××פ×× ×ª×©×ª××ת ××קר ××שר×× - Neuron at tau - ××× ××רס××ת ×ª× ××××
××פ×× ×ª×©×ª××ת ××קר ××שר×× - Neuron at tau - ××× ××רס××ת ×ª× ××××
××פ×× ×ª×©×ª××ת ××קר ××שר×× - Neuron at tau - ××× ××רס××ת ×ª× ××××
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
PhysicalSciences andEngineering34תל-אביביצור ואיפיון (שי"א) במרכז הננו באוניברסיטתש) שירותי תשתית קיימתמשתמשים בתשתית ומדיניות גישה למשתמשים:מספר המשתמשים בתשתית לשנה (לפי נתוני שנת 9צוות מדעי/הנדסי קבוע: שהפעיל אתתשתית המחקרמספר משתמשים פנימיים בתשתית(מהארגון בו ממוקמת התשתית)מספר משתמשים חיצוניים מהמדינה(שאינם ן מהארגון בו ממוקמת ההתשתית)א. משתמשים חיצוניים ממהאקדמיהמהתעשייהב. משתמשים חיצוניים מארגוניםג. משתמשים חיצוניים ממשלתיים/ציבורייםמספר משתמשים חיצוניים מחו"לסה"כ ממשתמשים בתשתית (סיכוםבתשתיתהווירטואליים מספר המשתמשים מספר הדוקטורנטים שהסתייעו בתשתית******לכל קבוצת מחקר 1-3 סטודנטים ומהנדסים באופן מממוצע המשתמשיםבמעבדה**לכל חברה משתמש עד שנייםעבודהמהנדסי תהליך ולא עושים***כולל סטודנטים שנעזרים בעבודת בעצמם בתשתית.מדיניות גישה ללמשתמשים: נדרש תשלום עבור גישהקביעתמערכת למשתמשים חיצוניים ופנימיים. למעבדהכל משתמש מורשה, פנימי או חיצוני יכולתוריםמקום פנוי.בסיסלהירשם למערכת . קביעת התורים היא עלפנימיים מקבלים מחיר מסובסד לשימוש בתשתית.משתמשיםהתארגנות ובנייתחיצוניים חייבהלמשתמשים פתיחת המעבדה מערך שירות ייעודי. המשתמשים מהתעשייה יכולים לעבורעבודהבכוחות עצמם , או להזמין ולהשתמש במעבדה הכשרהבאמצעות מהנדסי תהליך מיומנים.,9:(20093220קבוצות*חברות*4 מוסדות15 חברות10900~85סעיפים 2-4).on‐line.1.2.3.4*תאור תשתית המחקר:של שירותי ייצור ואפיון בבאוניברסיטת ת"א כוללתהתשתיתמגוון התהליכים הנפוצים במיקרו וננו ייצור. החלאת כל מייצור מסכות ליטוגרפיה, ליטוגרפיה אופטית וואלקטרונית,מערכות דדפוזיציה, מערכות איכול יבש ורטוב, תהליכי אריזהותהליכי אאפיון.מתקנים עיקריים בתשתית ועלותם:מוצב ציוד מחקר מדעי/טכנולוגי שעלותו מעלבתשתיתאם כי לא בפריט ציוד בודד.עלותבדולריםפרוט מרכיבי התשתית העיקריים10DRIE500,000PECVD300,000Laser writer450,000e‐beam lithography1,200,000e‐beam evapor<strong>at</strong>orss450,000Nano imprinting lithography600,000Interferometric moving stage FIB 1,000,000Raith 150 Ultra U High Precision E‐Beam Lithographyand Metrology SystemNano Imprinting Litography SUSS FC‐150 NILLמיליון ₪,מימון ושיתופי פפעולה: מקורות המימון המרכזיים לשלבהמחקר היו משאבים פנימיים שלשל תשתית ההקמה הראשוני הסכום הממוצע שלממשלתי.תשתית המחקר ומימון מתקציבנע בין מיליוןהמחקר לשנהשל תשתית הוצאות התפעול ממומן באמצעות התשלום שלש"ח. כ-80% מתפעול התשתיתפעולההתקיימו הסכמי שיתוף המשתמשים בתשתית. לאהשנים האחרונות.בארץ בחמש ושותפויות עם ארגונים אחרים 5-1,:גם באוניברסיטאות אחרות וחלקו ייחודיחלק מהציוד נמצאהשדרוג האחרון בתשתית נערך בשניםלמרכז.במסגרת היוזמה הלאומית הישראלית ו לננו טכנולוגיהשישה מיליון דולר.בעלות שלתרומת התשתית: לטענת מנהלי התשתית, התשתית הקיימתית ברמה הגבוההפעילות מחקרבאוניברסיטה מאפשרתכיום בגבוליתמצוקת תקציב, הציוד סובל מרמת תחזוקה ביותר. בשלבתחרותיות שלשגורמת לעיכובי זמן. התוצאה היא ירידהלסטודנטים להתקדם במחקר.משך הזמן שלוקחהמחקר, בשלחברות ישראליות שלא משתמשות בתשתית בארץ נאלצותעלויות מחיר, איבודהדבר גורר להשתמש בתשתיות בחו"ל.ידע, בבזבוז זמן ובסה"כ אובדן תתחרותיות.2010‐2007INNI
Change language