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LINDE TECHNOLOGY - Linde Engineering

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<strong>LINDE</strong> <strong>TECHNOLOGY</strong> #1.13 // Multimedia<br />

14<br />

aus Oxiden der Metalle Indium, Gallium und Zink. Die Kosten bewegen<br />

sich im Rahmen der herkömmlichen Silizium-Transistoren – aber<br />

die Leistung des Materials ist deutlich besser.<br />

Allerdings zieht der Materialwechsel weitere Veränderungen<br />

nach sich. „Die Herausforderung bei der Flachbildschirm-Produktion<br />

ist neben der geringen Größe der Transistoren<br />

Lachgas für<br />

die nächste<br />

Transistoren-<br />

Generation.<br />

auch die große Fläche“, sagt Weisheit. Die Schaltelemente<br />

selbst sind etwa einen Zehntel Millimeter<br />

groß. Die Kunst besteht darin, Millionen von<br />

qualitativ hochwertigen Dünnschicht-Transistoren<br />

gleichmäßig auf Glasplatten mit einer Fläche von<br />

mehr als fünf Quadratmetern aufzubringen.<br />

Bei solchen Prozessen spielen verschiedene<br />

hochreine Gase an ganz unterschiedlichen Stellen eine wichtige<br />

Rolle – beispielsweise Argon: Mit diesem Edelgas beschießt man<br />

die Materialien, aus denen die verschiedenen Komponenten eines<br />

Transistors bestehen – und verdampft sie. Anschließend werden<br />

die Substanzen auf der Rückseite der Glasplatte wieder abgeschieden.<br />

So bilden sich unter anderem die metallischen und halbleitenden<br />

Schichten, Isolatorfilme und Schutzschichten. Anschließend<br />

ätzt man das Material teilweise wieder weg, um zum Beispiel Leiterbahnen<br />

gezielt auf der Glasplatte herauszuarbeiten. Für diese Schritte<br />

benötigen die Hersteller wieder andere Gase. „Insgesamt werden bis zu<br />

zehn unterschiedliche Gase verwendet“, erklärt<br />

Weisheit. „Phosphin benötigt man beispielsweise<br />

zum Dotieren des Halbleiters – oder Stickstoff, um<br />

die Abgase zu verdünnen. Helium dient zur Kühlung<br />

der Glasplatte und fluorhaltige Gase zum Ätzen“,<br />

so der <strong>Linde</strong>-Experte. So wächst nach und nach<br />

der Transistor in seiner endgültigen Form heran:<br />

ein hochpräzises, elektronisches Bauelement aus<br />

sechs bis sieben hauchdünnen und speziell geformten Schichten.<br />

Die neuen, leistungsfähigeren Metalloxid-Transistoren erhalten<br />

eine Isolatorschicht aus Siliziumdioxid zum Schutz vor Feuchtigkeit.<br />

Um diese Verbindung herzustellen, benötigt man Distickstoffmonoxid<br />

(N₂O), auch Lachgas genannt. „Ohne eine sichere Versorgung<br />

Bann für Klimagase<br />

Es ist das stärkste Treibhausgas überhaupt: Schwefelhexafluorid<br />

(SF 6 ). Die langlebige Verbindung übertrifft<br />

die Wirkung von Kohlendioxid um den Faktor 23.900.<br />

Bei der Bildschirmherstellung kommt SF 6 seit Langem<br />

als Ätzgas zum Einsatz. Und dabei können kleine Mengen<br />

in die Umwelt entweichen. „Der Druck auf die Hersteller,<br />

die Substanz zu ersetzen, ist enorm“, sagt Andreas<br />

Weisheit, Leiter Marktentwicklung Flachbildschirme &<br />

Solar bei <strong>Linde</strong> in Schanghai. Auch in Asien werden<br />

Umweltfragen immer wichtiger. <strong>Linde</strong> hat zusammen<br />

mit einem koreanischen Anlagenbauer nach einem<br />

klimafreundlichen Ersatz gesucht – mit Erfolg: Reines<br />

Fluor-Gas (F₂) ist für das Ätzen von Transistor-Schichten<br />

sogar noch besser geeignet. Es löst das überschüssige<br />

Material schneller und gleichmäßiger, die Behandlung<br />

der entstehenden Abgase ist einfacher und der<br />

Stromverbrauch in der Produktion sinkt. Der Verband<br />

der koreanischen Display-Hersteller hat das <strong>Linde</strong>-<br />

Verfahren kürzlich offiziell anerkannt. <strong>Linde</strong> stellt kleine<br />

Anlagen – so genannte On-site-Generatoren – her, die<br />

F₂ vor Ort erzeugen. Einige Elektronikhersteller haben<br />

bereits Erfahrung mit diesen kleinen Fluor-Fabriken:<br />

Bereits 2003 entwickelte <strong>Linde</strong> ein Verfahren, um das<br />

Treibhausgas Stickstofftrifluorid (NF₃) ebenfalls<br />

durch F₂ zu ersetzen. Die Verbindung wird zur Reinigung<br />

der Reaktorkammern eingesetzt, in denen die Bildschirme<br />

bedampft werden.<br />

Verdampfen, abscheiden,<br />

wegätzen:<br />

Bis zu zehn verschiedene<br />

hochreine<br />

Gase werden gezielt<br />

eingesetzt (rechts), um<br />

feine Leiterbahnen auf<br />

die Transistoren zu<br />

bringen. Nur so lassen<br />

sich brillante Farben<br />

auf die flachen Bildschirme<br />

zaubern (unten).

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