estudio y caracterización de un plasma de microondas a presión ...
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Capítulo 4<br />
Las figuras 4.9, 4.10 y 4.11 muestran gráficas <strong>de</strong> la <strong>de</strong>pen<strong>de</strong>ncia <strong>de</strong> la <strong>de</strong>strucción<br />
<strong>de</strong> tetracloruro <strong>de</strong> carbono con la potencia, el caudal <strong>de</strong> gas plasmógeno y la<br />
concentración <strong>de</strong> residuo introducido, analizando las muestras tomadas directamente <strong>de</strong>l<br />
interior <strong>de</strong>l reactor. Estos datos fueron tomados para <strong>un</strong> <strong>plasma</strong> <strong>de</strong> argón circ<strong>un</strong>dado <strong>de</strong><br />
<strong>un</strong>a atmósfera <strong>de</strong> helio. La p<strong>un</strong>ta empleada fue <strong>de</strong> 0,8 mm <strong>de</strong> diámetro interno. Se<br />
representa el porcentaje <strong>de</strong> residuo eliminado (%DRE) frente a potencia, caudal y<br />
concentración respectivamente. La figura 4.9 pone <strong>de</strong> manifiesto que el incremento <strong>de</strong><br />
potencia <strong>de</strong> <strong>microondas</strong> implica <strong>un</strong>a mejora muy mo<strong>de</strong>rada en el porcentaje <strong>de</strong><br />
<strong>de</strong>strucción, así como la variación provocada por emplear tres concentraciones diferentes<br />
para el mismo intervalo <strong>de</strong> potencias. En la figura 4.10 pue<strong>de</strong> verse la influencia <strong>de</strong>l<br />
flujo <strong>de</strong> gas principal en el porcentaje <strong>de</strong> <strong>de</strong>strucción, graficado para tres valores <strong>de</strong><br />
potencia <strong>de</strong> <strong>microondas</strong> diferentes. Y en la figura 4.11 se han fijado los valores <strong>de</strong> flujo<br />
<strong>de</strong> gas y potencia aplicada para apreciar más claramente el efecto producido por el<br />
incremento <strong>de</strong> la concentración <strong>de</strong> residuo en el gas plasmógeno.<br />
% DRE<br />
100,0000<br />
99,9998<br />
99,9996<br />
99,9994<br />
99,9992<br />
Pot.: 1000 W<br />
Pot.: 600 W<br />
Pot.: 300 W<br />
Conc.: 0,1 % <strong>de</strong> CCl 4<br />
0,25 0,50 0,75 1,00 1,25 1,50 1,75 2,00 2,25 2,50<br />
Flujo total (L/min)<br />
Figura 4.10: Correspon<strong>de</strong> a la <strong>de</strong>pen<strong>de</strong>ncia <strong>de</strong>l porcentaje <strong>de</strong> <strong>de</strong>strucción <strong>de</strong> tetracloruro <strong>de</strong><br />
carbono con el flujo <strong>de</strong> gas plasmógeno, representado para tres valores <strong>de</strong> potencia aplicada.<br />
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