Capítulo 6 results obtained in previous works, where it was fo<strong>un</strong>d that DRE increases with higher concentrations of introduced pollutants [21, 22]. Figure 6.11 shows that in the case of the vibrational temperature, a <strong>de</strong>creasing behaviour with increasing concentration of residue introduced. Figure 6.12 represents an axial and radial distribution of CN for the four tested concentration levels. There is an increase in <strong>plasma</strong> volume when an increasing concentration is introduced such that the microwave energy is distributed in a larger volume, <strong>de</strong>creasing the electronic and vibrational temperature. Vibrational Temperature (K) 16000 Vibrational Temperature Helium Plasma 14000 600W, 1,5L/min, CCl4 0 ppm 10 ppm 12000 100 ppm 1000 ppm 10000 10000 ppm 8000 6000 4000 0 5 10 15 20 25 Axial position (mm) Figure 6.11: Axial distribution of vibrational temperature in a helium <strong>plasma</strong> for four concentrations and the situation with no residue. 161
Distribución <strong>de</strong> temperaturas y especies Axial Position (mm) Axial Position (mm) Figure 6.12: Radial and axial distribution of CN in the helium <strong>plasma</strong> with 600 W and 1.5 L / min for four different concentrations of carbon tetrachlori<strong>de</strong>. 162 35 30 25 20 15 10 5 35 30 25 20 15 10 5 CN 1.5 L/min, 600 W, 1000 ppm CCl 4 CN 1.5 L/min, 600 W, 10 ppm CCl 4 I (a.u.) -1,5 -1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0 1,5 Radial Position (mm) I (a.u.) -1,5 -1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0 1,5 Radial Position (mm) 0 250,0 500,0 750,0 1000 1250 1500 1750 2000 2250 2500 2750 3000 3250 3500 3750 4000 0 75,00 150,0 225,0 300,0 375,0 450,0 525,0 600,0 675,0 750,0 825,0 900,0 975,0 1050 1125 1200 Axial Position (mm) Axial Position (mm) 35 30 25 20 15 10 5 35 30 25 20 15 10 5 1.5 L/min, 600 W, 100 ppm CCl 4 CN 1.5 L/min, 600 W, 10000 ppm CCl 4 I (a.u.) CN I (a.u.) -1,5 -1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0 1,5 Radial Position (mm) -1,5 -1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0 1,5 Radial Position (mm) 0 75,00 150,0 225,0 300,0 375,0 450,0 525,0 600,0 675,0 750,0 825,0 900,0 975,0 1050 1125 1200 0 75,00 150,0 225,0 300,0 375,0 450,0 525,0 600,0 675,0 750,0 825,0 900,0 975,0 1050 1125 1200
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[23] B.M. Penetrante, et al.: Plasm
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3.2.2. Sample insertion Capítulo 3
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Capítulo 3 Figure 3.4: Variation o
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Capítulo 3 Figure 3.10 shows some
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3.4. Conclusions Capítulo 3 The pr
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