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Figura 5.16. Porosidad obtenida a diferentes intensidades de proyeccion Fig.5.10. Imagen obtenida mediante microscopia óptica de sección transversal de un recubrimiento nanométrico proyectado con una intensidad de 675 A. La figura 5.11 muestra un recubrimiento nanométrico obtenido con una intensidad de 725 A considerada alta intensidad dentro de las intensidades utilizadas en este caso para la proyeccion de los recubrimientos, este recubrimiento se puede ver una mejor adherencia entre splats y notablemente al sustrato, además de una porosidad menor que los recubrimientos de 475 A, los poros son más grandes y aislados, por lo tanto reduce también la presencia de grietas en el recubrimiento.
FFig.5.11. Imagen microscopia optica de seccion transversal de un recubrimiento nanometrico proyectado con una intensidad de 725 A. En la imagen 5.12a se puede observar que el espesor aproximado de los recubrimientos es 150 - 200 m. Mediante SEM También se ha podido observar que en los recubrimientos nanométricos los granos de WC son más pequeños. En la figura 5.12b, se muestra la imagen SEM de un recubrimiento donde se indican las fases detectadas por DRX (granos de WC, W2C y W) y áreas de una matriz rica en cobalto con distintos grados de disolución de W. Los granos de cobalto son fundidos durante el proceso de proyección, seguido de la disolución de algunos granos de WC dentro del metal líquido [13]. Los granos de WC son localizados dentro de los splats donde la temperatura de proyección no fue lo suficientemente alta para disolver los granos. Las fases W y W2C fueron identificadas alrededor de los granos de WC.
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