahren<br />

• Verluste an flüchtigen<br />

Substanzen, thermische<br />

Belastung<br />

• Kontinuierlicher Betrieb<br />

möglich<br />

• eventuell Verlust an<br />

leichtflüchtigen Substanzen<br />

• Kontinuierlicher Betrieb<br />

möglich<br />

• Temperaturen niedrig,<br />

reduzierte Verluste an<br />

leichtflüchtigen Substanzen,<br />

geringe thermische<br />

Belastung<br />

• Kontinuierlicher Betrieb<br />

möglich

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