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INTRODUCTION AUX MICRO ONDES

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• Cet appel d'électrons avant le pincement entraîne une diminution de leur<br />

densité après le pincement.<br />

• Près du drain, l'amplitude du champ électrique diminuant, la vitesse de dérive<br />

des électrons repasse par une valeur pic avant de chuter brutalement au<br />

voisinage du drain.<br />

Malgré ce fonctionnement plus complexe, les MESFET en GaAs ou en InP, à<br />

cause de leur grille très étroite, présentent des tensions de fonctionnement (donc des<br />

puissances consommées) faibles, et des fréquences de coupure qui peuvent<br />

atteindre les 100 GHz. Ils sont principalement utilisés dans l'amplification très haute<br />

fréquence et faible bruit ainsi que pour les logiques ultra-rapides.<br />

Figure III-4 : Structure d'un MESFET (longueur de grille L et d'épaisseur de<br />

canal d).<br />

La tension de seuil VT, d'un MESFET est égale à :<br />

2<br />

qNdd<br />

VT<br />

= φi<br />

−<br />

2ε<br />

s<br />

où φ i est le potentiel interne et d l'épaisseur de la région dopée. Cette tension seuil<br />

peut également être écrite en fonction de la tension de pincement V P :<br />

V = φ − V<br />

T<br />

i<br />

p<br />

avec :<br />

2<br />

qNdd<br />

Vp<br />

=<br />

2ε<br />

s<br />

Considérons une petite section du MESFET comprise entre y et y + dy. La densité de<br />

courant en ce point peut être écrite en fonction du gradient de la tension du canal :<br />

dVc<br />

( y)<br />

J = qnv = qNdμ<br />

n ∈= −qNdμ<br />

n<br />

dy<br />

Le courant de drain vaut :<br />

= −JW<br />

( d − x ( y))<br />

I D<br />

n<br />

La largeur de la couche à la position y est liée à la tension de canal VC (y), par :<br />

xn<br />

( y)<br />

=<br />

2ε<br />

s ( φi<br />

−VG<br />

+ Vc<br />

( y)<br />

)<br />

qN<br />

d

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