Dissertation_M_Fischer.pdf - OPUS - Universität Augsburg
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6 Zusammenfassung 125<br />
Wesentlich für die weitestgehende Lösung dieser Probleme waren Untersuchungen zum Einsetzen<br />
plastischer Deformationsprozesse im Si-Substrat sowie eine quantitative Analyse der intrinsischen<br />
Schichtspannungen als Funktion der Abscheidetemperatur mittels Röntgenbeugung. Es zeigte sich,<br />
dass auf beiden Wachstumsflächen bei tiefen Temperaturen Druckspannungen aufgebaut werden, die<br />
sich mit zunehmender Temperatur verringern, um dann in den Zugspannungsbereich überzugehen.<br />
Es existieren eindeutige monotone Abhängigkeiten zwischen Temperatur und Spannungen, wobei<br />
die Werte auf (111) gegenüber (001) um ca. 200 ◦ C zu niedrigeren Temperaturen bzw. um 2 GPa zu<br />
höheren Spannungen verschoben sind.<br />
Depositionsexperimente auf HPHT-Einkristallen aus der Hochdrucksynthese belegen, dass es sich<br />
beim Auftreten der intrinsischen Spannungen um ein Phänomen des homoepitaktischen Wachstums<br />
handelt und nicht mit dem Aufbau des Ir/YSZ/Si-Substrats zusammenhängt. Es konnte eine<br />
eindeutige Korrelation zwischen Versetzungsdichten in der Schicht und dem Spannungsaufbau<br />
gemessen werden. Unterhalb einer Schwelle von ca. 10 7 cm −2 kommt es zu keinem Aufbau von<br />
intrinsischen Spannungen. Oberhalb der Schwelle steigt der Betrag der Druckspannungen in (001)-<br />
orientierten Schichten mit der Versetzungsdichte. Bei der höchsten untersuchten Versetzungsdichte<br />
von 6×10 9 cm −2 wurde auch der höchste Druckspannungswert von −5.1 GPa gemessen. Insgesamt<br />
erstreckte sich der Spannungsbereich auf (001) bei den höchsten Abscheidetemperaturen bis<br />
zu Zugspannungen von ca. +0.15 GPa. Auf (111) ergab sich ein Bereich zwischen −1.3 GPa und<br />
+2.7 GPa.<br />
Keines der für CVD-Diamantschichten bis dato diskutierten Modelle für die Entstehung von intrinsischen<br />
Spannungen konnte die experimentellen Beobachtungen auch nur annähernd beschreiben.<br />
Als besondere Herausforderung stellte sich dar, dass ein möglicher Mechanismus sowohl die Entstehung<br />
von Druck- als auch Zugspannungen erklären können muss. Die strenge Korrelation des Auftretens<br />
und des Betrags der Spannungen mit der Versetzungsdichte war ein Hinweis auf die zentrale<br />
Rolle der Versetzungen. Mit dem effektiven Klettern von Versetzungen konnte ein Mechanismus erstmals<br />
für die Entstehung von Spannungen in epitaktischen Diamantschichten vorgeschlagen werden,<br />
der alle beobachteten Phänomene konsistent beschreibt. Abschätzungen ergaben auch quantitativ<br />
sinnvolle Werte. TEM-Untersuchungen, die die Neigung der Versetzungen in den Schichten zeigen<br />
und den Neigungswinkel messen sollten, scheiterten bisher an experimentellen Schwierigkeiten bei<br />
der Probenpräparation von durchstrahlbaren Membranen.<br />
Eine Vielzahl früherer Berichte zu Entstehung von Spannungen, von Rissen und dem selbständigen<br />
Abplatzen von Schichten beim homoepitaktischen Wachstum können nun schlüssig erklärt werden.<br />
Neben der wissenschaftlichen Bedeutung dieser Ergebnisse sind sie auch von enormer technologischer<br />
Relevanz. Sie erlauben nicht nur ein gezieltes Vermeiden von Schichtspannungen, sondern sie liefern<br />
auch ein einfaches Rezept für einen gezielten Aufbau von Druckspannungen in oberflächennahen<br />
Bereichen, um so die Bruchfestigkeit von Diamantbauteilen zu erhöhen.<br />
Theoretische Berechnungen hatten gezeigt, dass Diamantmosaikkristalle das ultimative Material<br />
für die Monochromatisierung von Neutronen mit einer Wellenlänge von 0.3−1 Å wären. Durch<br />
Einsatz von Monochromatoren basierend auf Diamant sollte ein Intensitätsgewinn von bis zu einem<br />
Faktor 4 an Neutronenfluss möglich sein. In Zusammenarbeit mit den drei Neutronenzentren<br />
ILL, FRM II und HZB wurde die Struktur und Neutronenreflektivität (001)-orientierter Diamantmosaikkristalle<br />
mittels Rönten-, Neutronen- und Synchrotronstrahlung untersucht. 1 mm dicke heteroepitaktische<br />
Diamantproben zeigten dabei eine Peakreflektivität von 34% bei einer Wellenlänge<br />
von 1 Å und einer polaren Mosaikbreite von 0.22 ◦ . Damit werden bereits alle bisher eingesetzten<br />
Monochromator-Materialien für diese Wellenlänge überboten. Durch das Stapeln von 1 mm dicken<br />
Kristallen mit einer Fläche von 20×20 mm 2 konnte einerseits die Dicke von 5 mm für Transmissonsmonochromatorelemente<br />
erreicht werden. Gleichzeitig wurde bei diesen Stapeln durch definiertes<br />
gegenseitiges Verkippen eine Feineinstellung der Mosaikbreite vorgenommen. Bei Testmessungen<br />
mit monochromatischen Neutronen konnte demonstriert werden, dass Intensitätsgewinne von einem