YMF18 özet kitapçığı - Department of Physics

More documents

Recommendations

Info

18. Yoğun Madde Fiziği – Ankara Toplantısı, Orta Doğu Teknik Üniversitesi, 25 Kasım 2011P84Görünür bölge dielektrik aynalarG. Gündoğdu ve Ö. D. CoşkunHacettepe Üniversitesi, Fizik Mühendisliği Bölümü, Ankara, TürkiyeBu çalıĢmada yüksek indisli malzeme olarak TiO 2 , düĢük indisli malzeme olarak da SiO 2 incefilmler kullanılarak elektromagnetik spektrumun görünür bölgesi ve yakın IR bölgesi içindielektrik aynalar tasarlanmıĢ, tasarlanmıĢ olan dielektrik aynalardan bir kaçı HacettepeÜniversitesi, Fizik Mühendisliği Bölümü, Ġnce Film Hazırlama ve KarakterizasyonLaboratuvarı‟nda bulunan RF magnetron kopartma sistemi kullanılarak hazırlanmıĢtır.Öncelikle bireysel film malzemeleri hazırlanarak optik karakterizasyonları yapılmıĢtır. Her ikimalzeme içinde uygun çalıĢma koĢulları belirlenmiĢtir. HazırlanmıĢ olan filmlerin 350-1100nm dalga boyu aralığında s ve p polarizasyon optik geçirgenlik ve optik yansıtma ölçümlerilaboratuvarımızda buluna nkd-8000e Aquila spektr<strong>of</strong>otometre kullanılarak alınmıĢtır.HazırlanmıĢ olan filmlerin enerji band aralıkları hesaplanmıĢtır. Matlab ve TFC optik tasarımprogramı kullanılarak, görünür bölge için λ/4 kalınlıklı katmanlardan oluĢan optik kaplamalartasarlanmıĢtır. ġekil 1 ve ġekil 2‟de sırası ile görünür bölge için tasarlanmıĢ 7 katlı ve 11 katlıoptik kaplamanın dalga boyuna bağlı optik yansıtma grafikleri görülmektedir. ġekil 3‟de iseyakın IR bölgesi için tasarlanmıĢ 7 katlı optik kaplamanın dalga boyuna bağlı optik yansıtmagrafikleri görülmektedir. YapılmıĢ olan tasarımlar ile deneysel çalıĢma sonuçları çok iyi birĢekilde uyuĢmaktadır.Şekil 1. TasarlanmıĢ olan 7 katlı dielektrik aynanın S/(HL)^3 H/Adalga boyuna bağlı olarak yansıtma değiĢimi. S:AlttaĢ-Mikroskopcamı, H:TiO 2 , L: SiO 2 , A:Hava.Şekil 2. TasarlanmıĢ olan 11 katlı dielektrik aynanın S/(HL)^5 H/A dalga boyuna bağlı olarak yansıtmadeğiĢimi. S:AlttaĢ-Mikroskop camı, H:TiO 2 , L: SiO 2 , A:Hava.ġekil 3. TasarlanmıĢ olan 7 katlı dielektrik Yakın kızılaltı bölgesi için aynanın S/(HL)^3 H/A dalga boyuna bağlıolarak yansıtma değiĢimi. S:AlttaĢ-Mikroskop camı, H:TiO 2 , L: SiO 2 , A:Hava.116
18. Yoğun Madde Fiziği – Ankara Toplantısı, Orta Doğu Teknik Üniversitesi, 25 Kasım 2011Tavlamanın Nb 2 O 5 ince filmlerin optik ve yapısal özellikleri üzerindeki etkisiM. Yeşiltepe a,b , Ö. D. Coşkun ba Hacettepe Üniversitesi, Nanoteknoloji ve Nanotıp, Ankara, Türkiyeb Hacettepe Üniversitesi, Fizik Mühendisliği Bölümü, Ankara, TürkiyeP85Nb 2 O 5 ince filmler yüksek kırılma indisleri, üstün kimyasal kararlılığı ve korozyon direncigibi özelliklerinin sonucu olarak pek çok modern teknoloji