DPMA - Jahresbericht 2006
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Gebrauchsmuster und Topografien<br />
Stichwort: Gebrauchsmuster<br />
Als Gebrauchsmuster können alle technischen Erfindungen mit Ausnahme von Verfahren und biotechnologischen<br />
Erfindungen geschützt werden, die neu sind, auf einem erfinderischen Schritt beruhen und gewerblich<br />
anwendbar sind. Das Gebrauchsmuster ist dem Patent ähnlich und wird daher häufig als „kleines“ Patent bezeichnet.<br />
Ein wesentlicher Unterschied zum Patent besteht darin, dass im Gebrauchsmustereintragungsverfahren<br />
eine angemeldete Erfindung nicht auf Neuheit und Erfindungshöhe geprüft wird. Die Beständigkeit des Gebrauchsmusters<br />
zeigt sich also in der Regel erst in einem Löschungsverfahren. Die maximal mögliche Schutzdauer<br />
eines Gebrauchsmusters beträgt 0 Jahre, während bei Patenten eine Schutzdauer von 20 Jahren möglich ist.<br />
Im Jahr <strong>2006</strong> wurden 9 66 Gebrauchsmusteranmeldungen<br />
beim<br />
Deutschen Patent- und Markenamt<br />
eingereicht (200 : 20 ). Insgesamt<br />
wurden im Jahr <strong>2006</strong> 6 6<br />
Gebrauchsmuster in das Register<br />
eingetragen.<br />
Ein Anmelder kann ein Gebrauchsmuster<br />
auch aus einer Patentanmeldung,<br />
die die gleiche Erfindung betrifft,<br />
abzweigen. Die Abzweigung<br />
führt dazu, dass dem Gebrauchsmuster<br />
rückwirkend der zeitlich<br />
früher liegende Anmeldetag der<br />
Patentanmeldung zuerkannt wird.<br />
Von dieser Möglichkeit wurde im<br />
Jahr <strong>2006</strong> in 9 Fällen Gebrauch<br />
gemacht.Eine Gebrauchsmusterabzweigung<br />
kann sich empfehlen,<br />
wenn ein Anmelder bereits während<br />
eines Patentprüfungsverfah-<br />
Stichwort: Topografie<br />
<strong>DPMA</strong> – <strong>Jahresbericht</strong> <strong>2006</strong><br />
rens vollen Schutz für seine Erfindung<br />
anstrebt.<br />
% der Gebrauchsmusteranmeldungen<br />
wurden aus dem Ausland<br />
eingereicht. Eine Vielzahl von<br />
Anmeldungen kommt hierbei aus<br />
Ländern, die das Gebrauchsmuster<br />
als nationale Schutzrechtsform nicht<br />
kennen. Das deutsche Gebrauchsmustersystem<br />
wird als Alternative<br />
oder Ergänzung zum Patentschutz<br />
daher gerne genutzt.<br />
Am Jahresende <strong>2006</strong> waren insgesamt<br />
0 deutsche Gebrauchsmuster<br />
in Kraft, wobei zu eingetragenen<br />
Gebrauchsmustern insgesamt<br />
2 0 Löschungsanträge (200 : 226)<br />
gestellt wurden. Zum Jahresende<br />
waren beim Deutschen Patent- und<br />
Markenamt noch 9 Löschungs-<br />
verfahren anhängig.<br />
Von der Möglichkeit, zu einer<br />
Gebrauchsmusteranmeldung oder<br />
zu einem eingetragenen Gebrauchsmuster<br />
einen Antrag auf eine<br />
Recherche durch einen Patentprüfer<br />
zu stellen, wurde auch im Jahr <strong>2006</strong><br />
rege Gebrauch gemacht. Insgesamt<br />
wurden 2 9 2 Rechercheanträge<br />
zu Anmeldungen und Rechercheanträge<br />
zu eingetragenen<br />
Gebrauchsmustern gestellt (200 :<br />
0 beziehungsweise ). Die<br />
Gebrauchsmusterstelle hat im Jahr<br />
<strong>2006</strong> insgesamt 66 Rechercheberichte<br />
versandt (200 : 29 ).<br />
Mit einem Topografieschutzrecht kann die dreidimensionale Struktur eines mikroelektronischen Halbleitererzeugnisses,<br />
beispielsweise die eines Speicherchips oder Prozessors, geschützt werden.<br />
Im Jahr <strong>2006</strong> sind beim Deutschen Patent- und Markenamt zwei Topografieanmeldungen eingegangen (200 :<br />
sechs).