4 Optische Eigenschaften des strukturier - JUWEL ...
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2. Grundlagen<br />
Die elektrischen <strong>Eigenschaften</strong> amorpher Filme hängen empfindlich von der Dichte und der<br />
energetischen Verteilung der lokalisierten Zustände ab. Diese Zustände bestimmen den detaillierten<br />
Verlauf der Absorptionskante, den Ladungstransport, die Dotierbarkeit, die Lebensdauern<br />
und die Diffusionslängen der Ladungsträger. Da in a-Si:H die Erhaltung <strong>des</strong><br />
Wellenvektors aufgehoben ist, verhält sich das Material wie ein direkter Halbleiter. Dadurch<br />
wird die Absorptionswahrscheinlichkeit von Photonen stark erhöht. Daraus ergibt sich ein<br />
Absorptionskoeffizient, der für sichtbares Licht mit Photonenenergien über 2,0 eV um einen<br />
Faktor 10 – 100 größer als bei kristallinem Silizium ist. Nahezu das gesamte einfallende Licht<br />
dieser Energien wird schon bei Schichtdicken unter 1 µm absorbiert.<br />
� (cm -1 )<br />
10 5<br />
10 3<br />
10 1<br />
10 -1<br />
a-Si:H<br />
�c-Si:H<br />
c-Si<br />
0.5 1.0 1.5<br />
E (eV)<br />
2.0 2.5<br />
Abbildung 2.4: Vergleich typischer Absorptionsspektren von a-Si:H, µc-Si:H und c-Si in Abhängigkeit von der<br />
Photonenenergie E. (� = Absorptionskoeffizient).<br />
2.2 Mikrokristallines Silizium<br />
Mikrokristallines Silizium (µc-Si:H) ist ein indirekter Halbleiter, der die Vorteile der elektronischen<br />
Struktur <strong>des</strong> kristallinen Siliziums mit den Vorzügen der Dünnschichttechnologie<br />
verbindet. Die Absorption (siehe Abbildung 2.4) im Bereich hoher Energien (> 1.8 eV) ist<br />
geringer als beim a-Si:H. Im Vergleich mit a-Si:H hat µc-Si:H eine kleinerer Bandlücke von<br />
etwa 1.1 eV. Daher setzt die Absorption schon für Energien oberhalb ab 1.1 eV ein. Eine Beschreibung<br />
der optoelektronischen <strong>Eigenschaften</strong> von µc-Si:H findet sich in [15, 16, 17, 19,<br />
44].<br />
Mikrokristallines Silizium besteht aus einem heterogenen Phasengemisch von kristallinem<br />
und amorphem Silizium sowie Korngrenzen und Hohlräumen. Für praktische Anwendungen<br />
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