Physical Sciences and Engineering39ׂ) מכון לננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים, אוניברסיטת בר-אילןשדרוג התשתיתתאור השדרוג המתוכנן:Rutherford Backsc<strong>at</strong>tering Spectrometry system (RBS)applies an exceptional technique to chemically analyzesurface layers in three dimensions, leaving samplesunharmed. The RBS is unique in its ability to providemicron scale depth analysis in nanometric resolution.תרומת השדרוג המתוכנן: השדרוג ישמש הן חוקריםאקדמיים והן יחידות מחקר ופיתוח בתעשייה הכלליתובתעשייה הביטחונית. קשה להעריך כרגע את המשמעותהכלכלית שתצמח מכך, אולם בהיבט המחקרי, זהו כליחשוב ביותר שיפתח אפשרויות חדשות למחקרים בארץ.ניתן לבצע את המחקר, הנעשה בתשתית זו באופן חלקי,בארץ, באמצעות ציוד הקיים בתשתיות מחקר אחרות.במכוני מחקר בעולם ישנן מספר מערכותRBS.RBSעלויות שדרוג התשתית ותפעולה: עלות מכשיר ה-היא דולר. אחוז התפעול של התשתית שמכוסהעל-ידי המשתמשים עדיין לא ברור.1,044,133מקורות המימון לקניית מכשיר ה-RBS הם כספי ממשלה(ות"ת) ומקורות פנימיים של המוסד (תרומות).לוח זמנים לשדרוג התשתיתבסוף:.2011המכשיר אמור להיות פעילבראש התשתית עומד פרופ' אריה צבן. נתונים לגבי תשתיתהמחקר ושדרוגה התקבלו מד"ר אורית חסיד, מנהלתאדמינסרטיבית וכספית של התשתית.אתר התשתית:http://www.nano.biu.ac.ilכתובת התשתית: המכון לננו טכנולוגיה, אוניברסיטת בר-אילן,רמת גן.
40) מרכז מחקר מיקרו-ננו אלקטרוניקה בטכניוןתשתית קיימתתאור תשתית המחקר:המרכז מתפקד כתשתית לאומית למיקרו-ננו פבריקציהלטובת מחקר ופיתוח בנושאי אלקטרוניקה, חומרים,ביולוגיה וכו'. זהו מתקן לפיתוח והדגמה של ייצור התקניםזעירים (חדרים נקיים, בדומה ל- לייצור צ'יפים).בחדרים הנקיים במרכז מתקיים פיתוח אבי טיפוס זעירים עלידי חוקרים מהטכניון, מחברות תעשייתיות וממוסדותאחרים. הפיתוח הנ"ל נשען על המגוון הרחב של הכליםוצוות המהנדסים המיומן אשר תומך באינטגרציה של יכולותלטובת בניית תהליך מלא לייצור אב טיפוס.מתקנים עיקריים בתשתית ועלותם:Physical Sciences and EngineeringFABבתשתית מוצב ציוד מחקר מדעי/טכנולוגי שעלותו מעלמיליון ש"ח, אם כי לא בפריט ציוד בודד.עלות בדולריםפרוט מרכיבי התשתית העיקריים10Oxid<strong>at</strong>ion FurnacesElectron Beam LithographyThin Film Deposition systemsOptical Lithography tools/stepperDeep Reactive Ion Etching, 2009 שכלל(Etching)1.7M$1.5M$1.2M$1.2M$1.0M$רכישת ארבעההתשתית עברה שדרוג בשנתמכשירים לליטוגרפיה ואיכול בסכום של מיליוןדולר. כמו כן, ב-2007 נבנה בניין עם תשתית עדכניתלתהליכי ייצור של