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I Congresso de Iniciação Científica e Pós-Graduação –Florianópolis (SC) –setembro 2010
TRATAMENTO DUPLEX: NITRETAÇÃO A PLASMA SEGUIDO
POR DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE TiN e TiC 1
Tratamento duplex: nitretação a plasma seguido
por deposição de revestimento de Ti-Al-V-N
Abel André Cândido Recco 2 , Giorgio Ernesto Testoni 3 , Luís César Fontana 4 , Milton José Cinelli 5
Palavras-chave: tratamento duplex, nitretação a plasma, filme fino.
A obtenção de revestimentos de filmes finos sobre substratos metálicos é técnica bastante
usual para o aumento da resistência ao desgaste de ferramentas. O fator determinante da vida útil
equipamentos está associado à falhas adesivas na interface entre o filme fino e o substrato. Estas falhas
de adesão estão associadas a uma transição abrupta de propriedades mecânicas na interface entre o
filme e o substrato, relacionado principalmente a alta dureza do filme em relação a dureza do aço
utilizado como material do substrato. Neste trabalho foram realizadas deposições de filme de Ti-Al-V-
N com espessura de 2,0 µm por Triodo Magnetron Sputtering (TMS) em amostras de aço AISI H13
nitretadas a plasma, com um gradiente temperatura de 330 °C a 570 °C, a fim de estudar a aderência
do filme no substrato. A nitretação a plasma foi realizada durante 3 horas com mistura gasosa 20%N 2 -
80%H 2 . As camadas de nitretos formadas foram analisadas por microscopia óptica, e microdureza
Vickers. A aderência foi avaliada utilizando o ensaio qualitativo de adesão Rockwell-C conforme
norma CEN/TS 1071-8 .
1 Projeto de Pesquisa - N o 993/2009 – CCT-UDESC
2 Orientador, Professor do Departamento de Física CCT-UDESC – dfi2aacr@joinville.udesc.br
3 Acadêmico do Curso de Licenciatura em Física CCT-UDESC, bolsista de iniciação científica
PROBIC/UDESC.
4 Coordenador do Laboratório de Física de Plasma, Departamento de Física CCT-UDESC.
5 Professor do Departamento de Física CCT-UDESC