Magnetotelúrico e Eletromagnético Transiente - CPRM
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Log (resistividade aparente (ohm m))<br />
100000<br />
FASE XY<br />
10000<br />
1000<br />
100<br />
10<br />
1<br />
Estação jc04- resistividade aparente- PXY<br />
1E-3 0.01 0.1 1 10 100<br />
90<br />
75<br />
60<br />
45<br />
30<br />
15<br />
0<br />
-15<br />
-30<br />
-45<br />
-60<br />
-75<br />
Log (periodo (s))<br />
Estação jc04- fase- PH XY<br />
-90<br />
1E-3 0.01 0.1 1 10 100<br />
Log (periodo (s))<br />
MQ<br />
R<br />
MQ<br />
P<br />
Log (resistividade aparente (ohm m))<br />
100000<br />
Fase yx<br />
10000<br />
1000<br />
100<br />
10<br />
1<br />
90<br />
75<br />
60<br />
45<br />
30<br />
15<br />
-15<br />
-30<br />
-45<br />
-60<br />
-75<br />
Estação jc04- resistividade aparente- PYX<br />
1E-3 0.01 0.1 1 10 100<br />
0<br />
Log (periodo (s))<br />
Estação jc04- fase - PH YX<br />
-90<br />
1E-3 0.01 0.1 1 10 100<br />
Log (periodo (s))<br />
Figura A-4 – Comparação entre processamento robusto (R) e mínimos quadrados (MQ), perfil Jaicós (estação 4).<br />
MQ<br />
R<br />
MQ<br />
R<br />
103
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