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34 Kapitel 4 Schichtwachstum und Charakterisierung3 5 03 0 02 5 0I (c p s )2 0 01 5 0F W H M : 0 . 9 5 °1 0 05 001 6 .0 1 6 .5 1 7 .0 1 7 .5 1 8 .0 1 8 .5 ( ° )Abbildung 4.3: Rockingkurve des (0002)-Reflexes von ZnO.1 2 01 0 08 0I (c p s )6 04 0F W H M : 0 . 0 6 °2 001 7 .5 1 8 .0 1 8 .5 1 9 .0 1 9 .5 ( ° )Abbildung 4.4: Rockingkurve des (111)-Reflexes von TiN.
4.2 Charakterisierung der Schichtsysteme 354.2.2 RöntgenreflektometrieUm Informationen über die Schichtdicke zu erhalten, wurde für jede Probe eine Reflektometriemessungdurchgeführt. Die Schichtdicke ist besonders für die anschließendeStrukturierung und die Auswertung der SQUID-Daten von Bedeutung. In Abbildung4.5 ist eine der aufgenommen Kurven dargestellt.Mit Hilfe der Software Leptos (Bruker AXS) konnte die gemessene Kurve angefittetund ausgewertet werden. Der für den Fit wichtigste Parameter war dabei die Schichtdicke.Aufgrund der Vielzahl der gewachsenen Lagen und die damit verbundenenParameter ist es schwierig, die Messdaten anzufitten. Deshalb war es von Vorteil, bereitsvorher in etwa die entsprechenden Dicken zu kennen, um den Parameterbereicheingrenzen zu können. Besonders für die unteren Schichten, wie z.B. TiN, ist die Reflektometriewenig aussagekräftig, da sie von den oberen Schichten dominiert wird. InTabelle 4.5 sind die Schichtdicken für den in Abbildung 4.5 erhaltenen Messgraphendargestellt.1 0 0 M e s s k u r v eF i t k u r v e1 0 -11 0 -2I (c p s )1 0 -31 0 -41 0 -50 1 2 3 4 52 ( ° )Abbildung 4.5: Reflektometrie eines Schichtsystems aus TiN/Co/ZnO(20 nm)/Ni/Au.Die gemessene Kurve ist in schwarz und die gefittete Kurve ist in Rotdargestellt.
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