התקנים במימדי ננו. השטח הכולל שלהחדרים הנקיים כ-700 מ"ר.3משתמשים בתשתית ומדיניות גישה למשתמשים:מספר המשתמשים בתשתית בשנה (לפי נתוני שנת 2009):מדיניות גישה למשתמשים: נדרש תשלום עבור גישהלמשתמשים חיצוניים ופנימיים. חוקרים חיצוניים נדרשים לעבורהכשרה לשימוש בציוד. כמו כן, הם נדרשים לתקציב גיבוילתשלום עבור השימוש בציוד. קיים ליווי והדרכה של מהנדסיהציוד. הדבר תקף לגבי חוקרים פנימיים וחיצוניים.מימון ושיתופי פעולה: מקורות המימון המרכזיים לשלבההקמה הראשוני של תשתית המחקר החדשה במרכז ננואלקטרוניקה היו: תרומה של האחים זיסאפל, תקציב המכון לננוטכנולוגיה ע"ש ראסל ברי, תקציב הטכניון, משרד המדעותוכנית מגנ"ט. הסכום הממוצע הכולל של הוצאות התפעול שלתשתית המחקר בשני המרכזים לשנה הוא מליון ש"ח. כ-מתפעול התשתית ממומן באמצעות התשלום שלהמשתמשים בתשתית ו-25% ממשאבים פנימיים.2.775%שיתופי פעולה של התשתית בארץ התקיימו במסגרת תוכניתמגנ"ט. שיתופי פעולה עם האקדמיה בארץ נעשו בעיקר כעבודתשירות או כמחקר משותף עם אחד החוקרים הפנימיים. שיתופיפעולה של התשתית בחו"ל מתקיימים במסגרת התוכניות למו"פשל האיחוד האירופאי וחילופי פוסט דוקטורנטים. הסכוםהמתקבל משיתופי פעולה בינלאומיים, בממוצע לשנה הוא מעלמליון ש"ח. המקורות המרכזיים למימון הפעילויות של שיתופיפעולה בינלאומיים הם תקציב ממשלת ישראל ומימון ממשלתימחו"ל.תרומת התשתית: המחקר בתשתית הינו ברמה המתקדמתביותר הקיימת בתחום בעולם. הושקע (ויושקע) מאמץ רבבבניית התשתית ובצוות המקצועי כך שהמרכז משמש בפועלכתשתית לאומית מתקדמת מסוגה בארץ. בזכות תשתיתהמיקרואלקטרוניקה מוטורולה וחברות אחרות (לדוגמה, חברתהקימו מתקנים בישראל על בסיס מהנדסיםשחונכו בפקולטה להנדסת חשמל ובמרכז למיקרו אלקטרוניקה.ננו טכנולוגיה הוא תחום חדש ומתפתח. ללא ננו פבריקציה, לאאינטל, (IBMניתן לממש התקנים בממדי ננו ולכן אין ספק שהמרכז ימשיךלספק את המנוע האנושי לתעשייה המתקדמת.הנתונים לגבי תשתית המחקר התקבלו מפרופ' יוסף זלצמןופרופ' ניר טסלר.אתר אינטרנט:http://eewebt.technion.ac.il/LABS1/MicroElectronics/קריתחשמל, להנדסת הפקולטה התשתית: כתובת חיפה32000הטכניון,18 . 135 . 2.3צוות מדעי/הנדסי קבוע: שהפעיל אתתשתית המחקרמספר משתמשים פנימיים בתשתית(מהארגון בו ממוקמת התשתית)מספר משתמשים חיצוניים מהמדינה(שאינם מהארגון בו ממוקמת התשתית)א. משתמשים חיצוניים מהאקדמיה 3ב. משתמשים חיצוניים מהתעשייה 16ג. משתמשים חיצוניים מארגוניםממשלתיים/ציבוריים.4מספר משתמשים חיצוניים מחו"לסה 54"כ משתמשים בתשתית (סיכום סעיפים 2-4)מספר המשתמשים הווירטואליים בתשתיתמספר הדוקטורנטים שהסתייעו בתשתית 22
Change language