Geotechnika - Fakulta stavební - Vysoké učení technické v Brně

12 th International Scientific Conference, April 20-22, 2009 Brno, Czech Republic 51Pomerné kontaktné napätie σ i / σ m4 [-]0 0,1 0,2 0,3 0,4 0,5 0,6 0,7 0,8 0,9 1012345Relatívna poloha bodu v smere šírky základu ξ = x / (b/2) [-]Analytické riešenie - Borowicka MKP-homogénny model 4 MKP-h1/h2=1,E1/E2=10MKP-h1/h2=1,E1/E2=5 MKP-h1/h2=1,E1/E2=2 MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,5MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,2 MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=0,2MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=0,5 MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=2MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=5 MKP-h1/h2=0,5,E1/E2=10 MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=10MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=5 MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=2 MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=0,5MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=0,25,E1/E2=0,2 MKP-h1/h2=4,E1/E2=10MKP-h1/h2=4,E1/E2=5 MKP-h1/h2=4,E1/E2=2 MKP-h1/h2=4,E1/E2=0,5MKP-h1/h2=4,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=4,E1/E2=0,2 MKP-h1/h2=2,E1/E2=10MKP-h1/h2=2,E1/E2=5 MKP-h1/h2=2,E1/E2=2 MKP-h1/h2=2,E1/E2=0,5MKP-h1/h2=2,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=2,E1/E2=0,2 MKP-h1/h2=1,E1/E2=10MKP-h1/h2=1,E1/E2=5 MKP-h1/h2=1,E1/E2=2 MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,2MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,33 MKP-h1/h2=1,E1/E2=0,2 MKP-homogénny model 1Obr. 2 Pomerné kontaktné napätia pod tuhým základovým pásom (σm = 200kPa) (x- vzdialenosť odstredu základu, b - šírka pásu, σi - kontaktné napätie v zákl. škáre, σm - priemerné kontakt. napätie)Ak je pomer E 1 /E 2 < 1 je nárast napätí opačný a napätia narastajú pod stredom základovéhopásu a klesajú pod hranou pásu. Avšak ich zmeny sú približne dvoj až trojnásobne menšie ako pripomere E 1 /E 2 > 1. Napríklad pre pomer vrstiev h 1 /h 2 = 0,25 a h 1 /b = 0,5 je to pri pomere E 1 /E 2 = 5pokles kontaktných napätí pod stredom pásu 42,3% a prírastok pod hranou pásu 41% avšak pripomere E 1 /E 2 = 0,2 je to prírastok pod stredom iba 16,6% a pokles pod hranou 12,6%. Ak jevzájomný pomer vrstiev h 1 /h 2 > 1 pre h 1 /b = 2 je prírastok aj pokles napätí pod stredomzákladového pásu (bod č.1) minimálny. Platí to pre pomer E 1 /E 2 > 1, kde je pokles kontaktnýchnapätí približne 3%, ale aj pre pomer E 1 /E 2 < 1, kde je prírastok kontaktných napätí približne 1%.Pod hranou základového pásu (bod č.2) je pre pomery vrstiev h 1 /h 2 > 1 a h 1 /b = 2 prírastokkontaktného napätia pre pomery E 1 /E 2 > 2 taktiež však pre pomery E 1 /E 2 < 0,33 konštantný a topribližne 20%.Na obr. 3 je zobrazený vplyv deformačných charakteristík vrstvy h 2 na kontaktné napätia podstredom a hranou tuhého základového pásu pre rôzne pomerné kombinácie h 1 /h 2 a h 1 /b.101005 210,50,2806040(σ zi / σ zm5 )*100 %200-20Bod.1 (h1/h2=1,h1/b=0,5)Bod.2 (h1/h2=1,h1/b=0,5)-40Bod.1 (h1/h2=0,5,h1/b=0,5)Bod.2 (h1/h2=0,5,h1/b=0,5)-60Bod.1 (h1/h2=0,25,h1/b=0,5)Bod.1 (h1/h2=4,h1/b=2)Bod.2 (h1/h2=0,25,h1/b=0,5)Bod.2 (h1/h2=4,h1/b=2)-80Bod.1 (h1/h2=2,h1/b=2)Bod.2 (h1/h2=2,h1/b=2)-100Bod.1 (h1/h2=1,h1/b=2)log E 1 / E 2 [ - ]Bod.2 (h1/h2=1,h1/b=2)Obr. 3 Vplyv deformačných vlastností vrstvy h 2 na kontaktné napätie pod stredom (bod č.1)a hranou (bod č.2) tuhého pásového základu