2-3-2 製 程 最 佳 化 ( Process Optimization )製 程 最 佳 化 指 的 是 藉 由 調 配 不 同 氣 體 進 流 濃 度 或 流 量 、 系 統 壓 力 、 施 加 能 量 以 及硬 體 設 施 達 到 PFCs 排 放 減 量 之 目 的 。Seiko Epson 公 司 為 符 合 COP3 中 所 規 範 之 PFCs減 量 目 標 , 其 策 略 之 一 即 是 製 程 最 佳 化 ;Epson 測 試 不 同 製 程 ( PSIO、PSN、SIO、BPSG )後 藉 由 改 變 進 流 之 C 2 F 6 流 量 ( 200、400、600 sccm )、O 2 流 量 ( 400、700、1,000 sccm )、RF 電 極 間 距 ( 180、590、999 mm )、RF 提 供 能 量 ( 500、600、700 W ) 及 系 統 壓 力 ( 0、5、10 torr ) 等 參 數 下 進 行 CVD 清 洗 程 序 , 發 現 於 較 低 C 2 F 6 、O 2 流 量 以 及 較 高 之 RF 電極 間 距 、 提 供 能 量 下 將 有 助 於 提 高 PFCs 利 用 率 及 減 少 排 放 量 之 最 佳 化 效 果 ; 對 於 C 2 F 6之 使 用 量 可 減 少 2/3, 同 時 其 利 用 率 亦 由 原 本 之 20~25% 提 高 至 40~45%, 製 程 排 放 尾氣 之 PFCs 總 量 可 達 到 3/4 之 削 減 效 果 , 預 計 在 2010 年 可 達 成 WSC 中 所 協 議 之 排 放 削 減量 。 對 於 既 存 之 CVD 機 檯 , 當 製 程 最 佳 化 仍 無 法 達 到 PFCs 之 控 制 削 減 目 標 時 , 可 考慮 加 裝 其 他 附 屬 之 硬 體 設 備 以 改 善 其 製 程 中 PFCs 之 利 用 效 率 【24】。Applied Material公 司 推 出 一 套 稱 為 遠 端 清 洗 ( remote clean ) 之 硬 體 設 施 , 可 加 裝 於 原 有 之 CVD 機 檯 。為 了 瞭 解 實 用 性 ,Applied Material 將 此 套 系 統 應 用 於 Motorola 之 DxZ 機 檯 , 並 在 1999年 完 成 實 廠 測 試 之 評 估 , 宣 稱 可 達 到 99% 之 PFCs 減 量 效 果 ; 其 所 謂 Remote Clean 乃 是在 機 檯 前 設 置 一 微 波 電 漿 產 生 設 備 , 當 清 洗 機 檯 時 , 將 反 應 氣 體 如 NF 3 通 過 此 電 漿 區以 產 生 高 密 度 之 活 性 F 物 種 , 爾 後 將 此 高 活 性 F 物 種 經 過 一 噴 灑 頭 ( shower head ) 散 佈進 入 機 檯 中 , 完 成 機 檯 清 洗 之 工 作 , 由 於 進 行 清 洗 動 作 時 機 檯 內 並 不 啟 動 電 漿 , 純 粹藉 由 活 性 F 物 種 擴 散 進 入 清 洗 區 , 因 此 又 稱 為 軟 式 清 洗 ( soft clean ), 可 延 長 機 檯 之使 用 壽 命 。 雖 然 加 裝 Remote Clean 設 備 能 夠 達 到 良 好 之 PFCs 削 減 效 果 , 不 過 AppliedMaterial 也 提 出 : 每 一 機 檯 加 裝 此 Remote Clean 系 統 單 就 微 波 電 漿 設 備 部 分 即 需 花 費美 金 60,000 元 , 除 了 考 量 經 濟 效 益 , 此 套 系 統 是 否 亦 適 合 於 其 他 CVD 機 檯 , 並 無 從 得知 。 