NSC95-EPA-Z-033-002

表 2-3 半 導 體 製 程 中 使 用 之 PFCs 氣 體 種 類 及 其 流 量EtchPROCESS PFC GASES USED QUANTITYMetal CF 4 , CHF 3 < 10 sccm (usually)Polysilicon SF 6 , NF 3< 50 sccm (usually)OxideCVDCHF 3 , NF 3C 2 F 6 , CF 4C 4 F 8 , C 3 F 8total < 100 sccmSilicon C 2 F 6 , CF 4 up to 2500 sccmSilicon Oxide C 3 F 8 up to 2500 sccmSilicon Nitride NF 3 up to 2500 sccmTungsten C 2 F 6 , NF 3 up to 2000 sccm7