uygulamalarına sahiptir ve yaygınolarak optik giriĢim filtreleri, elektrokromik filmler ve gaz sensör malzemeleri gibiuygulamalarda kullanılırlar. Ġnce filmlerin büyütme koĢullarına bağlı olarak, farklı optik veyapısal özellikler kazanmaları sağlanabilir. Aynı Ģekilde, büyütme iĢleminden sonrauygulanan ısısal tavlama iĢlemi ile filmin kristal yapısının değiĢmesine bağlı olarak optikgeçirgenlik, yansıtma, enerji bant aralığı, soğurma ve saçılma gibi özelliklerinde dedeğiĢimler meydana gelmektedir. Oda sıcaklığında büyütülen amorf Nb 2 O 5 ince filmler sahipoldukları yüksek optik geçirgenlikleri ile pek çok optik filtrelerde kullanılabilmektedirler;ancak elektrokromik uygulamaları için iyonların kristal yapıyla etkileĢmeleri daha kolayolduğundan bu tip uygulamalar için kristal yapı daha avantajlıdır.Bu çalıĢmada Nb 2 O 5 ince filmler, Hacettepe Üniversitesi Fizik mühendisliği bölümü ĠnceFilm Ölçüm ve Karakterizasyon laboratuarında bulunan, RF magnetron kopartma tekniğikullanılarak, oda sıcaklığında hazırlanmıĢtır. s ve p polarizasyon optik geçirgenlik veyansıtma ölçümleri, nkd-8000e Aquila spektr<strong>of</strong>otometre kullanılarak 350–1100 nm dalgaboyu aralığında alınmıĢtır. HazırlanmıĢ olan filmlerin dalga boyuna bağlı olarak kırma indisive soğurma sabiti değiĢimleri, optik ölçümlerinin Code V optik karakterizasyon programıkullanılarak, Kim osilatör modeli [1] ile uyuĢumu iĢlemi sonucunda elde edilmiĢtir. Filmlerinkristal yapı analizleri, yüzey pürüzlülükleri ve elementel analizleri de sırası ile, Rigaku D-maxB yatay difraktometre, Nano Magnetics Instruments AFM ve XPS kullanılarak yapılmıĢtır.Daha sonra, aynı film 24 saat süresince 700 C' de tavlanmıĢ, aynı ölçümler tekrarlanarak odasıcaklığında hazırlanan film ile tavlanmıĢ olan filmin yapısal ve optik özelliklerikarĢılaĢtırılmıĢtır.Referans:[1] C. C. Kim, J. W. Garland, H. Abad, and P. M. Raccah, Phys. Rev. B 45 (20) 1992, 11749–11767.117
Page 1 and 2:
18. Yoğun Madde Fiziği - Ankara T
Page 3 and 4:
Page 5:
Page 8 and 9:
Page 10 and 11:
Page 12 and 13:
Page 14 and 15:
Page 16 and 17:
Page 18 and 19:
Page 20 and 21:
Page 22 and 23:
Page 24 and 25:
Page 26 and 27:
Page 28 and 29:
Page 30 and 31:
Page 32 and 33:
Page 34 and 35:
Page 36 and 37:
Page 38 and 39:
Page 40 and 41:
Page 42 and 43:
Page 44 and 45:
Page 46 and 47:
Page 48 and 49:
Page 50 and 51:
Page 52 and 53:
Page 54 and 55:
Page 56 and 57:
Page 58 and 59:
Page 60 and 61:
Page 62 and 63:
Page 64 and 65:
Page 66 and 67: 18. Yoğun Madde Fiziği - Ankara T
Page 154: 18. Yoğun Madde Fiziği - Ankara T
show all

YMF18 özet kitapçığı - Department of Physics

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

Delete template?

Save as template?