20.09.2013 Aufrufe

reverse-engineering von logik-gattern in integrierten ... - Degate

reverse-engineering von logik-gattern in integrierten ... - Degate

reverse-engineering von logik-gattern in integrierten ... - Degate

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Sie wollen auch ein ePaper? Erhöhen Sie die Reichweite Ihrer Titel.

YUMPU macht aus Druck-PDFs automatisch weboptimierte ePaper, die Google liebt.

6 Analyse <strong>von</strong> Integrierten Schaltkreisen an-<br />

hand <strong>von</strong> Bilddaten<br />

Dieses Kapitel soll sich der Fragestellung widmen, was anhand der Bilddaten zu er-<br />

kennen ist. Es soll dargestellt werden, wie man bei vergleichsweise e<strong>in</strong>fachen Schalt-<br />

kreisen, etwa Chips vom Typ Mifare Classic, <strong>in</strong> Hardware umgesetzte Algorithmen<br />

f<strong>in</strong>det.<br />

Für e<strong>in</strong>e detaillierte E<strong>in</strong>führung <strong>in</strong> die CMOS-Technik seien die e<strong>in</strong>leitenden Kapitel<br />

aus dem Buch „CMOS VLSI Design“ empfohlen. [WH05] Das Buch erklärt anschau-<br />

lich, wie CMOS-Techologie funktioniert und wie Designs erstellt und <strong>in</strong> Hardware<br />

umgesetzt werden. Die Darstellung hier fasst die wesentlichen Punkte aus der Sicht<br />

des Reverse-Eng<strong>in</strong>eer<strong>in</strong>gs zusammen.<br />

6.1 Feldeffekt-Transistoren<br />

Feldeffekt-Transistoren (FET) s<strong>in</strong>d Halbleiterbauste<strong>in</strong>e, die <strong>in</strong> Logikschaltkreisen als<br />

elektronische Schalter dienen. Abbildung 6.1 zeigt den Aufbau beider Typen auf e<strong>in</strong>em<br />

geme<strong>in</strong>samen Substrat.<br />

Source Gate Dra<strong>in</strong><br />

Source Gate Dra<strong>in</strong><br />

SiO2<br />

n+ n+ p+ p+<br />

p-Substrat (Si)<br />

n-Wanne<br />

n-Kanal-FET p-Kanal-FET<br />

Abbildung 6.1: n-Kanal- und p-Kanal-FET auf e<strong>in</strong>em geme<strong>in</strong>samen Substrat<br />

Deren Funktionsweise besteht vere<strong>in</strong>facht dargestellt dar<strong>in</strong>, dass durch Anlegen e<strong>in</strong>er<br />

Steuerspannung am Gate, die Region unter dem Gate an Ladungsträgern verarmt oder<br />

mit Ladungsträgern angereichert wird. Wenn genug Ladungsträger unter dem Gate-<br />

Anschluss vorhanden s<strong>in</strong>d, entsteht e<strong>in</strong> elektrisch leitender Kanal zwischen den An-<br />

schlüssen Source und Dra<strong>in</strong>. Zwei Typen <strong>von</strong> Feldeffekt-Transistoren unterscheidet<br />

man nach Art der Ladungsträger.<br />

Mart<strong>in</strong> Schobert 19

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!