MEMOIRE MAGISTER - Université Ferhat Abbas de Sétif
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Chapitre II : Métho<strong>de</strong>s d’élaboration <strong>de</strong> ZnO:Al<br />
Fig.2.13. Dépôt <strong>de</strong> couches minces par trempage–tirage [48].<br />
‣ centrifugation ou spin-coating :<br />
Cette métho<strong>de</strong> consiste à déposer par centrifugation une solution déposée en excès sur<br />
un substrat. Cette technique a l’avantage d’être facilement mise en œuvre, pour <strong>de</strong>s<br />
investissements modérés. Elle donne d’excellents résultats sur les substrats plans dont les<br />
dimensions sont <strong>de</strong> l’ordre du cm 2 . Cette métho<strong>de</strong> <strong>de</strong> dépôt peut être décomposée en quatre<br />
phases, schématisées sur la figure (2.14) :<br />
1) le dépôt <strong>de</strong> la solution ;<br />
2) le début <strong>de</strong> la rotation : la phase d’accélération provoque l’écoulement du liqui<strong>de</strong> vers<br />
l’extérieur <strong>de</strong> substrat ;<br />
3) la rotation à vitesse constante permet l’éjection <strong>de</strong> l’excès <strong>de</strong> liqui<strong>de</strong> sous forme <strong>de</strong><br />
gouttelettes et la diminution <strong>de</strong> l’épaisseur du film <strong>de</strong> façon uniforme ;<br />
4) l’évaporation <strong>de</strong>s solvants les plus volatils qui accentue la diminution <strong>de</strong> l’épaisseur du<br />
film déposé [65].<br />
Fig.2.14. Les quatre étapes du dépôt par centrifugation [65].<br />
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