Mikrosenzory a mikromechanickÃƒÂ© systÃƒÂ©my - VysokÃƒÂ© uÃ„ÂenÃƒÂ technickÃƒÂ© ...

More documents

Recommendations

Info

<strong>Mikrosenzory</strong> a mikromechanické systémy 33Obrázek 4.14:Příklad vytvoření tenkovrstvého odporuHodnoty rezistorů se navrhují podle hodnoty stanovené na čtverec, tj. odpor na čtverecse vypočte podle měrného odporu deponovaného materiálu a jeho tloušťky:R□ = ρtloušt' ka[Ω/□], ( 4.2 )Je zřejmé, že nezáleží na velikosti čtverce, hodnotu celkového odporu určuje početčtverců. Potvrzuje se, že určujícím parametrem pro vytvoření přesného odporu je tloušťkamateriálu. Protože pracujeme s tloušťkami v několika desítek či stovek nm a víme, žetechnologické vybavení umožňuje poměrně velkou odchylku od požadované tloušťky, jezřejmé, proč je tak obtížné vyrobit přesný odpor tenkovrstvou technologií.4.4.2 Selektivní leptáníTato technika umožní vytvoření motivů za využití masky a chemicko-fyzikálníchprincipů roztoků a materiálů. Masku tvoří většinou fotorezist, který je polymerizovánelektronovou litografií, nepolymerizované části jsou rozpuštěny a odplaveny. Do polovodičůlze tak vytvářet díry (jámy), které získávají směrem do hloubky tvar určený orientací
34 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brněkrystalové mříže materiálu (Obrázek 4.15). Anizotropní leptání umožňuje rychlé leptáníjedním směrem krystalové mřížky a je převážně využívána u technologie, která potřebuje obatypy vodivosti. Základem je substrát většinou s vodivostí typu N. Do vytvořených jam lzeepitaxně deponovat polovodič typu P. Tímto leptáním lze vytvářet také velmi tenkémembrány pro využití u senzorů tlaku, plynů, teploty apod. Byly vyvinuty také techniky,které elektrochemickou cestou za pomocí UV záření mohou do křemíkové substrátu vytvořitmikropóry s pravidelným rozmístěním bez použití masky. Toto pravidelné rozmístění je dánokrystalovou strukturou křemíku.Obrázek 4.15:Příklad leptání jámy do Si za použití masky
Page 4 and 5: DESCRIPTIONSafety FittingsIt is not
Page 6 and 7: Mikrosenzory a mikromechanické sys
Page 8: Mikrosenzory a mikromechanické sys
Page 11 and 12: 8 Fakulta elektrotechniky a komunik
Page 86 and 87:
Mikrosenzory a mikromechanické sys
Page 88 and 89:
Page 90 and 91:
Page 92 and 93:
Page 94 and 95:
Page 96 and 97:
Page 98 and 99:
Page 100 and 101:
Page 102 and 103:
Page 104 and 105:
Page 106:
show all

Mikrosenzory a mikromechanickÃƒÂ© systÃƒÂ©my - VysokÃƒÂ© uÃ„ÂenÃƒÂ­ technickÃƒÂ© ...

Create successful ePaper yourself

Delete template?

Save as template?

Mikrosenzory a mikromechanickÃƒÂ© systÃƒÂ©my - VysokÃƒÂ© uÃ„ÂenÃƒÂ technickÃƒÂ© ...