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Blei Gel Akku Handbuch Teil 1 - udomi

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1.2 Nennspannung UN<br />

Die Nennspannung einer Zelle ist ein geeigneter, angenäherter Wert der<br />

Spannung zur Bezeichnung oder Identifizierung eines elektrochemischen<br />

Systems, einer Zelle oder einer Batterie [1].<br />

Der Wert pro Zelle beträgt definitionsgemäß:<br />

• 2,0 V für den <strong>Blei</strong>akkumulator<br />

• 1,2 V für den Nickel-Cadmium-<strong>Akku</strong>mulator<br />

Die Nennspannung einer Batterie ist das Produkt aus der Anzahl der in<br />

Reihe geschalteten Zellen und der Nennspannung einer Zelle.<br />

1.3 Aktive Massen<br />

1.3.1 <strong>Blei</strong>staubherstellung<br />

Die <strong>Blei</strong>staubherstellung erfolgt generell in zwei unterschiedlichen<br />

Verfahren. Für beide Verfahren wird Feinblei mit einem <strong>Blei</strong>anteil von<br />

> 99,9 % verwendet.<br />

In dem sogenannten Mühlenverfahren werden entweder erst kleine<br />

gegossene <strong>Blei</strong>pellets, in Scheiben geschnittene <strong>Blei</strong>barren oder aber<br />

ganze <strong>Blei</strong>barren in Mühlen zu <strong>Blei</strong>staub zermahlen. Die <strong>Blei</strong>oberfläche<br />

wird durch Reibung der <strong>Blei</strong>körper aneinander in einem Luftstrom oxidiert.<br />

Im sogenannten Barton-Prozess wird das Feinblei geschmolzen und in<br />

einem Luftstrom versprüht, so dass feiner <strong>Blei</strong>staub entsteht.<br />

1.3.2 Positive Aktivmassen (PbO2)<br />

Diese werden mit Ausnahme von Großoberflächenplatten aus <strong>Blei</strong>staub<br />

hergestellt.<br />

1.3.2.1 Positive Aktivmasse für Großoberflächenplatten<br />

Hier entsteht die Aktivmasse, indem die positive Feinbleioberfläche auf<br />

elektrochemischem Weg in einem Elektrolyten aus Perchlorat zunächst als<br />

negative Masse formiert wird. Anschließend erfolgt eine sogenannte<br />

Umkehrformation zur positiven Masse PbO2 (s. 2.1.1.1).<br />

<strong>Handbuch</strong> (<strong>Teil</strong> 1) - 8 -<br />

Industrial Energy, Product Application<br />

Ausgabe 3, Dezember 2008

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