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Raster-Tunnel-Mikroskopie - Fakultät für Physik

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Halbleiter sind dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Valenz- und Leitungsband eine<br />

Energielücke existiert, die für die Elektronen verboten ist. Die elektrische Leitfähigkeit, d.h.<br />

das Anheben von Elektronen über die Lücke hinweg ins Leitungsband, kann durch thermische<br />

oder optische Anregung erzeugt werden. Oder man ‘pflanzt’ mittels Fremdatomen mit anderer<br />

Valenzelektronenanzahl Zustände in die Energielücke ein, was zu einer höheren Zahl<br />

beweglicher Ladungsträger führt, genannt ‘Dotierung’ ([10]).<br />

RTM-Untersuchungen von Halbleiteroberflächen sind nur im Ultra-Hoch-Vakuum<br />

(UHV) möglich, da diese Materialien an ihren Grenzflächen freie Valenzen besitzen, die an<br />

Luft entweder sehr schnell Oxidschichten oder instabile Zwischenschichten ausbilden, die<br />

isolierend wirken.<br />

Die Fermi-Energie der Halbleiter liegt bei nicht vorhandener <strong>Tunnel</strong>spannung in der<br />

Energielücke. Damit die Voraussetzungen für das Elektronen-<strong>Tunnel</strong>n zwischen Spitze und<br />

Probe erfüllt sind (s. Kap.3), müssen <strong>Tunnel</strong>spannungen von einem Volt und mehr angelegt<br />

werden.<br />

Nichtsdestotrotz sind Halbleiteroberflächen ein lohnenswertes RTM-Forschungsgebiet<br />

([2]):<br />

(i) Bei Halbleitern existieren im Gegensatz zu Metallen lokalisierte<br />

Oberflächenzustände, die mit Hilfe des RTM’s abgebildet werden können.<br />

(ii) Halbleiteroberflächen neigen aufgrund ihrer freien Valenzen stark dazu, Rekonstruktionen<br />

auszubilden, die mit anderen Untersuchungsmethoden sehr schwierig<br />

auszumachen sind. Unter Rekonstruktionen versteht man Oberflächenveränderungen<br />

aufgrund der Wechselwirkung der freien Valenzen, damit die Gesamtenergie des<br />

Festkörpers minimiert wird.<br />

(iii) Bei der Interpretation der RTM-Bilder fällt die Unterscheidung von elektronischen<br />

und topologischen Eigenschaften oftmals sehr schwer. Deshalb nutzt man aus, daß die<br />

erhaltenen Abbildungen der Halbleiterproben stark von der angelegten <strong>Tunnel</strong>spannung<br />

abhängen. Liegt die Probe z.B. am Minuspol der Spannung, so tunneln die Elektronen<br />

aus dem Valenzband des Halbleiters heraus, polt man um, so tunneln sie ins<br />

Leitungsband der Probe hinein! Bei dotierten Halbleitern ist es bei entsprechender Wahl<br />

der <strong>Tunnel</strong>spannung sogar möglich, die Zustandsdichten im Donator- bzw.<br />

Akzeptorband abzubilden!<br />

Wie oben schon erwähnt wurde, sind Proben aus reinen Halbleitermaterialien für<br />

Untersuchungen mit dem Luft-RTM nicht tauglich. Es gibt jedoch Halbleiter, die aus<br />

übereinanderliegenden Schichten zweier Atomsorten aufgebaut sind, die durch Van-der-Waals-<br />

Kräfte zusammengehalten werden, z.B. WSe 2 (Wolframdiselenid) und MoS 2 (Molybdändisulfid).<br />

Innerhalb der Schichten bilden alle Valenzorbitale kovalente Bindungen, so daß es<br />

folglich auch an der Oberfläche keine freien Valenzen gibt. Deshalb sind solcherlei Halbleiter<br />

an ihren Grenzflächen stabil und relativ frei von Kontaminationen, also im Luft-RTM<br />

verwendbar.<br />

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