另 外 , 加 裝 附 屬 設 施 是 否 將 影 響 整 個 生 產 過 程 , 以 及 是 否 需 進 行 機 檯 之 調 校 , 皆有 待 進 一 步 確 認 。 另 外 亦 有 多 家 氣 體 公 司 也 積 極 協 助 半 導 體 廠 調 整 製 程 , 如 AirProducts 之 C 2 F 6 製 程 最 適 化 ,3M 公 司 之 C 3 F 8 取 代 CF 4 /C 2 F 6 計 畫 , 依 製 程 別 約 可 減 少 30%~70% 之 MMTCE 排 放 【25】。11
2-3-3 回 收 再 利 用 ( Recovery and Recycle )回 收 再 利 用 技 術 主 要 是 將 製 程 尾 氣 先 用 薄 膜 濾 除 微 粒 , 再 以 吸 收 粒 / 劑 吸 除 酸 性副 產 物 , 最 後 將 剩 下 的 尾 氣 ( 主 要 為 CF 4 、C 2 F 6 、N 2 ) 收 集 起 來 加 以 處 理 ; 或 經 線 上 直接 處 理 後 , 送 回 製 程 反 應 器 。 分 離 CF 4 /N 2 或 CF 4 /C 2 F 6 /N 2 的 技 術 主 要 為 薄 膜 分 離 法 , 但因 CF 4 的 電 漿 反 應 會 產 生 CHF 3 和 C 2 F 6 , 而 C 2 F 6 的 電 漿 反 應 也 會 產 生 CF 4 、CHF 3 等 , 因此 , 造 成 分 離 設 備 體 積 較 大 , 且 所 得 氣 體 濃 度 尚 無 法 滿 足 製 程 要 求 , 需 再 予 以 濃 縮 。Praxair 公 司 曾 展 示 一 回 收 PFCs 氣 體 之 模 廠 ( pilot scale ), 收 集 20 個 以 上 之 反 應 機檯 製 程 尾 氣 , 其 處 理 流 程 可 見 圖 2-1 所 示 ; 製 程 尾 氣 經 過 去 除 酸 性 物 質 以 及 粒 狀 物 後 ,隨 即 導 入 稱 為 冷 凝 槽 ( cold box ) 之 設 備 , 利 用 低 溫 之 液 態 氮 , 依 各 種 PFCs 氣 體 之 冷 凝溫 度 不 同 , 而 將 PFCs 氣 體 分 離 進 而 回 收 再 利 用 。 此 套 設 備 運 轉 可 處 理 之 最 大 流 量 為85 scfm, 操 作 同 時 需 提 供 每 天 1,000 加 侖 之 液 態 氮 、 用 水 量 每 分 鐘 2 加 侖 Wet Scrubber中 用 來 中 和 酸 性 物 質 之 鹼 劑 NaOH( 一 週 2 加 侖 )、 以 及 維 持 運 作 之 電 能 124 kW, 由 此 亦可 看 出 回 收 法 於 操 作 上 所 付 出 之 成 本 實 屬 高 昂 【26】。圖 2-1PFCs 於 低 溫 下 之 回 收 處 理 流 程由 於 在 CVD 機 檯 清 洗 或 蝕 刻 中 , 對 於 PFCs 氣 體 之 純 度 要 求 都 相 當 嚴 格 , 因 此 必須 保 證 回 收 氣 體 可 以 達 到 製 程 中 之 要 求 , 加 上 製 程 尾 氣 複 雜 , 使 得 此 法 應 用 上 更 為 困難 。 另 一 方 面 , 回 收 法 在 操 作 成 本 仍 較 削 減 破 壞 法 為 高 , 且 尚 需 克 服 廠 商 對 回 收 製 程氣 體 是 否 影 響 產 品 品 質 的 疑 慮 , 諸 多 限 制 下 , 使 得 目 前 半 導 體 廠 採 用 回 收 法 之 情 形 並不 普 遍 。12