MEMOIRE MAGISTER - Université Ferhat Abbas de Sétif

II.2.1.2. Dépôt par pulvérisation cathodique ............................................................... 19
II.2.1.2.1. Pulvérisation cathodique classique ...................................................... 19
II.2.1.2.2. Dépôts par pulvérisation cathodique magnétron .................................. 20
II.2.1.2.3. Dépôts par pulvérisation cathodique à canon à électrons .................... 20
II.2.1.3. Pulvérisation ionique ...................................................................................... 21
II.2.1.4. Ablation laser (PLD: Pulsed Laser Deposition) ............................................. 22
II.2.1.4.1. Ablation laser directe ........................................................................... 22
II.2.1.4.2. Le dépôt par ablation laser réactive ..................................................... 23
II.2.1.5. Epitaxie par jet moléculaire (MBE) ............................................................... 23
II.2.2. Méthode chimique ...................................................................................................... 24
II.2.2.1. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ....................................................... 24
II.2.2.2. Spray pyrolyse ................................................................................................ 25
II.2.2.3. Méthode colloïdale ......................................................................................... 26
II.2.2.4. Méthode sol-gel .............................................................................................. 26
II.2.2.4.1. Introduction .......................................................................................... 26
II.2.2.4.2. Description ........................................................................................... 27
II.2.2.4.3. Réactions chimiques dans le procédé sol-gel ....................................... 28
II.2.2.4.4. Gélification et structure du gel ............................................................. 29
II.2.2.4.5. Vieillissement du gel ............................................................................ 29
II.2.2.4.6. Séchage du gel ..................................................................................... 30
II.2.2.4.7.Les différentes méthodes de dépôt de couches minces par sol gel ....... 31
II.2.2.4.8. Les avantages et les inconvénients du procédé sol gel ........................ 33
Chapitre III : Elaboration des échantillons et Techniques de caractérisation
utilisées
III.1. Elaboration des couches minces de ZnO et de ZnO:Al par le procédé sol-gel ................... 34
III.1.1.Introduction ................................................................................................................ 34
III.1.2. Procédure d’élaboration du ZnO:Al .......................................................................... 34
III.1.2.1. Préparation des solutions .............................................................................. 34
III.1.2.2. Nettoyage des substrats ................................................................................. 35
III.1.2.3. Dépôt des couches minces ............................................................................ 36
III.1.2.4. Séchage des couches minces ........................................................................ 37